載荷測定裝置以及載荷測定方法

載荷測定裝置以及載荷測定方法
【專利摘要】本發明提供一種能夠準確地測定施加于晶片等基板的輥型清洗件的載荷的載荷測定裝置。載荷測定裝置具備：防水型測壓元件(30)，該防水型測壓元件(30)具有與基板(W)的直徑相同的長度的載荷測定面(30a)以及支承防水型測壓元件(30)的基臺板(31)。該載荷測定裝置與基板(W)相同地安設于基板清洗裝置，通過防水型測壓元件(30)測定從基板清洗裝置的輥型清洗件(7)承受的載荷。
【專利說明】
載荷測定裝置以及載荷測定方法
技術領域
[0001]本發明涉及在將輥型清洗件涂擦于晶片等基板而清洗該基板的基板清洗裝置中使用的載荷測定裝置以及載荷測定方法，尤其涉及用于測定從輥型清洗件施加于基板的載荷的載荷測定裝置以及載荷測定方法。
【背景技術】
[0002]在半導體器件的制造中，為了對研磨后的晶片進行清洗而使用基板清洗裝置。該基板清洗裝置一邊對晶片供給清洗液，一邊將輥型海綿、輥型刷等圓筒形的輥型清洗件涂擦于晶片的平面而對晶片進行清洗。在該晶片清洗中，要求準確地控制輥型清洗件施加于晶片的載荷。但是，實際難以當場測定通過輥型清洗件清洗晶片時的載荷。因此，在基板清洗裝置的啟動時，進行確定載荷的設定值與施加于晶片的載荷的相關關系的載荷調整(也稱作載荷校準)。
[0003]上述載荷調整使用載荷測定夾具而進行。圖9是表示以往的載荷測定夾具的俯視圖，圖10是圖9所示的載荷測定夾具的主視圖。載荷測定夾具具有:具有與晶片W的直徑相同的直徑的圓形的基臺板101;安裝于基臺板101的測壓元件105;以及經由線纜106而與測壓元件105連接的載荷指示器110。測壓元件105與基臺板101配置在同心上，測壓元件105的長度為晶片W的直徑的大致一半。
[0004]在基臺板101的中央部形成有凹部101a，測壓元件105配置于該凹部1la內。在基臺板101的外周部形成有四個薄壁部112，薄壁部112具有與晶片W的厚度大致相等的厚度。該薄壁部112的上表面與測壓元件105的上表面的高度相同。
[0005]圖11是表示安設于基板清洗裝置的載荷測定夾具的俯視圖。如圖11所示，載荷測定夾具與晶片W相同地保持于基板清洗裝置的基板保持機構(晶片保持座)。該基板保持機構具有四個保持輥121、122、123、124，載荷測定夾具(以及晶片W)的外周部由該四個保持輥121、122、123、124 保持。
[0006]圖12是表示安設于基板清洗裝置的載荷測定夾具在測定載荷時的情況的主視圖，圖13是表示圖12所示的載荷測定夾具的側視圖。載荷的測定不使用輥型清洗件，而取而代之使用載荷測定專用的模擬輥115。該模擬輥115具有與包含有清洗液時的輥型清洗件相同的形狀、相同的大小，以及相同的重量。使用這種模擬輥115的理由是因為若使用含有清洗液的輥型清洗件進行載荷的測定時，清洗液會進入測壓元件105而造成測壓元件105產生故障。
[0007]模擬輥115由比輥型清洗件硬的材料構成。例如，在輥型清洗件由聚乙烯醇(PVA)構成的情況下，模擬輥115由聚氯乙烯(PVC)構成。如圖13所示，模擬輥115安裝于基板清洗裝置的輥軸130。輥軸130、模擬輥115，以及輥旋轉機構133由彈簧132支承。
[0008]輥旋轉機構133與作為荷載產生裝置的氣缸135連接。該氣缸135克服彈簧132的反彈力而使模擬輥115向下方移動。在進行模擬輥115的載荷測定時，模擬輥115以不旋轉的方式被按壓于測壓元件105。測壓元件105對從模擬輥115施加的載荷進行測定，載荷指示器110(參照圖9)顯示載荷的測定值。
[0009]現有技術文獻
[0010]專利文獻
[0011 ] 專利文獻I:日本特開2014-103387號公報
[0012]專利文獻2:日本特開2014-38983號公報
[0013]發明要解決的課題
[0014]將模擬輥115按壓于測壓元件105的汽缸135通過氣體而進行動作。汽缸135產生的力依賴于氣體的壓力，由測壓元件105測定的載荷根據氣體的壓力而變化。在載荷調整(載荷校準)中，一邊階段性地改變氣體的壓力，一邊通過測壓元件105測定模擬輥115的載荷，來確定氣體的壓力與所對應的載荷的相關關系。能夠根據供給于汽缸135的氣體的壓力來推定在晶片W的清洗中從輥型清洗件施加于晶片W的載荷。
[0015]當載荷調整(載荷校準)終止后，從輥軸130拆下模擬輥115，并將輥型清洗件安裝于輥軸130，而進行晶片W的清洗。圖14表示被按壓于晶片W時的輥型清洗件。輥型清洗件140由聚乙烯醇(PVA)等柔軟的材料構成，因此在輥型清洗件140被按壓于晶片W時，輥型清洗件140的下部被壓扁。
[0016]如圖14所示，由于模擬輥115比輥型清洗件140硬，即使汽缸135產生的力相同，被按壓于測壓元件105時的模擬輥115的高度與被按壓于晶片W時的輥型清洗件140的高度存在高度差d。該高度差d使彈簧132的反彈力產生差異，結果是使用模擬輥115測定的載荷與使用輥型清洗件140清洗晶片W時的載荷之間會產生差異。

【發明內容】

[0017]本發明為了解決上述問題點而作出，其目的是提供能夠準確地測定施加于晶片等基板的輥型清洗件的載荷的載荷測定裝置以及載荷測定方法。
[0018]用于解決課題的手段
[0019]為了達到上述目的，本發明的一技術方案的特點在于，一種載荷測定裝置，用于測定從輥型清洗件施加于基板的載荷，具備:防水型測壓元件，該防水型測壓元件具有與所述基板的直徑相同長度的載荷測定面；以及基臺板，該基臺板對所述防水型測壓元件進行支承。
[0020]本發明優選的技術方案的特點在于，所述載荷測定面是平坦的面。
[0021]本發明優選的技術方案的特點在于，在所述基臺板的緣部形成有多個圓弧狀的缺口部，從所述基臺板的中心點到所述圓弧狀的缺口部的距離與所述基板的半徑相等。
[0022]本發明的另一技術方案的特點在于，一種載荷測定方法，測定從輥型清洗件施加于基板的載荷，通過基板保持機構保持具備防水型測壓元件的載荷測定裝置，所述防水型測壓元件具有與所述基板的直徑相同長度的載荷測定面，一邊使所述輥型清洗件繞其軸心旋轉，一邊將該輥型清洗件按壓于所述防水型測壓元件，一邊向旋轉的所述輥型清洗件供給清洗液，一邊測定從該輥型清洗件施加于所述防水型測壓元件的載荷。
[0023]本發明優選的技術方案的特點在于，還包含:測定旋轉的所述輥型清洗件被按壓于所述防水型測壓元件時的該輥型清洗件的壓扁量的工序。
[0024]本發明優選的技術方案的特點在于，一邊改變將所述輥型清洗件按壓于所述防水型測壓元件的力，一邊反復進行所述載荷的測定和所述輥型清洗件的壓扁量的測定，從而取得所述載荷的多個測定值和所述壓扁量的多個測定值，從所述載荷的多個測定值和所述壓扁量的多個測定值導出所述載荷與所述輥型清洗件的壓扁量的關系。
[0025]本發明優選的技術方案的特點在于，一邊改變所述輥型清洗件的旋轉速度，一邊反復進行所述載荷的測定，從而取得所述載荷的多個測定值，從所述載荷的多個測定值和所述輥型清洗件的對應的旋轉速度導出所述載荷與所述輥型清洗件的旋轉速度的關系。
[0026]發明效果
[0027]根據上述載荷測定裝置以及載荷測定方法，能夠使用在基板的清洗中實際所使用的輥型清洗件來測定輥型清洗件的載荷。尤其是，在載荷的測定中，能夠使輥型清洗件旋轉，并且對輥型清洗件供給清洗液，因此防水型測壓元件能夠在與基板清洗相同的條件下測定輥型清洗件的載荷。此外，防水型測壓元件的載荷測定面具有與基板的直徑相同的長度，因此載荷測定時的輥型清洗件的壓扁量與基板清洗時的輥型清洗件的壓扁量相同。因此，能夠消除實際清洗基板時的輥型清洗件的載荷與由防水型測壓元件測定出的載荷之差。
【附圖說明】
[0028]圖1是表示基板清洗裝置的立體圖。
[0029]圖2是表示用于測定輥型海綿的載荷的載荷測定裝置的立體圖。
[0030]圖3是載荷測定裝置的俯視圖。
[0031 ]圖4是載荷測定裝置的主視圖。
[0032]圖5是表示載荷測定裝置安設于基板清洗裝置的狀態的俯視圖。
[0033]圖6是表示安設于基板清洗裝置的載荷測定裝置在測定輥型海綿的載荷時的樣子的主視圖。
[0034]圖7是表示圖6所示的載荷測定裝置的側視圖。
[0035]圖8是表示輥型海綿被按壓于以往的載荷測定夾具所使用的測壓元件的狀態的側視圖。
[0036]圖9是表示以往的載荷測定夾具的俯視圖。
[0037]圖10是圖9所示的載荷測定夾具的主視圖。
[0038]圖11是表示安設于清洗裝置的載荷測定夾具的俯視圖。
[0039]圖12是表示安設于清洗裝置的載荷測定夾具在測定載荷時的樣子的主視圖。
[0040]圖13是表示圖12所示的載荷測定夾具的側視圖。
[0041]圖14是表示被按壓于測壓元件時的模擬輥的高度與被按壓于晶片時的輥型清洗件的高度的高度差的圖。
[0042]符號說明
[0043]1、2、3、4 保持輥
[0044]5基板保持機構
[0045]7、8輥型海綿(輥型清洗件)
[0046]11、12輥旋轉機構
[0047]15、16上側純水供給噴嘴
[0048]20、21上側清洗液供給噴嘴
[0049]27載荷產生機構
[0050]30測壓元件[0051 ]30a載荷測定面
[0052]31基臺板
[0053]35 線纜
[0054]38載荷指示器
[0055]40薄壁部
[0056]41 缺口部
[0057]50 輥軸
[0058]52 彈簧
[0059]55位移傳感器
[0060]66動作控制器[0061 ]67壓力調節器
【具體實施方式】
[0062]以下，參照附圖對本發明的實施方式進行說明。
[0063]圖1是表示基板清洗裝置的立體圖。如圖1所示，基板清洗裝置具備:基板保持機構5，該基板保持機構5具備保持作為基板的一例的晶片W的周緣部并使晶片W繞其軸心旋轉的四個保持輥1、2、3、4;圓筒狀的輥型海綿(輥型清洗件)7、8，該輥型海綿7、8與晶片W的上下表面接觸;輥旋轉機構11、12，該輥旋轉機構11、12使上述輥型海綿7、8繞其軸心旋轉;上側純水供給噴嘴15、16，該上側純水供給噴嘴15、16向晶片W的上表面供給純水；以及上側清洗液供給噴嘴20、21，該上側清洗液供給噴嘴20、21向晶片W的上表面供給清洗液(藥液)。雖未圖示，但設有向晶片W的下表面供給純水的下側純水供給噴嘴，向晶片W的下表面供給清洗液(藥液)的下側清洗液供給噴嘴。
[0064]輥型海綿7、8的軸心與保持于保持輥1、2、3、4的晶片W的表面平行地延伸。保持輥
1、2、3、4能夠通過未圖示的驅動機構(例如汽缸)而向接近以及遠離晶片W的方向移動。此外，保持輥1、2、3、4中的至少2個與未圖示的輥旋轉機構連結。
[0065]使上側的輥型海綿7旋轉的輥旋轉機構11安裝于對其上下方向的移動進行引導的導軌25 ο該輥旋轉機構11支承于載荷產生機構27，輥旋轉機構11以及上側的輥型海綿7通過載荷產生機構27而沿上下方向移動。此外，雖未圖示，但使下側的輥型海綿8旋轉的輥旋轉機構12也支承于導軌，輥旋轉機構12以及下側的輥型海綿8通過載荷產生機構進行上下移動。作為載荷產生機構，使用例如采用了滾珠絲杠的電動機驅動機構或汽缸。在清洗晶片W時，輥型海綿7、8向彼此接近的方向移動而與晶片W的上下表面接觸。作為輥型清洗件，有時也取代輥型海綿而使用輥型刷。
[0066]接著，對清洗晶片W的工序進行說明。在晶片W的周緣部保持于保持輥1、2、3、4的狀態下，保持輥1、2、3、4中的至少2個通過輥旋轉機構(未圖示)而旋轉，由此，晶片W繞其軸心旋轉。接下來，從上側清洗液供給噴嘴20、21以及未圖示的下側清洗液供給噴嘴向晶片W的上表面以及下表面供給清洗液。在該狀態下，輥型海綿7、8—邊繞其軸心旋轉，一邊與晶片W的上下表面滑動接觸，由此清洗晶片W的上下表面。
[0067]在晶片W的清洗后，從上側純水供給噴嘴15、16以及未圖示的下側純水供給噴嘴向旋轉的晶片W供給純水，由此進行晶片W的洗滌(漂洗)。晶片W的漂洗可以一邊使輥型海綿7、8與晶片W的上下表面滑動接觸一邊進行，也可以在使輥型海綿7、8離開晶片W的上下表面的狀態下進行。
[0068]圖2是表示用于測定圖1所示的輥型海綿7、8的載荷的載荷測定裝置的立體圖。該載荷測定裝置在測定輥型海綿7、8的載荷時安設于基板清洗裝置。如圖2所示，載荷測定裝置具備:用于測定載荷的測壓元件30;安裝有測壓元件30的基臺板31;以及經由線纜35而與測壓元件30連接的載荷指示器38。
[0069]測壓元件30具有長方形的載荷測定面30a。在測定上側的棍型海綿7的載荷時，載荷測定裝置以載荷測定面30a向上的狀態保持于基板保持機構5(參照圖1)，在測定下側的棍型海綿8的載荷時，載荷測定裝置以載荷測定面30a向下的狀態保持于基板保持機構5。由測壓元件30測定出的載荷顯示于載荷指示器38。在將載荷測定數據輸送至數據記錄器的情況下，優選的是載荷指示器38具備能夠將載荷測定值作為模擬值輸出的模擬輸出端子。
[0070]測壓元件30是能夠完全防止液體的進入的防水型測壓元件。測壓元件30優選的是具有IP66以上的防水構造。IP是指表示對于粉塵以及液體的進入的保護等級的標準。測壓元件30的載荷測定面30a的長度方向的尺寸(即載荷測定面30a的長度)與晶片W的直徑相同。例如，若晶片W的直徑為300mm，則載荷測定面30a的長度為300mm，若晶片W的直徑為450mm，則載荷測定面30a的長度為450mm。該載荷測定面30a由沒有凹凸的平坦的面構成。
[0071]線纜35使用被柔軟的防水覆膜覆蓋的線纜。只要有一定程度的強度，優選的是線纜35盡可能細。線纜35與測壓元件30連接，因此在測壓元件30測定載荷時當對線纜35施加外力時，載荷測定值會變化。因此，為了防止上述情況，線纜35被固定于基臺板31。
[0072]圖3是載荷測定裝置的俯視圖，圖4是載荷測定裝置的主視圖。在圖3、圖4中，省略了線纜35以及載荷指示器38的圖示。在基臺板31的中央部形成有凹部31a，測壓元件30配置于該凹部31a內。測壓元件30與基臺板31配置在同心上。基臺板31優選的是由具有較高的剛性的金屬構成，以使將輥型海綿7按壓于測壓元件30時基臺板31不會撓曲。例如，基臺板31由不銹鋼構成。為了維持較高的剛性，并實現輕量化，也可以在基臺板31上形成減重孔。
[0073]在基臺板31的緣部形成有四個薄壁部40，該薄壁部40具有與晶片W的厚度大致相等的厚度，并在各個薄壁部40上形成有圓弧狀的缺口部41。從基臺板31的中心點O到各缺口部41的距離與晶片W的半徑r相等。包含四個薄壁部40的基臺板31的上表面與測壓元件30的載荷測定面30a處于同一平面內。如圖4所示，也可以在基臺板31的凹部31a與測壓元件30之間配置作為測壓元件30的高度調整部件的墊片44。
[0074]圖5是表示載荷測定裝置安設于基板清洗裝置的狀態的俯視圖。如圖5所示，載荷測定裝置與晶片W相同地保持于基板清洗裝置的基板保持機構(晶片保持座)5。即，基臺板31的四個缺口部41由基板保持機構5的四個保持輥1、2、3、4保持。各缺口部41具有圓弧狀，因此當四個缺口部41由四個保持輥1、2、3、4保持時，達成了測壓元件30相對于輥型海綿7的相對的定位。具體而言，當四個缺口部41由保持輥1、2、3、4保持時，從載荷測定裝置的上方觀察時，測壓元件30的長度方向與輥型海綿7的軸向一致。
[0075]圖6是表示安設于基板清洗裝置的載荷測定裝置在測定輥型海綿7的載荷時的樣子的主視圖，圖7是表示圖6所示的載荷測定裝置的側視圖。載荷的測定在輥型海綿7被按壓于測壓元件30的載荷測定面30a的狀態下進行。如圖7所示，輥型海綿7安裝于輥軸50。輥旋轉機構11與彈簧52以及載荷產生機構27連接，輥軸50、輥型海綿7、以及輥旋轉機構11由彈簧52支承。
[0076]載荷產生機構27克服彈簧52的反彈力而使輥型海綿7下降，由此將輥型海綿7按壓于測壓元件30的載荷測定面30a。在本實施方式中，作為載荷產生機構27而使用汽缸。在輥旋轉機構11的上方配置有位移傳感器55。該位移傳感器55是測定輥型海綿7向下方的位移的裝置。作為位移傳感器55，可以采用非接觸型的光學式位移傳感器，也可以采用接觸型的測距儀。
[0077]輥型海綿7由聚乙烯醇(PVA)等比較柔軟的材料構成。因此，如圖6所示，當輥型海綿7被按壓于測壓元件30的載荷測定面30a時，輥型海綿7的下部被壓扁(變形)。輥型海綿7的載荷測定以及晶片的清洗在這樣的輥型海綿7的下部被壓扁的狀態下進行。輥型海綿7的壓扁量(變形量)能夠由位移傳感器55測定。
[0078]測壓元件30的載荷測定面30a具有與晶片W的直徑相同的尺寸，因此載荷測定時的輥型海綿7的壓扁量與晶片清洗時的輥型海綿7的壓扁量相同。圖9所示的用于以往的載荷測定夾具的測壓元件105的長度為晶片W的直徑的大致一半。當使用這種較短的測壓元件105測定載荷時，如圖8所示，輥型海綿7比晶片清洗時更大地被壓扁。該壓扁量的差異使彈簧52的反彈力產生差異，結果是使用輥型海綿7測定出的載荷與使用輥型海綿7清洗晶片時的載荷之間會產生差異。
[0079]根據本實施方式，測壓元件30的載荷測定面30a具有與晶片W的直徑相同的尺寸，因此載荷測定時的輥型海綿7的壓扁量與晶片W的清洗時的輥型海綿7的壓扁量相同。因此，能夠消除實際清洗晶片W時輥型海綿7的載荷與由測壓元件30測定出的載荷的差異。
[0080]輥型海綿7的載荷測定如下那樣進行。將載荷測定裝置搬入基板清洗裝置，通過基板保持機構5的保持棍1、2、3、4保持載荷測定裝置。測壓元件30相對于棍型海綿7的定位在通過保持輥1、2、3、4保持了載荷測定裝置的缺口部41時完成。與晶片清洗不同，在載荷測定中載荷測定裝置不旋轉。
[0081 ]接著，一邊使輥型海綿7繞其軸心旋轉，一邊通過載荷產生機構27將輥型海綿7按壓于測壓元件30。此外，從上側清洗液供給噴嘴20、21向旋轉的輥型海綿7供給清洗液，并測定從棍型海綿7施加于測壓元件30的載荷。
[0082]根據本實施方式，能夠使用晶片W清洗時實際所使用的輥型海綿7來測定輥型海綿7的載荷。尤其是，測壓元件30是能夠完全防止清洗液的進入的防水型測壓元件，因此在載荷的測定中能夠與晶片W的清洗時相同地將清洗液供給于輥型海綿7。
[0083]在進行晶片W的清洗時，輥型海綿7以包含清洗液的狀態旋轉。因此，施加于晶片W的載荷由于離心力的作用而依賴于輥型海綿7的旋轉速度地變化。更具體而言，當輥型海綿7的旋轉速度(離心力)增加時，輥型海綿7的變形無法追隨旋轉速度。結果是輥型海綿7的壓扁量變小，彈簧52的反彈力變大。因此，即使載荷產生機構27將輥型海綿7按壓于晶片的力相同，施加于晶片W的載荷也會依賴于輥型海綿7的旋轉速度而變化。在本實施方式中，測壓元件30的載荷測定面30a是與晶片表面相同的平坦的面，因此能夠與晶片W的清洗時相同地，在載荷測定時使輥型海綿7旋轉。因此，測壓元件30能夠在與晶片W的清洗時相同的條件下，測定輥型海綿7的載荷。
[0084]載荷產生機構27將輥型海綿7按壓于測壓元件30的力，即供給至構成載荷產生機構27的汽缸的氣體的壓力由壓力調節器67(參照圖7)調整。壓力調節器67以及輥旋轉機構11與動作控制器66連接，載荷產生機構27以及輥旋轉機構11的動作由動作控制器66控制。載荷產生機構27產生的力以及輥型海綿7的旋轉速度由動作控制器66控制。
[0085]階段性地改變供給于載荷產生機構27的氣體的壓力并進行多次輥型海綿7的載荷的測定。輥型海綿7的載荷與氣體的壓力的關系能夠根據由測壓元件30得到的載荷的多個測定值與所對應的氣體的壓力導出。
[0086]位移傳感器55也與動作控制器66連接，由位移傳感器55取得的輥型海綿7的壓扁量(變形量)的測定值被送至動作控制器66。輥型海綿7的壓扁量的測定與輥型海綿7的載荷測定一起進行多次。即，一邊階段性地改變供給于載荷產生機構27的氣體的壓力，一邊反復進行輥型海綿7的載荷的測定以及輥型海綿7的壓扁量的測定，從而取得載荷的多個測定值和所對應的壓扁量的多個測定值。如上所述，一邊使輥型海綿7繞其軸心旋轉，一邊對旋轉的輥型海綿7供給清洗液地進行輥型海綿7的載荷的測定以及輥型海綿7的壓扁量的測定。
[0087]輥型海綿7的載荷與輥型海綿7的壓扁量的關系能夠根據載荷的多個測定值和壓扁量的多個測定值導出。使用者能夠選擇最適合于晶片的清洗的輥型海綿7的載荷與輥型海綿7的壓扁量的組合，此外，對于具有相同的構造的后續的晶片的清洗，也能夠適用所選擇的最適合的組合。
[0088]此外，一邊改變輥型海綿7的旋轉速度，一邊反復進行輥型海綿7的載荷的測定，從而取得載荷的多個測定值，也能夠根據載荷的多個測定值和與輥型海綿7對應的旋轉速度導出輥型海綿7的載荷與輥型海綿7的旋轉速度的關系。在該情況下，載荷產生機構27產生的力保持為一定。
[0089]輥型海綿7的載荷與氣體的壓力的關系，輥型海綿7的載荷與輥型海綿7的壓扁量的關系，以及輥型海綿7的載荷與輥型海綿7的旋轉速度的關系能夠使用動作控制器66或外部的計算機等計算器來導出。
[0090]下側的輥型海綿8對晶片的載荷的測定在載荷測定面30a向下的狀態下進行，即，在載荷測定面30a向下的狀態下，載荷測定裝置保持于基板保持機構5。其他動作與上述上側的輥型海綿7的載荷測定相同。
[0091]上述實施方式以具有本發明所屬的技術領域的通常的知識者能夠實施本發明為目的而記載。上述實施方式的各種變形例，只要是本領域技術人員，當然能夠想到，本發明的技術思想也能夠適用于其他實施方式。因此，本發明不限定于所記載的實施方式，能夠按照在由權利要求書定義的技術思想的最大的范圍內解釋。
【主權項】
1.一種載荷測定裝置，用于測定從輥型清洗件施加于基板的載荷，該載荷測定裝置的特征在于，具備: 防水型測壓元件，該防水型測壓元件具有與所述基板的直徑相同長度的載荷測定面；以及 基臺板，該基臺板對所述防水型測壓元件進行支承。2.根據權利要求1所述的載荷測定裝置，其特征在于， 所述載荷測定面是平坦的面。3.根據權利要求1或2所述的載荷測定裝置，其特征在于， 在所述基臺板的緣部形成有多個圓弧狀的缺口部，從所述基臺板的中心點到所述圓弧狀的缺口部的距離與所述基板的半徑相等。4.一種載荷測定方法，測定從棍型清洗件施加于基板的載荷，該載荷測定方法的特征在于， 通過基板保持機構保持具備防水型測壓元件的載荷測定裝置，所述防水型測壓元件具有與所述基板的直徑相同長度的載荷測定面， 一邊使所述輥型清洗件繞其軸心旋轉，一邊將該輥型清洗件按壓于所述防水型測壓元件， 一邊向旋轉的所述輥型清洗件供給清洗液，一邊測定從該輥型清洗件施加于所述防水型測壓元件的載荷。5.根據權利要求4所述的載荷測定方法，其特征在于，還包含: 測定旋轉的所述輥型清洗件被按壓于所述防水型測壓元件時的該輥型清洗件的壓扁量的工序。6.根據權利要求5所述的載荷測定方法，其特征在于， 一邊改變將所述輥型清洗件按壓于所述防水型測壓元件的力，一邊反復進行所述載荷的測定和所述輥型清洗件的壓扁量的測定，從而取得所述載荷的多個測定值和所述壓扁量的多個測定值， 從所述載荷的多個測定值和所述壓扁量的多個測定值導出所述載荷與所述輥型清洗件的壓扁量的關系。7.根據權利要求5所述的載荷測定方法，其特征在于， 一邊改變所述輥型清洗件的旋轉速度，一邊反復進行所述載荷的測定，從而取得所述載荷的多個測定值， 從所述載荷的多個測定值和所述輥型清洗件的對應的旋轉速度導出所述載荷與所述輥型清洗件的旋轉速度的關系。
【文檔編號】H01L21/67GK105914166SQ201610092048
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年2月19日
【發明人】田中英明
【申請人】株式會社荏原制作所