用于制造基板的方法、基板、用于制造有機電致發光器件的方法和有機電致發光器件的制作方法

用于制造基板的方法、基板、用于制造有機電致發光器件的方法和有機電致發光器件的制作方法
【專利摘要】本發明的目的是減少在有機電致發光器件的界面處被吸收的光和消失的光，從而提高發射到外部的光的提取效率。基板11涂覆有聚合物以形成聚合物層12；等離子體引起的離子轟擊應力施加在聚合物層12上以形成具有多個波紋部分的波紋層13；并且第一電極、有機發光層和第二電極依次形成在上面形成有波紋層的基板上，從而制造有機電致發光器件。此外，金屬層23可以額外地形成在聚合物層上，可以同時施加離子轟擊應力和熱應力以形成波紋部分，并且然后可以去除金屬層。
【專利說明】
用于制造基板的方法、基板、用于制造有機電致發光器件的方 法和有機電致發光器件
技術領域
[0001] 本發明設及用于制造基板的方法、使用所述基板制造有機電致發光器件的方法W 及通過所述方法制造的基板和有機電致發光器件。
【背景技術】
[0002] 有機電致發光器件（W下簡稱為有機化器件)是具有運樣一種結構的發光器件:包 含有機化合物的有機發光層插設在一對電極之間，運對電極包括陰極和陽極且形成在例如 玻璃基板等的透明基板上，并且空穴和電子從運對電極注入到有機發光層中W使空穴和電 子重新結合，從而產生激子，使得當激子的活性失去時發出的光用于顯示等。
[0003] 使用有機電致發光器件作為發光器件的有機電致發光顯示裝置作為平板顯示裝 置受到關注，由于其與其他顯示裝置相比具有出色的亮度和視角特性且又輕又薄，此外，使 用的有機電致發光器件也被作為用于照明的光源等。
[0004] 當有機電致發光器件用作顯示裝置、用于照明的光源等時，就利用率和降低功耗 而言，優選的是將有機電致發光器件中的有機發光層產生的光盡可能多地發射到裝置的外 部。然而，已知作為實際情況，由于各種原因，有機發光層產生的光的僅20%被射出。其原因 包括有機材料本身中的光吸收和消光，在由有機材料制成的有機發光層與由金屬等制成的 電極之間的界面處的光吸收和消光，由于所謂的等離子共振(plasmonic resonance)而在 不發射到外部的情況下的裝置中的消光等。另外，已知由于電極與基板之間的折射率的差 異的全反射使光提取效率劣化。
[0005] 因此，有機電致發光器件的領域中的一個重要任務是通過提高如上所述的低的光 提取效率盡可能多地使光被發射到裝置外部。
[0006] 作為相關領域中已知的用于提高光提取效率的技術，專利文獻1和2中提出了用于 提高光提取效率的技術。運些文獻公開了在基板或有機發光層的外表面上形成散射層，W 便通過使用散射層來提高光提取效率的技術，所述散射層用于對有機發光層產生的光的散 射作用。
[0007] 然而，在專利文獻1和2中，通過W下方法形成散射層:在溶劑中分散散射顆粒，并 且在待涂覆的透明電極與基板之間插設分散顆粒，運樣難W實現大量生產，因為顆粒的完 全分散是不可能的。
[000引作為相關領域中已知的另一種技術，專利文獻3中描述了一種技術。圖1是專利文 獻3的有機電致發光器件的示意性剖視圖。
[0009] 如圖1所示，專利文獻3的有機電致發光器件具有W下結構：聚合物70、由ITO等制 成的第一電極61、有機發光層62W及由金屬制成的第二電極63依次布置在基板50上，并且 聚合物70具有在其上W諸如圓形、楠圓形、半球形等的形狀形成的波紋部分71。
[0010] 根據用于形成波紋部分71的方法，通過W下方式形成波紋部分71:通過氧氣等離 子體處理在基板50上形成徑基，在基板上涂覆聚合物70,將涂有微粒的模具壓印在涂覆有 聚合物70的基板50上，然后在氮氣氣氛下執行紫外線硬化。然后，通過使用相關領域中已知 的方法順序形成第一電極61、有機發光層62和第二電極63來制造有機電致發光器件。
[0011] 運樣，在專利文獻3中，波紋部分通過所謂的納米壓印來形成。然而，納米壓印方法 具有復雜的過程和增加的過程成本，使得難W實現大量生產。另外，由于聚合物易受水分侵 蝕，還要求解決水分滲透到裝置中的問題的單獨的對策。
[0012] 作為除上述方法之外的用于提高光提取效率的另一種方法，存在運樣一種技術： 在透明電極與透明基板之間插設高折射率材料W最小化全反射，從而提高光提取效率。然 而，也增加了該技術的過程成本，并且根據實施的顏色出現光提取效率的偏差。
[0013] 此外，存在通過在透明電極與基板之間插設多孔材料來散射內部的光子的用于提 高光提取效率的技術，然而，該技術難W應用于具有大尺寸的結構，并且存在降低生產率的 問題。
[0014] 另外，還進行了 W下研究:將微透鏡陣列(MLA)薄膜附接在有機電致發光器件的基 板的表面上的方法，使用噴砂技術改變基板的表面粗糖度的方法，等等。
[0015] 然而，在附接MLA薄膜的方法中，由于粘附膜與MLA薄膜之間的光學性質(折射率和 吸收率)的差異而出現了發射到外部的光子的減少，需要昂貴的設備用于附接薄膜，因此， 增加了過程成本，并且很可能在附接薄膜的過程期間引入氣泡。在使用噴砂的方法中，也存 在難W獲得均勻的表面粗糖度的問題等。
[0016] 作為另一種方法，存在使用高折射率透明基板減小完全反射到裝置中的光W提高 光提取效率的方法。然而，此技術仍然處于開發階段，并且存在將此技術應用于大量生產過 程的限制。
[0017] <在先技術文獻〉
[001引 < 專利文獻〉
[0019] 專利文獻1:1002/3758041公開單行本(2002.5.10公開）
[0020] 專利文獻2:115 2001/002612441公報(2011.10.4公開）
[0021] 專利文獻3:公開專利NO. 10-2011-87433公報(2011.8.3公開）

【發明內容】

[0022] 技術問題
[0023] 本發明的目的是提供一種用于制造基板的方法、使用所述基板制造有機電致發光 器件的方法W及通過所述方法制造的基板和有機電致發光器件，其通過改善相關領域的問 題能夠在用較簡單的過程提高有機電致發光器件的光提取效率的同時降低器件的制造成 本。
[0024] 技術方案
[0025] 為了實現上述目的，根據本發明，提供了一種用于制造基板的方法，所述方法包 括:在基板上形成聚合物層；W及向上面形成有所述聚合物層的所述基板施加離子轟擊應 力（ion bombar血ent stress), W在所述聚合物層上形成波紋部分（corrugated pa;rt)。
[0026] 此外，根據本發明，提供了一種用于制造基板的方法，所述方法包括:在基板上形 成聚合物層;在所述聚合物層上形成金屬層；向上面形成有所述聚合物層和所述金屬層的 所述基板施加離子轟擊應力W形成波紋部分；W及去除所述金屬層。
[0027] 另外，根據本發明，提供了通過上述方法中的任意一種制造的基板。
[0028] 另外，根據本發明，提供了一種用于制造有機電致發光器件的方法，所述方法包 括:制備通過上述方法中的任意一種制造的基板;在所述波紋部分上形成第一電極;在所述 第一電極上形成有機發光層；W及在所述有機發光層上形成第二電極。
[0029] 另外，根據本發明，提供了一種用于制造有機電致發光器件的方法，所述方法包 括:制備通過上述方法中的任意一種制造的基板;在所述基板的與上面形成有所述波紋部 分的表面相反的表面上形成第一電極;在所述第一電極上形成有機發光層；W及在所述有 機發光層上形成第二電極。
[0030] 另外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 通過上述方法中的任意一種制造的基板;形成在所述波紋部分上的第一電極;形成在所述 第一電極上的有機發光層；W及形成在所述有機發光層上的第二電極。
[0031] 另外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 通過上述方法中的任意一種制造的基板;第一電極，所述第一電極形成在所述基板的與上 面形成有所述波紋部分的表面相反的表面上;形成在所述第一電極上的有機發光層；W及 形成在所述有機發光層上的第二電極。
[0032] 另外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 基板;形成在所述基板上的波紋層(corrugated layer);形成在所述波紋層上的第一電極； 形成在所述第一電極上的有機發光層；W及形成在所述有機發光層上的第二電極，其中，所 述波紋層是通過向形成在所述基板上的聚合物層施加離子轟擊應力而形成的。
[0033] 另外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 基板，所述基板具有形成在其一個表面上的波紋層;第一電極，所述第一電極形成在所述基 板的與上面形成有所述波紋層的表面相反的表面上；形成在所述第一電極上的有機發光 層；W及形成在所述有機發光層上的第二電極，其中，所述波紋層是通過向形成在所述基板 上的聚合物層施加離子轟擊應力而形成的。
[0034] 另外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 基板;形成在所述基板上的波紋層;形成在所述波紋層上的第一電極;形成在所述第一電極 上的有機發光層；W及形成在所述有機發光層上的第二電極，其中，所述波紋層是通過向依 次形成在所述基板上的聚合物層和金屬層施加離子轟擊應力而形成的，并且在施加所述離 子轟擊應力之后，所述金屬層被去除。
[0035] 此外，根據本發明，提供了一種有機電致發光器件，所述有機電致發光器件包括： 基板，所述基板具有形成在其一個表面上的波紋層;第一電極，所述第一電極形成在所述基 板的與上面形成有所述波紋層的表面相反的表面上；形成在所述第一電極上的有機發光 層；W及形成在所述有機發光層上的第二電極，其中，所述波紋層是通過向依次形成在所述 基板上的聚合物層和金屬層施加離子轟擊應力而形成的，并且在施加所述離子轟擊應力之 后，所述金屬層被去除。
[0036] 有益效果
[0037] 根據本發明的有機電致發光器件，通過向層壓在基板上的聚合物層施加離子轟擊 應力的方法形成具有多個波紋部分的波紋層，并且第一電極、有機發光層、第二電極等形成 在波紋層上或基板的與上面形成有波紋層的表面相反的表面上，從而能夠通過波紋層減少 在有機電致發光器件中被吸收的光和消失的光的量，W便提高發射到外部的光的提取效 率，從而降低相同亮度的功耗。
[0038] 另外，根據本發明的形成波紋層的過程比現有技術簡單，并且不需要單獨的設備 來形成波紋層，并且可W通過使用用于制造有機電致發光器件的現有設備形成波紋層。因 此，本發明還具有甚至用低成本也能夠進行大量生產的效果。
【附圖說明】
[0039] 圖1是示出了相關領域的有機電致發光器件的示意性配置的剖視圖。
[0040] 圖2A至圖2D是示出了根據本發明的優選實施例1的制造有機電致發光器件的過程 的視圖。
[0041] 圖3A是根據實施例1制造的有機電致發光器件的剖視圖，并且圖3B是波紋部分的 電子顯微照片。
[0042] 圖4是示出了根據本發明的優選實施例2的制造有機電致發光器件的過程的視圖。
[0043] 圖5是示出了根據修改例1的制造有機電致發光器件的過程的視圖。
[0044] 圖6是示出了根據修改例2的制造有機電致發光器件的過程的視圖。
[0045] 圖7是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例1的方 法制造的有機電致發光器件的光的分布圖的曲線圖。
[0046] 圖8是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例1的方 法制造的有機電致發光器件的電壓-電流特性的曲線圖。
[0047] 圖9是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例1的方 法制造的有機電致發光器件的電壓-電流密度特性的曲線圖。
[0048] 圖10是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例1的方 法制造的有機電致發光器件的電壓-功率效率的曲線圖。
[0049] 圖11是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例1的方 法制造的有機電致發光器件的電壓-亮度特性的曲線圖。
[0050] 圖12是示出了根據本發明的優選實施例3的有機電致發光器件的剖視圖。
[0051] 圖13是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過本發明的方 法制造的有機電致發光器件的光的分布圖的曲線圖。
[0052] 圖14是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例3制造 的有機電致發光器件的電壓-電流密度特性的曲線圖。
[0053] 圖15是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例3制造 的有機電致發光器件的電壓-功率效率的曲線圖。
[0054] 圖16是示出了通過相關領域的方法制造的有機電致發光器件和通過實施例3制造 的有機電致發光器件的每個波長范圍的發光光譜分布的曲線圖。
【具體實施方式】
[0055] W下將參照附圖詳細描述本發明的優選實施例。
[0056] <實施例1〉
[0057] 首先，將參照圖2描述本發明的優選實施例1。圖2A至圖2D是示出了根據本發明的 優選實施例1的制造有機電致發光器件的過程的視圖。
[0058] 如圖2所示，首先，制備基板11(參見圖2A)。基板11是在常規的有機電致發光器件 10中使用的基板，例如，可W是透明玻璃基板，或透明塑料基板。
[0059] 接下來，清洗基板11。可W通過相關領域中已知的方法清洗基板11，例如，使用清 洗劑和超聲波清洗機，并且通過干燥過程干燥清洗的基板11。
[0060] 然后，將聚合物涂覆在清洗并干燥的基板上W形成聚合物層12(參見圖2B)。
[0061] 作為用于形成聚合物層12的聚合物，適當地使用滿足W下條件的材料。
[0062] 1.過程應當對蝕刻劑、顯影劑、剝離劑等穩定，并且聚合物應當不會被運些物質化 學破壞。
[0063] 2.聚合物甚至在300°C或更高的熱處理過程中也不應當被熱破壞。
[0064] 3.過程應當不輸出氣體。
[0065] 4. Wl皿或更薄的厚度涂覆的過程應當可行。
[0066] 5.形成聚合物層12的過程應當對應力具有再現性。
[0067] 6.光刻（pho to 1 i thogra地y)過程應當可行。
[0068] 7.聚合物層應當具有合適的光系數，例如，1.5或更大的折射率，低的光吸收率(低 消光系數）、90 %或更大的透射比等。
[0069] 在本實施例中，作為聚合物層12的材料，使用Samyang公司的觸摸屏涂層材料SOI- 4000(touch screen over coating material SOI-4000)。
[0070] 作為涂覆聚合物的方法，在本實施例中使用旋涂法，并且涂覆速度在500至 2000RPM的范圍內，并且聚合物層12的涂層厚度為0.3至3.0皿。然而，涂覆方法不限于旋涂 法，而是可W使用其他方法，只要其是能夠通過W預定的厚度在基板11上涂覆聚合物來形 成聚合物層12的方法。
[0071] 接下來，在l〇〇°C的溫度下執行軟烘烤約90秒（soft baking),然后向聚合物層12 的表面施加離子轟擊應力，W在聚合物層12的表面上形成多個波紋部分(凹陷-凸起），從而 形成波紋層13(參見圖2C)。
[0072] 通過將上面形成有聚合物層12的基板11引入到等離子體處理設備（plasma 化eatment apparatus)中執行等離子體處理來形成波紋層13。在本實施例中，氣氣用作用 于處理的氣體，并且氣體流速為70至200SCCM，壓強為SPa，功率在50至200W的范圍內，處理 時間在1至20分鐘的范圍內。
[0073] 接下來，在從開始約230°C的溫度逐漸降低到室溫的同時執行硬化過程約2至6小 時，W獲得在上面形成有波紋層13的基板。
[0074] 圖3B是形成在基板11上的波紋層13的電子顯微照片（通過Olympus公司的共焦激 光掃描顯微鏡LEXT 0LS3000拍攝），并且可W確認多個波紋部分較為周期性地形成在基板 11上。
[0075] 根據涂覆速度的聚合物層12的厚度、形成的波紋層13的波紋部分的周期和高度如 下面表1所示。
[0076] [表1]
[0077]
[0078] 從上面表1可W看出，聚合物層12的涂層厚度W及波紋層13的波紋部分的平均周 期和平均高度與旋涂的涂覆速度直接相關，并且可W從上述結果看出，可W根據有機電致 發光器件10的器件特性(例如，用途、尺寸和材料等)適當地設置聚合物層12的涂層厚度，并 且相應地可W根據需要適當地設置波紋層13的周期和高度。
[0079] 在本實施例中，波紋部分的尺寸優選地為300nm至200WH，并且如果波紋部分的尺 寸小于300nm，或超過200皿，本發明的效果就會不顯著。
[0080] 另外，波紋部分的形狀也影響光提取效率。也就是說，當波紋部分具有諸如楠圓形 或不規則形狀的形狀時，可W比波紋部分具有完全球形的情形更加提高光提取效率。
[0081] 另外，在本實施例中，作為向聚合物層12的表面施加離子轟擊應力的方法，使用了 使用氣氣等離子體處理的方法，但是不限于此。也可W通過其他合適的方法向聚合物層12 的表面施加離子轟擊應力來形成波紋層13。
[0082] 然后，如圖2D所示，第一電極14、有機發光層15和第二電極16依次形成在波紋層13 上。
[0083] 當第一電極為陰極時，第二電極為陽極，并且當第一電極為陽極時，第二電極為陰 極。根據本發明的有機電致發光器件是前發射型（打ont emission type)還是后發射型 (rear emission type)來適當地確定電極的極性。
[0084] 作為用于形成第一電極、有機發光層、第二電極等的方法、材料、條件等，可W選擇 性地使用相關領域中已知的各種方法，并且運不是本發明的主題，因此，將不進行詳細描 述。
[0085] 另外，盡管圖2D未示出，如有需要，可W進一步形成消氣劑(getter)17等，然后可 W在上面密封蓋玻璃18,從而完成有機電致發光器件10(參見圖3A)。
[0086] 圖3A是示出了有機電致發光器件10的剖視圖，其中，第一電極14、有機發光層15、 第二電極16等依次形成在波紋層13上，該波紋層通過本實施例所述的方法形成在基板11 上。
[0087] 密封材料S填充在基板11與蓋玻璃18之間W將其密封。
[0088] 在根據如上所述的本實施例的有機電致發光器件10中，通過向層壓在基板11上的 聚合物層12施加離子轟擊應力的方法來形成具有多個波紋部分的波紋層13,并且第一電極 14、有機發光層15、第二電極16等依次形成在波紋層13上，從而能夠通過波紋層13提高發射 到有機電致發光器件10外部的光的提取效率，并且從而降低相同亮度的功耗。
[0089] 另外，根據本發明的形成波紋層13的過程比現有技術簡單，并且不需要例如壓印 設備的單獨的設備來形成波紋層13,并且可W通過使用用于制造有機電致發光器件的現有 設備來形成波紋層。因此，本發明還具有甚至用低成本也能夠進行大量生產的效果。
[0090] <效果實驗〉
[0091] 為了確認實施例1的電氣性質和光學性質，制造了在基板與第一電極之間不包括 波紋層的相關領域的有機電致發光器件的具有2 X 2英寸的尺寸的樣品和具有5 X 5英寸的 尺寸的樣品，W及在基板與第一電極之間包括波紋層的實施例1的有機電致發光器件的具 有2X2英寸的尺寸的樣品和具有5X5英寸的尺寸的樣品，并且對運些樣品進行各種實驗。 W下將描述其結果。
[0092] (1)首先，對相關領域的測試樣品和實施例1的測試樣品執行用于表明光的分布圖 的發光強度分布分析，圖7中示出了其結果。圖7A示出了具有2X2英寸的尺寸的樣品的結 果，并且圖7B示出了具有5X5英寸的尺寸的樣品的結果。
[0093] 通過使用測角光度計(Pimacs有限公司）執行測量，并且如圖7所示，可W看到，與 相關領域的樣品相比，在實施例1的包括波紋層的具有2 X 2英寸的尺寸的樣品和具有5 X 5 英寸的尺寸的樣品中，發光強度分布都得到了顯著提高。
[0094] (2)接下來，對相關領域的測試樣品和實施例1的測試樣品執行電壓-電流特性測 量W及電壓-電流密度特性測量，圖8和圖9分別示出了其結果。
[0095] 如圖8和圖9所示，可W看到，與相關領域的樣品相比，在實施例1的包括波紋層的 具有2X2英寸的尺寸的樣品和具有5X5英寸的尺寸的樣品中，相同電壓下的電流值和電流 密度都得到了提高。
[0096] (3)另外，還測量了相關領域的測試樣品和實施例1的測試樣品中電壓與功率效率 之間的關系W及電壓與亮度之間的關系，并且圖10和圖11分別示出了其結果。
[0097] 亮度通過使用Topcon公司的BM-7彩色亮度計(BM-71uminance colorimeter)來測 量，并且如圖10和圖11所示，可W看到，與相關領域的不具有波紋層的樣品相比，在實施例1 的包括波紋層的具有2 X 2英寸的尺寸的樣品和具有5 X 5英寸的尺寸的樣品中，相同電壓下 的功率效率和亮度都得到了提高。
[0098] (4)另外，使用積分球光度計（integrating S地ere photometer)測量整體光通 量，由此分別測量相關領域的測試樣品和實施例1的測試樣品的照明效率和照明效率提高 率。表2示出了其結果。
[0099] [表 2]
[0inm
[0101 ]如表2所示，實施例1的包括波紋層的具有2 X 2英寸的尺寸的樣品和具有5 X 5英寸 的尺寸的樣品的照明效率比相關領域的沒有波紋層的樣品高很多。具有2X2英寸的尺寸的 樣品和具有5X5英寸的尺寸的樣品的照明效率提高率也提高了 48%或更多。
[0102] 從上述實驗結果可W確認，通過根據實施例1的波紋層可W提高發射到有機電致 發光器件外部的光的提取效率，并且因此，可W減小用于相同亮度的功耗。
[0103] <實施例2〉
[0104] 接下來，將參照圖4描述本發明的優選實施例2。圖4A至圖4F是示出了根據本發明 的優選實施例2的制造有機電致發光器件的過程的視圖。
[0105] 除形成波紋層的過程之外，實施例2中的過程與實施例1中描述的過程相同，因此， W下主要描述與實施例1的區別。
[0106] 首先，將聚合物涂覆在諸如玻璃基板或塑料基板的透明基板21上W形成聚合物層 22(參見圖4A和圖4B)。基板21的材料和用于形成聚合物層22的方法分別與實施例1中的基 板11的材料和用于形成聚合物層12的方法相同。
[0107] 接下來，金屬層23沉積在聚合物層22上（參見圖4C)。可W通過沉積金屬層的常規 方法(例如，離子束沉積)來執行金屬層23的沉積，并且在本實施例中，WO. Inm/s的速率和 IOnm的總厚度沉積金屬層23。
[0108] 作為用于形成金屬層23的材料，例如，可W使用侶(Al)。由于侶與聚合物層22之間 的熱膨脹系數的差異很大，所W可W容易地形成波紋犧牲層25。然而，用于形成金屬層23的 材料不限于侶，而是也可W使用其他金屬。
[0109] 接下來，通過向上面形成有聚合物層22和金屬層23的基板施加離子轟擊應力，分 別在聚合物層22和金屬層23上形成波紋層24和波紋犧牲層25(參見圖4D)。用于向上面形成 有聚合物層22和金屬層23的基板施加離子轟擊應力的方法和條件與實施例1中的波紋層13 的方法和條件相同。
[0110] 接下來，在施加離子轟擊應力之后，向上面形成有聚合物層22和金屬層23的基板 施加熱應力。可W直接向上面形成有聚合物層22和金屬層23的基板施加熱應力，或者可W 通過將被施加離子轟擊應力的基板引入到加熱爐中并且使基板在約2小時內從開始的約 230°C的溫度逐漸冷卻到室溫來施加熱應力。
[0111] 可W在同一過程中同時施加離子轟擊應力和熱應力，或者可W在施加離子轟擊應 力之后進一步施加熱應力。在本實施例中，熱應力進一步施加在上面層壓有聚合物層22和 金屬層23的基板上，使得通過聚合物與金屬之間的熱膨脹系數的差異更可靠地形成波紋層 24和波紋犧牲層25。
[0112] 接下來，通過蝕刻去除由金屬制成的波紋犧牲層25,使得僅留下由聚合物制成的 波紋層24(參見圖4E)。在本實施例中，作為蝕刻劑，使用侶蝕刻劑，并且通過在40°C的溫度 下濕法蝕刻3分鐘來完全去除由金屬制成的波紋犧牲層25。
[0113] 在本文中，作為蝕刻劑，當金屬犧牲層25的材料為侶時，使用可W最容易地去除的 波紋犧牲層25的侶蝕刻劑。然而，當除侶之外的其他材料用作金屬犧牲層25的材料時，可W 使用能容易地去除相應的金屬犧牲層的合適的蝕刻劑。
[0114] 接下來，執行硬化過程W獲得多個波紋層24形成在其整個表面上的基板。
[0115] 實施例2的硬化過程與實施例1中描述的硬化過程相同。
[0116] 接下來，如圖4F所示，包括第一電極26、有機發光層27和第二電極28的層依次形成 在波紋層24上，并且如有需要，進一步形成消氣劑等，然后通過蓋玻璃密封有機電致發光器 件，從而完成有機電致發光器件。
[0117] 在本實施例中，通過在聚合物層22上進一步形成金屬層23并且在聚合物層22和金 屬層23上進一步施加除離子轟擊應力之外的熱應力，可W比實施例1更可靠且容易地形成 波紋層。
[0118] 在本實施例中，未確認電氣性質和光學性質，然而，由于可W比實施例1更可靠地 形成波紋層，所W可W猜想根據實施例2的方法制造的有機電致發光器件的電氣性質和光 學性質將得到更大提高。
[0119] <修改例1〉
[0120] 在實施例1中，通過向形成在基板11上的整個聚合物層12施加離子轟擊應力來形 成波紋層13,然而，可W進一步執行W預定的尺寸圖案化形成在基板11上的聚合物層12的 圖案化過程。
[0121] 將參照圖5簡要描述進一步執行圖案化過程的修改例。
[0122] 圖5A和圖5B與實施例1的圖2A和圖2B相同，并且在圖5C中，W預定的尺寸圖案化聚 合物層12。
[0123] 執行圖案化的原因在于，盡管如圖3所示通過蓋玻璃最終密封有機電致發光器件， 但是由于聚合物非常容易受到水分破壞，當由聚合物制成的波紋層13暴露于蓋玻璃外部 時，水分很可能滲透到有機電致發光器件中，此外，由于第一電極、有機發光層、第二電極等 僅形成在蓋玻璃內側的區域中，所W波紋層13的尺寸有必要與第一電極、有機發光層、第二 電極等的尺寸匹配。
[0124] 具體地，如圖3A所示，為了防止水分滲透到有機電致發光器件中的問題，密封材料 S填充在基板11與蓋玻璃18之間W密封有機電致發光器件。然而，當表面上形成有波紋部分 的波紋層13的尺寸大于蓋玻璃的內周面的尺寸時，基板和蓋玻璃由于波紋部分而不能彼此 緊密附接，并且基板和蓋玻璃不能通過密封材料S直接密封。因此，W預定的尺寸圖案化聚 合物層12W解決上述問題。
[0125] 圖5C中的虛線所示的部分是圖案化過程去除的部分，并且通過常規的照片過程 (photo process)和顯影過程(development process)執行圖案化，因此，將不詳細描述圖 案化方法。
[0126] <修改例2〉
[0127] 在實施例2中，通過W下方式形成波紋層24:在形成在基板21上的整個聚合物層22 上形成金屬層23,并且向其施加離子轟擊應力和熱應力。然而，可W和修改例1一樣進一步 執行將形成在基板21上的聚合物層22圖案化的圖案化過程（圖6C)，然后金屬層23可W形成 為使得其尺寸與被圖案化為具有預定形狀的聚合物層22的尺寸相匹配（圖6D)。后續過程與 實施例2中描述的圖4D和圖4E的過程相同。
[0128] 另外，W預定的尺寸圖案化聚合物層22的原因與修改例1中描述的相同。
[0129] <實施例3〉
[0130] 接下來，將參照圖12描述本發明的優選實施例3。圖12是示出了根據本發明的優選 實施例3的有機電致發光器件的剖視圖。
[0131] 實施例3與實施例1和2W及修改例1和2的不同之處在于，在實施例1和2W及修改 例I和2的有機電致發光器件中，第一電極、有機發光層、第二電極等形成在波紋層上，但是 在實施例3中，第一電極、有機發光層、第二電極等形成在基板的與上面形成有波紋層的表 面相反的表面上。
[0132] 如圖12所示，在實施例3的有機電致發光器件30中，第一電極34、有機發光層35和 第二電極36依次形成在基板31的與上面形成有波紋層33的表面相反的表面上，并且如有需 要，進一步包括消氣劑37等，并且最終通過蓋玻璃38密封有機電致發光器件。
[0133] 實施例3中使用的基板31可W是通過實施例1和2W及修改例1和2中的上文所述的 方法中的任意一種制造的基板。
[0134] 當第一電極為陰極時，第二電極為陽極，并且當第一電極為陽極時，第二電極為陰 極。根據本發明的有機電致發光器件是前發射型還是后發射型來適當地確定電極的極性。 然而，基板31的波紋層33側用作光發射穿過的發光表面。作為用于形成第一電極、有機發光 層、第二電極等的方法、材料、條件等，可W選擇性地使用相關領域中已知的各種方法。
[0135] <效果實驗〉
[0136] 為了確認實施例3的有機電致發光器件的電氣性質和光學性質，制造了在基板的 發光表面側上不包括波紋層的相關領域的有機電致發光器件的樣品W及在基板的發光表 面側上包括波紋層的實施例3的有機電致發光器件的樣品，并且對其進行各種實驗。W下將 描述其結果。
[0137] (1)首先，對相關領域的測試樣品和實施例3的測試樣品執行用于表明光的分布圖 的發光強度分布分析，圖13中示出了其結果。
[0138] 通過使用測角光度計(Pimacs有限公司）執行測量，并且如圖13所示，可W看到，與 相關領域的樣品相比，在實施例3的具有波紋層的樣品中，發光強度分布得到了顯著提高。
[0139] (2)接下來，對相關領域的測試樣品和實施例3的測試樣品執行電壓-電流效率特 性測量，圖14中示出了其結果。
[0140] 如圖14所示，可W看到，與相關領域的樣品相比，在實施例3的具有波紋層的樣品 中，相同電壓下的電流效率得到了顯著提高。
[0141] (3)另外，對相關領域的測試樣品和實施例3的測試樣品還執行電壓與功率效率之 間的關系的測量，圖15中示出了其結果。
[0142] 如圖15的曲線圖所示，可W看到，與相關領域的不具有波紋層的樣品相比，在實施 例3的具有波紋層的樣品中，相同電壓下的功率效率得到了顯著提高。
[0143] (4)另外，對相關領域的測試樣品和實施例3的測試樣品執行每個波長范圍的發光 光譜分布的測量，圖16中示出了其結果。
[0144] 如圖16的曲線圖所示，在相關領域的測試樣品和實施例3的測試樣品中沒有觀察 到每個波長范圍的發光光譜分布的特定變化。因此，可W看出，從甚至具有實施例3的結構 的有機電致發光器件發出的光的顏色沒有實質變化。
[0145] (5)此外，在本實施例中，作為有機電致發光器件的基板，使用通過實施例1和2W 及修改例1和2的方法制造的基板，因此，明顯可W獲得與實施例1和2W及修改例1和2相同 的效果。
[0146] 雖然已經描述了本發明的優選實施例和修改例。但是，實施例和修改例僅示出本 發明的優選形式，并且因此本發明不限于實施例和修改例。在不脫離本發明的范圍和技術 理念的情況下可W對本發明進行各種變化和修改。
[0147]另外，每個實施例和每個修改例也可W彼此結合。 [014引 < 附圖標記〉
[0149] 10、30有機電致發光器件
[0150] 11、21、31 基板
[0151] 12、22聚合物層
[0152] 23金屬層
[0153] 13、24 波紋層
[0154] 25波紋犧牲層
[0155] 14、26、34 第一電極
[0156] 15、27、35有機發光層
[0157] 16、28、36 第二電極
【主權項】
1. 一種用于制造基板的方法，包括： 在基板上形成聚合物層；以及 向上面形成有所述聚合物層的所述基板施加離子轟擊應力，以在所述聚合物層上形成 波紋部分。2. -種用于制造基板的方法，包括： 在基板上形成聚合物層； 在所述聚合物層上形成金屬層； 向上面形成有所述聚合物層和所述金屬層的所述基板施加離子轟擊應力以形成波紋 部分；以及 去除所述金屬層。3. 根據權利要求1或2所述的方法，其中，通過氬氣等離子體處理施加所述離子轟擊應 力。4. 根據權利要求2所述的方法，向上面形成有所述金屬層的所述基板進一步施加熱應 力。5. 根據權利要求4所述的方法，其中，同時施加所述離子轟擊應力和所述熱應力。6. 根據權利要求4所述的方法，其中，首先施加所述離子轟擊應力，然后施加所述熱應 力。7. 根據權利要求1或2所述的方法，進一步包括將所述聚合物層圖案化為預定的形狀。8. -種通過根據權利要求1至7中的任意一項所述的方法制造的基板。9. 一種用于制造有機電致發光器件的方法，包括： 制備根據權利要求8所述的基板； 在所述波紋部分上形成第一電極； 在所述第一電極上形成有機發光層；以及 在所述有機發光層上形成第二電極。10. -種用于制造有機電致發光器件的方法，包括： 制備根據權利要求8所述的基板； 在所述基板的與上面形成有所述波紋部分的表面相反的表面上形成第一電極； 在所述第一電極上形成有機發光層；以及 在所述有機發光層上形成第二電極。11. 一種有機電致發光器件，包括： 根據權利要求8所述的基板； 形成在所述波紋部分上的第一電極； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極。12. -種有機電致發光器件，包括： 根據權利要求8所述的基板； 第一電極，所述第一電極形成在所述基板的與上面形成有所述波紋部分的表面相反的 表面上； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極。13. -種有機電致發光器件，包括： 基板； 形成在所述基板上的波紋層； 形成在所述波紋層上的第一電極； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極， 其中，所述波紋層是通過向形成在所述基板上的聚合物層施加離子轟擊應力而形成 的。14. 一種有機電致發光器件，包括： 基板，所述基板具有形成在其一個表面上的波紋層； 第一電極，所述第一電極形成在所述基板的與上面形成有所述波紋層的表面相反的表 面上； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極， 其中，所述波紋層是通過向形成在所述基板上的聚合物層施加離子轟擊應力而形成 的。15. -種有機電致發光器件，包括： 基板； 形成在所述基板上的波紋層； 形成在所述波紋層上的第一電極； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極， 其中，所述波紋層是通過向依次形成在所述基板上的聚合物層和金屬層施加離子轟擊 應力而形成的，并且 在施加所述離子轟擊應力之后，所述金屬層被去除。16. -種有機電致發光器件，包括： 基板，所述基板具有形成在其一個表面上的波紋層； 第一電極，所述第一電極形成在所述基板的與上面形成有所述波紋層的表面相反的表 面上； 形成在所述第一電極上的有機發光層；以及 形成在所述有機發光層上的第二電極， 其中，所述波紋層是通過向依次形成在所述基板上的聚合物層和金屬層施加離子轟擊 應力而形成的，并且 在施加所述離子轟擊應力之后，所述金屬層被去除。
【文檔編號】H01L51/56GK105940519SQ201480074281
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2014年11月19日
【發明人】劉敏相, 任友彬, 金邰洙
【申請人】娜我比可隆股份有限公司