顯示裝置及其制造方法

顯示裝置及其制造方法
【專利摘要】提供了一種顯示裝置及其制造方法。該顯示裝置包括：第一基板，包括具有多個像素的顯示區域和在顯示區域周圍的外圍區域；薄膜晶體管，位于第一基板上；像素電極層，位于薄膜晶體管上并且包括位于顯示區域中的多于一個的像素電極；像素限定層，位于像素電極層上并且包括與電壓傳輸電極疊置的外圍部分。外圍部分包括間隔件和傾斜部分，傾斜部分連接到間隔件并且位于間隔件的第一側，傾斜部分具有凹的傾斜表面。
【專利說明】顯示裝置及其制造方法
[0001 ] 本申請要求于2015年3月10日提交的第10-2015-0033310號韓國專利申請的優先權和所有權益，通過引用將該韓國專利申請的全部內容包含于此。
技術領域
[0002]本公開涉及一種顯示裝置及其制造方法。
【背景技術】
[0003]諸如以液晶顯示器(IXD)、有機發光二極管(OLED)顯示器和電泳顯示器為例的顯示裝置包括場發生電極和電光活性層。例如，LCD裝置包括作為電光活性層的液晶層。場發生電極連接到諸如薄膜晶體管的開關元件以接收數據信號，電光活性層將數據信號轉換成光學信號以顯示圖像。
[0004]在顯示裝置之中，因為作為自發光類型的有機發光二極管(OLED)顯示器不需要單獨的光源，所以它在功耗方面是有優勢的，并且它的響應速度、視角和對比度是卓越的。
[0005]有機發光二極管(OLED)顯示器包括諸如紅色像素、藍色像素、綠色像素和白色像素的多個像素，并且可以通過組合像素表達全色。每個像素包括有機發光元件和用于驅動有機發光元件的多個薄膜晶體管。
[0006]有機發光二極管(OLED)顯示器的發光元件包括像素電極、對電極和位于這兩個電極之間的發光層。像素電極和對電極中的一個被稱為陽極，而另一個電極被稱為陰極。從陰極注入的電子和從陽極注入的空穴在發光層中相互結合以形成激子，激子在釋放能量的同時發光。對電極貫穿多個像素來形成以傳遞預定的共電壓。
[0007]在顯示裝置中，當諸如水分或氧的雜質從周圍環境流到顯示裝置中時，發生電極的氧化和剝離等，結果，使裝置的壽命縮短或發光效率會劣化，并且會發生諸如發光顏色的變形的問題。
[0008]因此，在制造顯示裝置時，執行密封使得內部元件與外界分離開以防止諸如水分的雜質滲透。在有機發光二極管(OLED)顯示器的情況下，就這樣的密封方法而言通常可以是:將包括諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)的有機聚合物的層層壓在完成的下基板上的方法、在包封基板上形成蓋或帽并且用密封劑密封下基板和包封基板的蓋的邊緣的方法或類似方法。
[0009]在此【背景技術】部分中公開的上述信息僅用于增強對【背景技術】的理解，因此它可以包含不構成對于本領域的普通技術人員而言在本國已知的現有技術的信息。

【發明內容】

[0010]—種根據實施例的顯示裝置包括:第一基板，包括顯示區域和外圍區域，顯示區域包括多個像素，外圍區域位于顯示區域周圍；薄膜晶體管，位于第一基板上;像素電極層，位于薄膜晶體管上，并且包括位于顯示區域中的多個像素電極和位于外圍區域中的電壓傳輸電極;像素限定層，位于像素電極層上并且包括與電壓傳輸電極疊置的外圍部分，其中，夕卜圍部分包括間隔件和連接到間隔件并且位于間隔件的第一側的傾斜部分，其中，傾斜部分具有凹的傾斜表面。
[0011]外圍部分還可以包括連接到間隔件并且位于間隔件的與第一側相對的第二側的主體部分。
[0012]還可以包括面對第一基板的第二基板和形成在第一基板與第二基板之間并且位于外圍區域中的密封劑，主體部分可以位于面對密封劑的一側。
[0013]間隔件的頂表面的相對于第一基板的高度可以比主體部分和傾斜部分的頂表面的高度高。
[0014]傾斜部分的厚度可以比主體部分的厚度小。
[0015]主體部分的底表面的高度可以比傾斜部分的底表面的高度低。
[0016]還可以包括位于外圍區域中并且傳輸共電壓的電壓傳輸線以及位于薄膜晶體管與像素電極層之間的鈍化層，其中，鈍化層可以包括暴露電壓傳輸線的邊緣側表面，電壓傳輸電極可以包括覆蓋鈍化層的邊緣側表面的第一部分和連接到電壓傳輸線的第二部分。
[0017]間隔件可以包括覆蓋鈍化層的邊緣側表面的至少一部分。
[0018]外圍部分可以覆蓋電壓傳輸電極的邊緣。
[0019]間隔件的處于第一側的邊緣可以具有凹凸形狀并且包括交替地布置的凹部和凸部。
[0020]傾斜部分可以包括在平面圖中位于凹部中的多個部分，包括在傾斜部分中的多個部分均可以具有凹的傾斜表面。
[0021]電壓傳輸電極可以包括多個孔，傾斜部分的所述多個部分均可以各自與每個孔疊置。
[0022]所述多個孔之中的同與傾斜部分疊置的第一孔相鄰的孔可以設置成與第一孔對齊。
[0023]所述多個孔之中的同與傾斜部分疊置的第一孔相鄰的孔可以設置成從第一孔偏移。
[0024]間隔件的處于第一側的具有凹凸形狀的邊緣可以包括具有相互不同的長度的第一凸狀部分和第二凸狀部分。
[0025]間隔件和傾斜部分可以沿第一基板的邊緣側延長。
[0026]一種根據實施例的制造顯示裝置的方法包括:在包括顯示區域和在顯示區域周圍的外圍區域的第一基板上形成薄膜晶體管;在薄膜晶體管上形成包括位于顯示區域中的多個像素電極和位于薄膜晶體管上的外圍區域中的電壓傳輸電極的像素電極層;在像素電極層上涂覆感光材料以形成涂覆層;通過利用包括光透射部、光阻擋部和半透射部的光掩模對涂覆層進行曝光；對曝光后的涂覆層進行顯影;對顯影后的涂覆層進行硬化以形成包括與電壓傳輸電極疊置的外圍部分的像素限定層，其中，外圍部分包括間隔件和連接到間隔件并且位于間隔件的第一側的傾斜部分，其中，傾斜部分具有凹的傾斜表面。
[0027]外圍部分還可以包括連接到間隔件且位于間隔件的與第一側相對的第二側的主體部分。
[0028]與主體部分對應的涂覆層的厚度可以比與傾斜部分對應的涂覆層的厚度厚。
[0029]根據實施例，當對包括密封劑的顯示裝置施加沖擊時，沖擊波被有效地分散，使得可以防止沖擊波被傳輸到密封劑，從而增大了顯示裝置的強度。
[0030]可以增大包封區的粘合可靠性而沒有包括密封劑的顯示裝置的電極的故障。
[0031]可以提供一種具有高強度同時具有窄邊框的顯示裝置。
【附圖說明】
[0032]圖1是根據實施例的顯示裝置的布局圖；
[0033]圖2是根據實施例的顯示裝置的一個像素的剖視圖；
[0034]圖3是根據實施例的顯示裝置的外圍區域的布局圖；
[0035]圖4是作為圖3中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖；
[0036]圖5是沿線V-V截取的圖4的顯示裝置的剖視圖；
[0037]圖6是沿線V1-VI截取的圖4的顯示裝置的剖視圖；
[0038]圖7是示出根據實施例的顯示裝置的外圍區域的平面形狀的照片；
[0039]圖8是示出當沖擊作用于根據實施例的顯示裝置時在外圍區域中防止沖擊波的現象的圖；
[0040]圖9是根據實施例的顯示裝置的外圍區域的布局圖；
[0041]圖10是作為圖9中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖；
[0042]圖11是沿線X1-XI截取的圖10的顯示裝置的剖視圖；
[0043]圖12、圖13和圖14分別是根據另一個示例性實施例的作為圖3中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖；
[0044]圖15、圖16、圖17、圖18、圖19和圖20是示出根據實施例的位于顯示裝置的外圍區域中的像素限定層的外圍部分的平面形狀的頂部平面圖；
[0045]圖21是示出根據實施例的顯示裝置的外圍區域的一部分的布置的照片；
[0046]圖22是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的一道工藝中用于像素限定層的涂覆層和光掩模的剖視圖；
[0047]圖23是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的工藝之中的在圖22中示出的工藝中的像素限定層的剖視圖；以及
[0048]圖24是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的工藝之中的在圖23中示出的工藝中的像素限定層的剖視圖。
【具體實施方式】
[0049]以下將參照示出了本發明的某些實施例的附圖更充分地描述本公開。如本領域的技術人員將認識到的，在不脫離本發明的精神或范圍的情況下，可以以各種方式修改所描述的實施例。
[0050]在附圖中，為了清晰可見，可以夸大層、膜、面板、區域等的厚度。在整個說明書中，同樣的附圖標記通常指示同樣的元件。將理解的是，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱作“在”另一元件“上”時，該元件可以直接在所述另一元件上，或者也可以存在中間元件。相反，當元件被稱作“直接在”另一元件“上”時，不存在中間元件。
[0051]在整個本說明書和權利要求書中，當被描述為元件“結合”到另一元件時，該元件可以“直接結合”到所述另一元件或者通過第三元件“電結合”到所述另一元件。此外，除非明確描述為相反，否則詞語“包括”及其變型(例如，“具有”或“包含”)將被理解為暗指包括所陳述的元件，但不排除任何其他元件。
[0052]將參照圖1至圖8描述根據實施例的顯示裝置。
[0053]圖1是根據實施例的顯示裝置的布局圖，圖2是根據實施例的顯示裝置的一個像素的剖視圖，圖3是根據實施例的顯示裝置的外圍區域的布局圖，圖4是作為圖3中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖，圖5是沿線V-V截取的圖4的顯示裝置的剖視圖，圖6是沿線V1-VI截取的圖4的顯示裝置的剖視圖。
[0054]首先，參照圖1和圖3，當在平面圖中觀看時，根據實施例的顯示裝置的顯示面板I包括顯示圖像的區域的顯示區域DA和在顯示區域DA周圍的外圍區域PA。參照圖2，當從剖視圖看時，顯示裝置I包括彼此面對的下基板110和包封基板210。
[0055]下基板110包括顯示區域DA和在顯示區域DA周圍的外圍區域PAl，包封基板210包括顯示區域DA和在顯示區域DA周圍的外圍區域PA2。當在平面圖中看時，包封基板210的外圍區域PA2可以被包括在下基板110的外圍區域PAl中。顯示裝置I的外圍區域PA包括下基板110的外圍區域PAl和包封基板210的外圍區域PA2。
[0056]參照圖3，包封基板210的邊緣可以包括上側邊緣E1、面對上側邊緣EI的下側邊緣E2以及連接在上側邊緣EI和下側邊緣E2之間的右側邊緣E3和左側邊緣E4。如附圖中所示，上側邊緣E1、下側邊緣E2、右側邊緣E3或左側邊緣E4均可以基本上是直線，它們中的至少一個可以包括曲線部分。
[0057]顯示區域DA包括多條信號線和連接到信號線的多個像素PX。多個像素PX可以基本上以矩陣形式布置，然而它們不限于此。
[0058]信號線設置在下基板110上，并且包括傳遞掃描信號的多條柵極線或掃描信號線Gl至Gn和傳遞數據電壓的多條數據線Dl至Dm。柵極線Gl至Gn基本上沿行方向延伸并且幾乎相互平行，數據線Dl至Dm基本上沿列方向延伸并且幾乎相互平行。
[0059]參照圖1和圖2，位于顯示區域DA中的像素PX可以包括與柵極線Gl至Gn中的至少一條、數據線Dl至Dm中的至少一條和數據導線171連接的至少一個開關元件Qd，連接到開關元件Qd的至少一個像素電極191以及對電極270。在有機發光二極管(OLED)顯示器的情況下，發光層位于像素電極191與對電極270之間以形成發光元件。開關元件Qd可以包括至少一個薄膜晶體管。對電極270可以傳輸共電壓ELVSS。
[0060]為了實現顏色顯示，每個像素PX可以顯示原色中的一種，可以通過組合原色來識別期望的顏色。原色的示例可以包括諸如紅色、綠色和藍色等的三原色或四原色。每個像素PX還可以包括位于與每個像素電極對應的位置處且呈現原色中的一種顏色的濾色器，發光層可以是彩色發光層。
[0061]參照圖1，包封基板210可以暴露下基板110的外圍區域PAl的一部分，暴露部分被稱為襯墊部分(pad part)。在襯墊部分中，用于驅動發光器件的至少一個數據驅動器500可以以至少一個IC芯片的類型安裝。可選擇的，驅動器500可以以TCP(帶載封裝件)的類型安裝在將要附著到襯墊部分的柔性印刷電路(FPC)膜或印刷電路板上，或者可以與下基板110直接集成。從諸如顯示區域DA的數據線Dl至Dm的信號線延伸的端部可以位于襯墊部分中。數據驅動器500可以連接到數據線Dl至Dm的所述端部并且將數據信號傳輸到數據線Dl至Dm0
[0062]驅動發光器件的柵極驅動器400也可以位于下基板110的被包封基板210覆蓋的外圍區域PAl中。驅動器400可以以至少一個IC芯片的類型安裝在下基板110上，或者可以以TCP的類型安裝在將要附著到下基板110的柔性印刷電路(FPC)膜或印刷電路板上，或可以與下基板110集成。柵極驅動器400可以連接到柵極線Gl至Gn并且將柵極信號傳輸到柵極線Gl 至 Gn 0
[0063]現在，將參照圖1至圖6描述根據實施例的顯示裝置的詳細結構。
[0064]緩沖層111可以位于包括透明玻璃或塑料的下基板110的外圍區域PAl和顯示區域DA上。緩沖層111可以防止雜質滲透，它的表面可以是平坦的。緩沖層111可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(S1x)或氮氧化硅(S1xNy)等。在一些實施例中可以省略緩沖層111。
[0065]至少一個半導體層位于緩沖層111上。
[0066]半導體層包括位于顯示區域DA中的第一半導體154b。第一半導體154b可以包括溝道區152b與位于溝道區152b兩側且形成為被摻雜的源區153b和漏區155b。半導體層還可以包括位于下基板110的外圍區域PAl中的至少一個第二半導體150d(見圖5)。雖然未示出，但是第二半導體150d可以包括溝道區與位于溝道區兩側且形成為被摻雜的源區和漏區。
[0067]半導體層可以包括非晶硅、多晶硅或氧化物半導體。
[0068]包括氮化硅(SiNx)或氧化硅(S1x)的柵極絕緣層140位于半導體層上。
[0069]多個柵極導體位于柵極絕緣層140上。柵極導體包括位于顯示區域DA中的第一控制電極124b。第一控制電極124b可以與第一半導體154b的一部分(尤其是溝道區)疊置。柵極導體還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的至少一個第二控制電極120d(見圖5)。第二控制電極120d可以包括與第二半導體150d(尤其是第二半導體150d的溝道區)疊置的一部分。
[0070]柵極導體還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的熱傳輸層23(見圖5)。
[0071]第一鈍化層180a位于柵極絕緣層140和柵極導體上。第一鈍化層180a和柵極絕緣層140在顯示區域DA中可以包括暴露第一半導體154b的源區153b的接觸孔183b和暴露漏區155b的接觸孔185b。第一鈍化層180a和柵極絕緣層140在外圍區域PAl和PA2中可以包括分別暴露第二半導體150d的源區和漏區的接觸孔(未示出)。
[0072]多個數據導體位于第一鈍化層180a上。
[0073]數據導體可以包括多條數據導線171、驅動電壓線(未示出)和多個第一輸出電極175b。驅動電壓線傳輸驅動電壓ELVDD并且可以包括朝向第一控制電極124b延伸的多個第一輸入電極173b。第一輸出電極175b在第一半導體154b上面對第一輸入電極173b。第一輸入電極173b和第一輸出電極175b可以分別通過接觸孔183b和185b連接到第一半導體154b的源區153b和漏區155b。
[0074]數據導體還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的電壓傳輸線177(見圖5)。電壓傳輸線177傳輸共電壓ELVSS。
[0075]參照圖3，電壓傳輸線177可以包括主傳輸部分177a和連接到主傳輸部分177a的端部177b。主傳輸部分177a沿顯示區域DA的邊緣形成并且沿包封基板210的上側邊緣E1、右側邊緣E3和左側邊緣E4延伸。端部177b定位為靠近下側邊緣E2并且可以延伸到下基板110的襯墊部分。端部177b可以包括位于主傳輸部分177a的對應端部且在下側邊緣E2附近彼此分離的兩個部分，但不限于此。
[0076]數據導體還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的至少一個第二輸入/輸出電極170d(見圖5)。數據導體還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的測試信號線17te(見圖5)。在一些實施例中可以省略測試信號線17te。
[0077]第一控制電極124b、第一輸入電極173b和第一輸出電極175b沿第一半導體154b形成作為晶體管的開關元件Qd。開關元件Qd的結構不限于此，而是可以在各種實施例中改變。
[0078]第二控制電極120d、第二輸入/輸出電極170d和第二半導體150d可以一起形成至少一個晶體管411。晶體管411可以被包括在驅動器中以驅動發光器件。這個驅動器可以是將柵極信號輸出到柵極線Gl至Gn的柵極驅動器。
[0079]包括無機絕緣材料和/或有機絕緣材料的第二鈍化層180b位于數據導體上。第二鈍化層180b可以具有基本平坦的表面以提高將形成于其上的有機發光元件的發射效率。第二鈍化層180b在顯示區域DA中可以具有暴露第一輸出電極175b的接觸孔185c。
[0080]在外圍區域PAl中，第二鈍化層180b暴露電壓傳輸線177的至少一部分。參照圖5和圖6，第二鈍化層180b包括位于外圍區域PAl中的邊緣側表面186，邊緣側表面186可以包括位于電壓傳輸線177的頂表面中的底側。因此，第二鈍化層186b可以在外圍區域PAl中暴露電壓傳輸線177。
[0081]像素電極層位于第二鈍化層180b上。
[0082 ]像素電極層包括位于顯示區域DA的每個像素PX中的像素電極191。像素電極191通過第二鈍化層180b的接觸孔185c物理連接到且電連接到第一輸出電極175b。
[0083 ] 像素電極層還可以包括位于外圍區域PAl和PA2中的電壓傳輸電極197。參照圖5和圖6，電壓傳輸電極197包括覆蓋外圍區域PAl和PA2中的第二鈍化層180b的邊緣側表面186的一部分并且物理連接到且電連接到電壓傳輸線177，從而接收共電壓ELVSS。電壓傳輸電極197可以在覆蓋第二鈍化層180b的邊緣側表面186的部分上形成階梯。
[0084]參照圖3，電壓傳輸電極197可以沿顯示區域DA形成，例如，可以由包圍顯示區域DA的閉合線形成，但其不限于此。電壓傳輸電極197可以以如所示的均一的寬度延伸，然而它可以根據位置具有不同的寬度。當電壓傳輸電極197具有不均一的寬度時，具有不同寬度的部分可以交替地設置。
[0085]電壓傳輸電極197可以包括多個孔97。多個孔97形成在第二鈍化層180b上。作為示例，孔97可以以諸如矩陣形狀的預定類型布置，或不以此類型布置。當在后續工藝中施加熱時，孔97提供排出第二鈍化層180b中產生的氣體的出口，從而防止電壓傳輸電極197被氣體從第二鈍化層180b抬起。
[0086]像素電極層可以包括半透射導電材料或反射導電材料。
[0087]參照圖2，基板110上的層(例如，從緩沖層111到第二鈍化層180b的層)一起被稱為晶體管層TFL。
[0088]像素限定層360位于第二鈍化層180b和像素電極層上。
[0089]參照圖2、圖5和圖6，像素限定層360包括間隔件360F，間隔件360F具有相對于主體部分360H和下基板110比主體部分360H的頂表面高的頂表面。間隔件360F形成為比主體部分360H高，使得頂表面可以接觸包封基板210的表面。間隔件360F可以均勻地保持包封基板210與下基板110之間的分離距離。
[0090]位于顯示區域DA中的像素限定層360的主體部分360H具有暴露每個像素電極191的、限定每個像素PX的區域的多個孔365。像素限定層360的位于顯示區域DA中的間隔件360F連接到主體部分360H。在顯示區域DA中，間隔件360F可以位于相鄰的像素PX之間。
[0091]像素限定層360的位于外圍區域PAl和PA2中的主體部分360H包括多個部分，其中，每個部分覆蓋電壓傳輸電極197的對應孔97。主體部分360H的覆蓋孔97的部分基本上位于第二鈍化層180b的頂表面上。主體部分360H的均覆蓋對應孔97的部分可以彼此分離，使得主體部分360H的覆蓋孔97的每個部分可以具有島形。圖5描繪了設置這樣的島形主體部分360H的剖視圖，而圖6描繪了沒有設置這樣的島形的主體部分360H的剖視圖。
[0092]位于外圍區域PAl和PA2中的像素限定層360包括外圍部分360E。外圍部分360E可以覆蓋電壓傳輸電極197的邊緣，并且包括與電壓傳輸電極197疊置的部分。外圍部分360E位于第二鈍化層180b的邊緣側表面186上從而包括與邊緣側表面186疊置的部分。外圍部分360E可以包括與電壓傳輸線177的一部分的頂表面直接接觸的部分。外圍部分360E位于下面描述的密封劑310與靠近密封劑310設置的顯示區域DA之間。
[0093]詳細的說，參照圖4、圖5和圖6，外圍部分360E包括彼此連接的主體部分360H、間隔件360F和傾斜部分360N。間隔件360F位于主體部分360H與傾斜部分360N之間。
[0094]外圍部分360E的主體部分360H位于電壓傳輸電極197上，并且覆蓋電壓傳輸電極197的邊緣以使電壓傳輸電極197不被暴露于外部。外圍部分360E的主體部分360H可以沿電壓傳輸電極197的邊緣延長。此外，在外圍部分360E中，主體部分360H可以包括與包封基板210的上側邊緣E1、右側邊緣E3和左側邊緣E4中的至少一個平行地延伸的部分。在外圍部分360E中，主體部分360H可以包括與電壓傳輸線177的頂表面接觸的部分。外圍部分360E的主體部分360H可以位于與下面描述的密封劑310相對的一側。
[0095]外圍部分360E的間隔件360F連接到主體部分360H并且可以具有比主體部分的高度高的高度。在外圍部分360E中，間隔件360F的頂表面的至少一部分可以與包封基板210的下表面直接接觸。外圍部分360E的間隔件360F的厚度可以比主體部分360H的厚度厚。在外圍部分360E中，間隔件360F位于第二鈍化層180b的邊緣側表面186上并且可以包括與邊緣側表面186疊置的部分，然而，其不限于此。
[0096]參照圖4，在外圍部分360E的間隔件360F的邊緣之中不與主體部分360H接觸的邊緣可以具有凸起和凹陷形狀、鋸齒形狀或之字形狀等。間隔件360F的具有凸起和凹陷形狀的邊緣可以包括交替地布置的凹狀部分(凹陷)36D和凸狀部分(凸起)36P。間隔件360F的凸起和凹陷形狀的邊緣的凹狀部分36D和凸狀部分36P的形狀可以是諸如圓形形狀或橢圓形形狀的環形形狀，然而，其不限于此，例如，它可以是諸如三角形或四邊形的各種形狀。此夕卜，在外圍部分360E中，間隔件360F的凸起和凹陷形狀的邊緣的凹狀部分36D和凸狀部分36P的形狀可以沿間隔件360F的延伸方向是均勻的，或者相互不同的形狀可以規律地布置。
[0097]傾斜部分360N連接到外圍部分360E的間隔件360F。傾斜部分360N的最頂表面的高度低于間隔件360F的最頂表面的高度，傾斜部分360N的厚度可以小于間隔件360F的厚度。此外，在外圍部分360E中，相對于間隔件360F位于外側的主體部分360H的厚度可以比相對于間隔件360F鄰近顯示區域DA定位的傾斜部分360N的厚度厚。外圍部分360E的主體部分360H位于相對于第二鈍化層180b的邊緣側表面186不具有第二鈍化層180b的區域上，外圍部分360E的傾斜部分360N可以位于相對于第二鈍化層180b的邊緣側表面186存在第二鈍化層180b的區域上。因此，外圍部分360E的主體部分360H的底表面的高度可以比傾斜部分360N的底表面的高度低。
[0098]作為傾斜部分360N的頂表面的傾斜表面36S可以是朝向顯示區域DA的傾斜表面。
[0099]傾斜部分360N的傾斜表面36S相對于下基板110的一個高度可以距離連接到間隔件360F的部分越遠而越低。參照圖4，傾斜部分360N的傾斜表面36S可以較低以靠近于相鄰的間隔件360F的凹狀部分36D和凸狀部分36P。
[0100]尤其是，傾斜部分360N的傾斜表面36S可以形成凹的傾斜表面。如圖5中所示，在顯示裝置的剖視圖中，離連接到間隔件360F的部分越遠，與傾斜部分360N的傾斜表面36S接觸的假想切線的斜率可以具有減小的絕對值。傾斜部分360N的傾斜表面36S可以形成凹表面。傾斜部分360N的傾斜表面36S可以具有與沙丘的凹傾斜表面相似的形狀。
[0101]如圖4至圖6所示，在平面圖中，傾斜部分360N可以被間隔件360F的凸狀部分36P劃分成多個部分。圖5描繪設置了傾斜部分360N的剖視圖，圖6描繪沒有設置傾斜部分360N的剖視圖。在平面圖中，傾斜部分360N的每個部分可以位于與間隔件360F對應的凹狀部分36D中。傾斜部分360N的每個傾斜表面36S可以具有凹的傾斜表面。傾斜部分360N的每個部分的傾斜面36S的高度可以基本上朝向不與間隔件360F相鄰的外邊緣36N的中心CT而減小。
[0102]圖6示出沒有設置傾斜部分360N的剖視圖。參照圖6，間隔件360F的與鄰近的傾斜部分360N之間的部分對應的右側側表面可以具有與傾斜部分360N的傾斜表面36S不同的形狀，但是可以具有與間隔件360F的左側側表面相似的形狀或具有與間隔件360F的左側側表面相似或相同的傾斜程度。然而，實施例不限于此，間隔件360F的與鄰近的傾斜部分360N之間的部分對應的右側側表面可以具有與間隔件360F的左側側表面不同的形狀。據此，間隔件360F的右側側表面的傾斜程度可以比間隔件360F的左側側表面更緩慢地變化，間隔件360F的右側側表面可以具有與傾斜部分360N的傾斜表面36S比較類似的形狀。即，根據實施例的傾斜部分360N可以沿間隔件360F的右側連續地形成，而不是以多個分離的部分形成。在這種情況下，連續的傾斜部分360N的傾斜表面的形狀或傾斜程度可以沿間隔件360F的右側周期性地變化。
[0103]傾斜部分360N的被凸狀部分36P劃分的每個部分與間隔件360F相鄰所處的邊緣側的形狀可以取決于間隔件360F的凹狀部分36D的形狀。當凹狀部分36D的形狀是曲線時，傾斜部分360N的每個部分與間隔件360F相鄰所處的邊緣側的形狀可以由曲線形成。在這種情況下，作為示例，傾斜部分360N的每個部分可以由諸如拋物線形沙丘的形狀形成。
[0104]圖7是示出與圖4對應的顯示裝置的平面形狀的照片。參照圖7，如上面描述的，對于傾斜部分360N，在下基板110之上的傾斜表面36S的高度朝向傾斜部分360N的外邊緣36N(如箭頭AR所示)而降低。此外，圖7示出傾斜部分360N的每個部分與間隔件360F相鄰所處的邊緣側的形狀形成諸如圓的曲線的示例。
[0105]返回參照圖4，傾斜部分360N的不與到外圍部分360E的間隔件360F連接的外邊緣36N可以與間隔件360F的凸狀部分36P的外側近似對齊，然而，它不限于此，而是它可以偏移。
[0106]如圖4和圖7所示，傾斜部分360N可以與電壓傳輸電極197的多個孔97的部分疊置。詳細的說，傾斜部分360N可以與電壓傳輸電極197的多個孔97之中的最接近電壓傳輸線177設置的一列孔97對應地設置。當傾斜部分360N被間隔件360F的凸狀部分36P劃分成多個部分時，傾斜部分360N的每個部分可以與如上面描述的電壓傳輸電極197的一個孔97或者兩個或更多個孔97對應地設置。
[0107]像素限定層360可以包括諸如聚丙烯酸酯樹脂或聚酰亞胺系列的感光材料。
[0108]在顯示區域DA中，發射構件370位于像素限定層360和像素電極191上。參照圖2，發射構件370可以包括順序層疊的第一有機公共層371、多個發射層373和第二有機公共層375。
[0109]第一有機公共層371可以包括空穴注入層(HIL)和空穴傳輸層(HTL)中的至少一個。第一有機公共層371可以形成在設置有像素PX的整個顯示區域之上，或者可以僅形成在每個像素PX區域中。
[0110]發射層373可以位于每個對應的像素PX的像素電極191上。發射層373可以包括唯一地發射諸如紅色、綠色和藍色的原色的光的有機材料，并且可以具有發射不同顏色的光的多個有機材料層層疊的結構。根據實施例，發射層373可以包括呈現白色的白色發射層。
[0111]第二有機公共層375可以包括例如電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)中的至少一個。
[0112]在一些實施例中可以省略第一有機公共層371和第二有機公共層375中的至少一個。
[0113]傳輸共電壓ELVSS的對電極270設置在發射構件370上。對電極270如圖5和圖6所示主要位于顯示區域DA中并延伸到外圍區域PAl和PA2，并且通過像素限定層360的主體部分360H的接觸孔366物理地連接到且電連接到電壓傳輸電極197，從而接收共電壓ELVSS。
[0114]對電極270可以包括透明導電材料。例如，當對電極270包括諸如以Ca、Ba、Mg、Al和Ag為例的金屬時，金屬層可以薄薄地形成以具有透光功能。
[0115]每個像素PX的像素電極191、發射構件370和對電極270形成發光二極管，像素電極191和對電極270中的一個作為陰極，而另外一個作為陽極。
[0116]面對下基板110的包封基板210位于對電極270上。
[0117]包封基板210可以通過對發射構件370和對電極270進行包封來防止水分和/或氧從外部穿入。
[0118]密封劑310位于下基板110與包封基板210之間。密封劑310位于下基板110的外圍區域PAl與包封基板210的外圍區域PA2中，并且在形成閉合線的同時包圍顯示區域DA。密封劑310使下基板110和包封基板210結合并固定并且防止來自外部的諸如水分和氧的雜質滲透到下基板110和包封基板210之間，從而包封發光器件的電光活性層。
[0119]密封劑310可以包括具有優異的防潮性的玻璃料，并且也可以包括有機密封劑和吸濕劑。尤其是，密封劑310可以包括位于下基板110與包封基板210之間的密封劑以通過施加熱來使下基板110與包封基板210融合。在這種情況下，可以通過利用紅外線燈或激光等來施加熱。可選擇的，密封劑310也可以包括可以吸收激光或紅外光等的光吸收劑。玻璃料可以通常使用玻璃粉末中包括的氧化物粉末，并且可以包括有機材料從而處于糊狀。當通過施加熱使涂覆在下基板110與包封基板210之間的玻璃料熔化時，下基板110和包封基板210可以通過熾熱的玻璃料彼此結合，并且顯示裝置的內部元件可以被完全地包封。
[0120]密封劑310與下基板110上的熱傳輸層23疊置，使得在制造工藝中可以通過熱傳輸層23容易地傳輸熱。
[0121]在一個實施例中，如果像素限定層360的外圍部分360E中包括的傾斜部分360N形成凹的傾斜表面，那么當對顯示裝置I施加沖擊時，通過傾斜部分360N使沖擊波分散或抵消，使得傳輸到密封劑的沖擊波的量可以減少。下面參照圖8對此進行描述。
[0122]圖8中的部分(A)示出當將沖擊施加到顯示裝置I時，沖擊波傳輸到顯示裝置I的邊緣側的形狀，部分(B)和部分(C)是沖擊波在顯示裝置I的右側外圍區域和左側外圍區域中的傾斜部分360N中被分散或抵消使得沖擊波沒有傳輸到密封劑310位于的邊緣區的形狀。尤其是，傾斜部分360N的傾斜表面36S形成凹的傾斜表面，使得沖擊波可以被進一步有效地分散。
[0123]根據一個實施例，可以有效地防止沖擊波傳輸到密封劑310，從而顯示裝置I的剛度可以得到改善，并且可以獲得大于大約10%的落錘強度改善結果(falling weightstrength improvement result)。
[0124]此外，顯示裝置I的強度得以改善，使得密封劑310的寬度可以減小，從而減小外圍區域PAl和PA2或邊框的面積。
[0125]如圖5和圖6所示，密封劑310可以不與電壓傳輸電極197疊置，然而，其不限于此，它可以與電壓傳輸電極197的一部分疊置。根據實施例，覆蓋電壓傳輸電極197的邊緣的外圍部分360E包括厚的間隔件360F，使得雖然密封劑310與外圍部分360E疊置，但是通過密封劑310的壓力沒有傳輸到電壓傳輸電極197，從而可以防止電壓傳輸電極197被輕易地損壞。因此，可以防止由電壓傳輸電極197與其他電極之間的短路造成的顯示區域DA的顯示故障。
[0126]另外，根據實施例，因為密封劑310與電壓傳輸電極197疊置，所以可以減小密封劑310的寬度。因此，可以改善下基板110與包封基板210之間的粘附性，使得粘附可靠性增加并且可以增加顯示裝置I的強度。此外，與傳統技術相比，可以減小形成密封劑310時的工藝余量使得密封劑310可以靠近顯示區域DA形成，從而減小了顯示裝置I的外圍區域PAl和PA2或者邊框的面積。
[0127]此外，根據實施例，在像素限定層360的外圍部分360E中，具有比間隔件360F的高度低的高度的主體部分360H和傾斜部分360N位于間隔件360F的兩側，使得當組合的下基板110與包封基板210之間的距離部分地發生變化時，所述變化是平滑的，從而整體地保持下基板110與包封基板210之間的均勻的距離。外圍部分360E可以作為均勻地保持下基板110與包封基板210之間距離的緩沖件，在密封劑310附近下基板110和包封基板210之間的距離與在顯示區域DA附近下基板110和包封基板210之間的距離可以得以平衡。因此，當下基板110與包封基板210之間的間隔不均勻時，由從外部入射的光產生的光學干涉現象可以造成牛頓環。因此，通過本發明可以避免牛頓環。
[0128]接下來，將參照圖9至圖11以及先前描述的附圖來描述根據另一實施例的顯示裝置。由相同的附圖標記指示與上面描述的實施例相同的組成元件，省略重復的描述。
[0129]圖9是根據實施例的顯示裝置的外圍區域的布局圖，圖10是作為圖9中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖，圖11是沿線XI至XI截取的圖10的顯示裝置的剖視圖。
[0130]參照圖9至圖11，顯示裝置I與上述實施例中的大部分相同，但是示出的是密封劑310與像素限定層360的外圍部分360E疊置的示例。圖10和圖11示出密封劑310與像素限定層360的外圍部分360E之中的主體部分360H疊置的示例，然而其不限于此，密封劑310可以與像素限定層360的外圍部分360E的主體部分360H和間隔件360F疊置。
[0131]接下來，將參照圖12至圖14以及先前描述的附圖來描述顯示裝置I的外圍區域的結構的各種示例。與上面描述的實施例相同的組成元件指示相同的附圖標記，省略重復的描述。
[0132]圖12、圖13和圖14分別是作為圖3中示出的顯示裝置的外圍區域的一部分的區域A、區域B或區域C的放大的布局圖。
[0133]參照圖12，顯示裝置I與圖1至圖8示出的實施例中的大部分相同，但是像素限定層360的外圍部分360E的傾斜部分360N不與電壓傳輸電極197的孔97疊置。在這種情況下，傾斜部分360N形成凹的傾斜表面，并且其傾斜表面36S的高度是減小的，可以使沖擊波分散或抵消。
[0134]然而，當傾斜部分360N與電壓傳輸電極197的多個孔97中的一部分疊置時，傾斜部分360N的凹傾斜表面與如圖12所示的傾斜部分360N不與孔97疊置的情況相比可以更凹。
[0135]參照圖13，顯示裝置I與圖1至圖8示出的實施例中的大部分相同，但是像素限定層360的外圍部分360E的間隔件360F與傾斜部分360N的形狀會有所不同。
[0136]外圍部分360E的間隔件360F的邊緣之中的不連接到主體部分360H的邊緣可以是基本直線。在間隔件360F的邊緣之中，連接到主體部分360H的邊緣和不連接到主體部分360H的邊緣可以延伸為基本平行。因此，延伸為與包封基板的上側邊緣E1、右側邊緣E3和左側邊緣E4之中的至少一個平行的傾斜部分360N可以整體地連接。
[0137]傾斜部分360N的連接到間隔件360F的邊緣和不連接到間隔件360F的邊緣可以延伸為基本平行。傾斜部分360N可以具有延伸為與包封基板的上側邊緣El、右側邊緣E3和左側邊緣E4之中的至少一個平行的直線形狀。
[0138]傾斜部分360N的傾斜表面36S遠離與間隔件360F連接的部分而降低。在一個實施例中，傾斜部分360N的傾斜表面36S可以朝向顯示區域DA降低。對于傾斜部分360N的傾斜表面36S的切線的斜率具有遠離與間隔件360F連接的部分(S卩，靠近顯示區域DA)而減小的絕對值，使得傾斜部分360N的傾斜表面36S可以形成凹曲面。作為示例，傾斜部分360N的邊緣可以具有諸如直沙丘(straight dune)的形狀。
[0139]傾斜部分360N可以與電壓傳輸電極197的多個孔97的一部分疊置，具體的說，與最接近電壓傳輸線177設置的一列孔97疊置。
[0140]參照圖14，顯示裝置I與圖13示出的實施例中的大部分相同，但是像素限定層360的外圍部分360E的傾斜部分360N與電壓傳輸電極197的孔97不疊置。在這種情況下，傾斜部分360N也形成凹的傾斜表面，傾斜部分360N的凹的傾斜表面36S可以分散或抵消沖擊波。
[0141]接下來，將參照圖15至圖21描述位于顯示裝置I的外圍區域中的像素限定層的外圍部分360E平面形狀的各種示例。
[0142]圖15、圖16、圖17、圖18、圖19和圖20是示出根據實施例的位于顯示裝置的外圍區域中的像素限定層的外圍部分的平面形狀的頂部平面圖，圖21是示出根據實施例的顯示裝置的外圍區域的一部分的布置的照片。
[0143]首先，參照圖15，像素限定層360的外圍部分與圖1至圖8中示出的實施例的外圍部分360E的大部分相同。圖15是間隔件360F的凹狀部分36D、凸狀部分36P的邊緣側和傾斜部分360N的邊緣是四邊形或直線的示例。
[0144]參照圖16，像素限定層360的外圍部分與圖1至圖8中示出的實施例的外圍部分360E的大部分相同，但是間隔件360F的凹狀部分36D和凸狀部分36P的邊緣側形成至少部分的曲線形狀。因此，傾斜部分360N的與間隔件360F相鄰的邊緣也可以由曲線形狀形成。傾斜部分360N的由間隔件360F的凸狀部分36P劃分的多個部分的每個外邊緣36N可以由直線形狀形成。參照圖16，間隔件360F的凸狀部分36P的外邊緣可以位于傾斜部分360N的多個部分的外邊緣36N的延伸線的外側，然而它不限于此，
[0145]參照圖17，像素限定層360的外圍部分與圖1至圖8中示出的實施例的外圍部分360E的大部分相同，但是間隔件360F和傾斜部分360N的邊界線具有鋸齒形狀或之字形狀。因此，傾斜部分360N的與間隔件360F相鄰的邊緣也可以由鋸齒形狀或之字形狀形成。傾斜部分360N的由間隔件360F的凸狀部分36P劃分的多個部分的每個外邊緣36N可以由基本直線形狀形成。參照圖17，間隔件360F的凸狀部分36P的尖端可以與傾斜部分360N的多個部分的外邊緣36N的延伸線對齊，但是它不限于此。
[0146]參照圖18，像素限定層360的外圍部分與圖1至圖8中示出的實施例的外圍部分360E的大部分相同，但是間隔件360F的凸狀部分36P的平面長度不一致。例如，在間隔件360F的具有凸起和凹陷的邊緣中，長度長的凸狀部分36P和長度短的凸狀部分36P可以根據間隔件360F的延伸方向交替地設置。
[0147]參照圖19，像素限定層360的外圍部分與圖1至圖8中示出的實施例或圖15示出的實施例的外圍部分360E的大部分相同。圖19示出這樣的示例:當傾斜部分360N由間隔件360F的凸狀部分36P劃分成多個部分時，傾斜部分360N的每個部分與電壓傳輸電極197的孔97對應地設置以與孔97疊置。此外，同與傾斜部分360N疊置的孔97相鄰的孔97跟與傾斜部分360N疊置的孔97對齊，從而形成近似矩陣形式。
[0148]參照圖20，像素限定層360的外圍部分與圖19中示出的實施例的大部分相同，但是同與傾斜部分360N疊置的孔97相鄰的孔97不對齊，而是從與傾斜部分360N疊置的孔97偏移。即，同與傾斜部分360N疊置的孔97相鄰的孔97可以設置在同與傾斜部分360N疊置的孔97之間的空間平行的線上。圖21示出對應于圖20的顯示裝置的平面圖。
[0149]接下來，將參照圖22至圖24以及上面描述的附圖來描述根據實施例的顯示裝置的制造方法。
[0150]圖22是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的一道工藝中用于像素限定層的涂覆層和光掩模的剖視圖，圖23是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的工藝中的在圖22中示出的工藝中的像素限定層的剖視圖，圖24是根據實施例的在顯示裝置的制造方法的工藝中的在圖23中示出的工藝中的像素限定層的剖視圖。
[0151]首先，參照圖22以及圖5和圖6，在包括透明玻璃或塑料的下基板110上形成緩沖層111、半導體層、柵極絕緣層140、多個柵極導體、第一鈍化層180a、多個數據導體和第二鈍化層180b，并且在這些元件上形成包括像素電極191和電壓傳輸電極197的像素電極層。
[0152]像素電極層包括具有高的部分和低的部分的頂表面，其中，高的部分和低的部分通過下面的階梯(例如，由于上面描述的第二鈍化層180b的邊緣側表面186而引起的階梯)而形成。
[0153]接下來，將諸如聚丙烯酸酯樹脂或聚酰亞胺樹脂的感光材料涂覆在像素電極層上以形成涂覆層3600。
[0154]隨后，在涂覆層3600上設置光掩模50，并且執行曝光。光掩模50包括透射大部分光的透射部T、部分地透射光的半透射部H和不透射大部分光的光阻擋部O。為了控制透射量，半透射部H可以包括諸如狹縫或柵格的圖案，或者可以包括半透明層。
[0155]接下來，參照圖23，對通過光掩模50曝光的涂覆層3600進行顯影以形成主體部分360H和間隔件360F。當沒有被光照射到的部分被去除的涂覆層3600具有負型感光性時，形成與光掩模50的半透射部H對應的主體部分360H和與光掩模50的透射部T對應的間隔件360F，可以去除與光掩模50的光阻擋部O對應的涂覆層3600。間隔件360F的厚度比主體部分360H的厚度大。尤其是，在顯示裝置的外圍部分中，主體部分360H分別位于覆蓋電壓傳輸電極197的邊緣的間隔件360F的兩側，兩個主體部分360H連接到間隔件360F。根據像素電極層的階梯，主體部分360H的連接到間隔件360F的左側的底表面可以比主體部分360H的連接到間隔件360F的右側的底表面低。這里，間隔件360F的右側可以是更靠近顯示區域DA的一側。主體部分360H的連接到間隔件360F的左側的厚度可以比主體部分360H的連接到間隔件360F的右側的厚度大。
[0156]當涂覆層3600中包括的感光材料具有與負型感光性相反的正型感光性時，光掩模50的透射率發生相反的變化，對涂覆層3600進行曝光，從而形成主體部分360H和間隔件360Fo
[0157]接下來，參照圖24，執行對主體部分360H和間隔件360F施加熱或紫外線的硬化工藝，以形成像素限定層360。在這種情況下，在顯示裝置的外圍區域中，主體部分360H的與覆蓋電壓傳輸電極197的邊緣的間隔件360F的左側連接的頂表面可以由凸曲面形成，主體部分360H的與間隔件360F的右側連接的頂表面可以由凹傾斜表面36S形成，從而形成傾斜部分360N。這是連接到間隔件360F的左側的主體部分360H的厚度相對厚而連接到間隔件360F的右側的主體部分360H的厚度相對薄的原因之一。
[0158]當連接到間隔件360F的右側的主體部分360H與電壓傳輸電極197的孔97疊置時，可以更好地形成傾斜部分360N的凹傾斜表面36S。
[0159]根據另一個實施例，在像素限定層360的外圍部分360E中，可以省略位于間隔件360F與密封劑310之間的主體部分360H，并且主體部分360H可以具有與間隔件360F的頂表面基本有相同高度的頂表面。
[0160]雖然已經結合某些實施例描述了本發明，但是將理解的是，本發明不限于所公開的實施例，而是相反，意圖覆蓋包括在權利要求的精神和范圍之內的各種修改和等價布置。
【主權項】
1.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括: 第一基板，包括:顯示區域，包括多個像素;外圍區域，位于所述顯示區域周圍； 薄膜晶體管，位于所述第一基板上； 像素電極層，位于所述薄膜晶體管上并且包括位于所述顯示區域中的多個像素電極；以及 像素限定層，位于所述像素電極層上并且包括與電壓傳輸電極疊置的外圍部分， 其中，所述外圍部分包括:間隔件;傾斜部分，連接到所述間隔件并且位于所述間隔件的第一側，其中，所述傾斜部分具有凹的傾斜表面。2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述外圍部分還包括:主體部分，連接到所述間隔件，并且位于所述間隔件的與所述第一側相對的第二側。3.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置還包括: 第二基板，面對所述第一基板；以及 密封劑，形成在所述第一基板與所述第二基板之間并且位于所述外圍區域中， 其中，所述主體部分位于面對所述密封劑的一側。4.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特征在于， 所述間隔件的頂表面的相對于所述第一基板的高度比所述主體部分的頂表面和所述傾斜部分的頂表面的高度高。5.根據權利要求4所述的顯示裝置，其特征在于， 所述傾斜部分的厚度比所述主體部分的厚度小。6.根據權利要求5所述的顯示裝置，其特征在于， 所述主體部分的底表面的高度比所述傾斜部分的底表面的高度低。7.根據權利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置還包括: 電壓傳輸線，位于所述外圍區域中并且傳輸共電壓；以及 鈍化層，位于所述薄膜晶體管與所述像素電極層之間， 其中，所述鈍化層包括暴露所述電壓傳輸線的邊緣側表面， 位于所述外圍區域中的所述電壓傳輸電極包括覆蓋所述鈍化層的所述邊緣側表面的第一部分和連接到所述電壓傳輸線的第二部分。8.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述間隔件的處于所述第一側的邊緣具有凹凸形狀并且包括交替地布置的凹部和凸部。9.根據權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于， 所述傾斜部分包括在平面圖中位于所述凹部中的多個部分，以及 包括在所述傾斜部分中的所述多個部分均具有凹的傾斜表面。10.—種用于制造顯示裝置的方法，所述方法包括: 在包括顯示區域和在所述顯示區域周圍的外圍區域的第一基板上形成薄膜晶體管； 在所述薄膜晶體管上形成包括位于所述顯示區域中的多個像素電極的像素電極層； 在所述像素電極層上涂覆感光材料，以形成涂覆層； 通過利用包括光透射部、光阻擋部和半透射部的光掩模對所述涂覆層進行曝光； 對所述曝光的涂覆層進行顯影；以及 對所述顯影的涂覆層進行硬化以形成包括與電壓傳輸電極疊置的外圍部分的像素限定層， 其中，所述外圍部分包括間隔件和連接到所述間隔件并且位于所述間隔件的第一側的傾斜部分， 其中，所述傾斜部分具有凹的傾斜表面。
【文檔編號】H01L27/32GK105977273SQ201510954169
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2015年12月17日
【發明人】高在慶, 羅銀渽, 趙玟俊, 崔賢俊
【申請人】三星顯示有限公司