基板處理裝置的制造方法
【專利摘要】一種基板處理裝置，能夠抑制基板的抖動以及輸送偏移。基板處理裝置(1)具備：在處理室(2)內以夾著輸送路(H)的方式在輸送路的上下分別設置，分別朝輸送路吹送氣體的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及設置在處理室內并對氣體的流動進行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器設置成分別具有長條狀的吹出口(13)，吹出口的長度方向在水平面內相對于基板(W)的輸送方向(Ha)朝相同的方向傾斜，吹出口朝基板的輸送方向的上游側吹出氣體。整流板設置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于輸送路的下方且朝基板的輸送方向的下游側傾倒，將氣體的流動分成沿著第1面的流動和沿著第2面的流動。
【專利說明】
基板處理裝置
技術領域
[0001]本發明的實施方式涉及基板處理裝置。
【背景技術】
[0002]作為在液晶、玻璃罩等的制造工序中使用的基板處理裝置，開發出了如下的基板處理裝置:利用處理液(例如藥液、清洗液等)對基板進行處理，然后通過吹送氣體來對基板進行干燥處理。并且，還開發出了通過吹送氣體(例如處理氣體等)來對基板進行處理的基板處理裝置。這種基板處理裝置一邊在處理室(處理槽)內利用多個旋轉輥輸送基板、一邊朝基板吹送氣體而進行基板處理。在處理室中，在基板輸送路的上下具備例如吹拂器等吹送氣體的構件。上方的吹拂器構成為朝斜下方供給氣體，下方的吹拂器構成為朝斜上方供給氣體。
[0003]然而，在上述的處理室中，根據朝基板吹送的氣體的流速、流量等，有時會產生紊流。直至基板被輸送至吹拂器附近為止，從各個吹拂器供給的氣在中途碰撞而匯合，與輸送路大致平行地、且朝與基板輸送方向相反的方向行進。由于在輸送路具備用于輸送基板的輸送輥，因此，與輸送路大致平行地行進的氣體因附壁效應而沿著輸送輥的彎曲面(外周面)趨向下方。趨向下方的氣體與處理室的底部碰撞而成為紊流。該紊流的大部分與被搬入處理室的輸送中途的基板的背面碰撞。
[0004]因此，若基板的厚度變薄(例如若成為數mm或數mm以下的厚度)，則基板自身變輕，因此，存在該自重輕的基板由紊流抬起而抖動的情況。并且，還存在基板因紊流而從輸送路偏離的情況。該基板的抖動、輸送偏移成為弓I起基板的破損(也包括損傷等)、處理不良等的原因。并且，在基板被搬入處理室、且尚未到達吹拂器的階段，若因產生紊流而使基板抖動，則存在當基板到達吹拂器時無法順利地進入上下吹拂器的間隙，而使基板破損的情況。由于上述這些情況，要求抑制基板的抖動以及輸送偏移。
【發明內容】
[0005]本發明所要解決的課題在于提供一種能夠抑制基板的抖動、輸送偏移等輸送不良的基板處理裝置。
[0006]實施方式所涉及的基板處理裝置具備:處理室；輸送部，設置在處理室內，并輸送基板;第I氣體供給部以及第2氣體供給部，在處理室內以夾著輸送基板的輸送路的方式在輸送路的上下分別設置，并分別朝輸送路吹送氣體；以及整流板，設置在處理室內，并對氣體的流動進行整流。第I氣體供給部以及第2氣體供給部設置成:分別具有吹出氣體的長條狀的吹出口，吹出口的長度方向在水平面內相對于基板的輸送方向朝相同的方向傾斜，吹出口朝基板的輸送方向的上游側吹出氣體。整流板設置成:具有第I面以及該第I面的相反面即第2面，位于輸送路的下方且朝基板的輸送方向的下游側傾倒，將氣體的流動分成沿著第I面的流動和沿著第2面的流動。
[0007]實施方式所涉及的基板處理裝置具備:處理室；輸送部，設置在處理室內，并輸送基板;第I氣體供給部以及第2氣體供給部，在處理室內以夾著輸送基板的輸送路的方式在輸送路的上下分別設置，并分別朝輸送路吹送氣體；以及整流板，設置在處理室內，并對氣體的流動進行整流。第I氣體供給部以及第2氣體供給部設置成:分別具有吹出氣體的長條狀的吹出口，吹出口的長度方向在水平面內相對于基板的輸送方向朝相同的方向傾斜，朝基板的輸送方向的上游側吹出氣體。整流板位于輸送路的下方且朝基板的輸送方向的下游側傾倒，且設置于處理室的底面。
[0008]根據上述實施方式所涉及的基板處理裝置，能夠抑制基板的抖動、輸送偏移等輸送不良。
【附圖說明】
[0009]圖1是示出第I實施方式所涉及的基板處理裝置的概要結構的橫剖視圖。
[0010]圖2是示出第I實施方式所涉及的基板處理裝置的概要結構的縱剖視圖(圖1的Al — Al線位置處的剖視圖)。
[0011]圖3是用于對第I實施方式所涉及的氣體的流動進行說明的說明圖。
[0012]圖4是示出第2實施方式所涉及的基板處理裝置的概要結構的縱剖視圖。
[0013]圖5是示出第3實施方式所涉及的基板處理裝置的概要結構的縱剖視圖。
[0014]圖6是示出其他實施方式所涉及的基板處理裝置的概要結構的剖視圖。
【具體實施方式】
[0015](第丨實施方式)
[0016]參照圖1至圖3對第I實施方式進行說明。
[0017]如圖1以及圖2所示，一個實施方式所涉及的基板處理裝置I具備:對基板W進行處理的處理室2;輸送基板W的輸送部3;朝所輸送的基板W吹送氣體的氣體供給單元4;以及對氣體的流動進行整流的多個整流板5。另外，基板W沿水平面內的預定的輸送方向Ha(例如圖1以及圖2中的右方向)被輸送。
[0018]處理室2是內置有輸送基板W的輸送路H(參照圖2)的框體。輸送路H位于處理室2的上下方向的大致中央。作為基板W，多使用例如玻璃等矩形狀的基板，該基板W的厚度作為一例為0.5mm左右。并且，輸送至處理室2內之前的基板W的兩面(圖2中的上下面)例如被清洗液等液體浸潤。另外，在處理室2內產生下降流(垂直層流)，并且，在處理室2的底面Ml形成有排出從基板W被除去的液體的排出口(未圖不)。
[0019]輸送部3具備長條狀的多個輸送輥3a，通過輸送輥3a的旋轉來輸送被放置于上述輸送輥3a上的基板W。各輸送輥3a設置成能夠旋轉，且以與基板W的輸送方向Ha在水平面內正交的方式以預定間隔排列，形成基板W的輸送路H。上述輸送輥3a分別由多個輥11和保持這些輥11的軸12構成，各輸送輥3a形成為相互同步旋轉的構造。另外，輸送輥3a的配置間隔根據基板W的尺寸決定，各輸送輥3a避開輸送路H中的氣體供給位置而設置，以免妨礙氣體供給單元4對基板W的氣體供給。
[0020]氣體供給單元4具備以夾著輸送路H的方式在輸送路H的上下對置的分別各設置有一個的第I吹拂器(第I氣體供給部)4a以及第2吹拂器(第2氣體供給部)4b。第I吹拂器4a從上方位置朝輸送路H排出氣體(例如空氣、氮氣等)，第2吹拂器4b從下方位置朝輸送路H排出氣體(例如空氣、氮氣等)。該氣體供給單元4從第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b朝輸送路H吹送氣體，使在該輸送路H通過的基板W的兩面干燥。
[0021 ] 第I吹拂器4a具有吹出氣體的長方形狀的吹出口(長條狀的吹出口)13，且以吹出口 13朝基板W的輸送方向Ha的上游側吹出氣體的方式設置在輸送路H的上方位置。詳細地說，如圖1所示，第I吹拂器4a以橫截輸送路H、并且相對于第I吹拂器4a的上位側的端部而下位側的端部位于輸送方向Ha的下游側的方式，傾斜角度Θ1 (例如70度)而設置。此外，第I吹拂器4a以吹出口 13朝向下方、且朝輸送方向Ha的上游側吹出氣體的方式配置，如圖2所示，第I吹拂器4a的與吹出口 13相反側的端部側朝輸送方向Ha的下游側傾斜角度Θ2(例如50度以上70度以下的范圍內)而設置。第I吹拂器4a的吹出口 13與輸送中的基板W的表面之間的在鉛垂方向的離開距離(空隙)G為數_ (例如3mm)左右。
[0022]第2吹拂器4b也具有吹出氣體的長方形狀的吹出口(長條狀的吹出口)13，且以吹出口 13朝基板W的輸送方向Ha的上游側吹出氣體的方式設置在輸送路H的下方位置。該第2吹拂器4b以與第I吹拂器4a同樣(與第I吹拂器4a相同的方向以及相同的角度)的方式傾斜，第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b的吹出口對置。
[0023]如圖1所示，各整流板5分別形成為長方形的板形狀，且以在水平面內與基板W的輸送方向Ha正交的方式相互獨立地設置在輸送路H的下方。上述整流板5在基板W的輸送方向Ha依次錯開預定距離而以沿著吹出口 13的長度方向的方式排列(全都依次錯開相同的距離地配置)ο例如，各整流板5以連結它們的中心的假想線I與吹出口 13的長度方向平行的方式排列。各整流板5遍及基板W的寬度(與基板W的輸送方向Ha在水平面內正交的方向上的長度)的整個區域配置。另外，使整流板5在輸送方向Ha上錯開的預定距離是使得在圖1的俯視圖中整流板5的右邊與下游側的鄰接的整流板5的左邊位于同一直線上的距離(圖1的俯視圖中的整流板5的輸送方向Ha上的寬度)L。
[0024]此外，如圖2所示，各整流板5分別具有第I面5a以及該第I面5a的相反面即第2面5b。上述整流板5的上端側朝基板W的輸送方向Ha的下游側傾倒而相對于輸送路H(處理室2的底面Ml)傾斜預定角度Θ3(例如50度以上70度以下的范圍內)，以將氣體的流動分成沿著第I面5a的流動和沿著第2面5b的流動的方式在處理室2的底面Ml分別獨立地設置。另外，上述多個整流板5的各傾斜角度Θ3全都為相同的角度。整流板5與第I吹拂器4a(或者第2吹拂器4b)之間的離開距離設定成能夠遮擋后述的紊流的距離。另外，作為整流板5的材料，例如能夠使用聚氯乙烯(聚氯乙烯樹脂)。
[0025]此處，在上述的處理室2，設置有形成積存由各整流板5整流后的氣體的空間(氣體的積存場所)的底室2a以及從該底室2a內將氣體排出的多個排氣口 2b。
[0026]底室2a位于相比所有的整流板5更靠基板W的輸送方向Ha的上游側，且在處理室2內位于與第I吹拂器4a的吹出口 13對置的部位即角部部分(例如圖1中的處理室2的左角部分)，且設置于處理室2的底面Ml。該底室2a形成為長條狀的箱形狀，且以長度方向與輸送方向Ha在水平面內正交的方式配置。底室2a的開口的長度方向的長度LI比設置好的第I吹拂器4a (或者第2吹拂器4b)的吹出口 13的與基板W的輸送方向Ha在水平面內正交的方向上的長度(設置寬度)L2的一半的長度短(例如比基板W的寬度的一半短)。
[0027]各排氣口2b沿與基板W的輸送方向Ha在水平面內正交的方向排列，且分別形成于底室2a的底面，將由各整流板5整流后的氣體排出。上述排氣口2b經由連接管(均未圖示)等與車間等的現存的排氣裝置連接，處理室2內的氣體從各排氣口 2b抽吸而排出。
[0028]其次，對上述的基板處理裝置I所進行的基板處理(例如干燥處理)進行說明。
[0029]在基板處理中，輸送部3的各輸送輥3a旋轉，這些輸送輥3a上的基板W沿預定的輸送方向Ha被輸送，沿著輸送路H移動。對于該輸送路H中的氣體供給位置，預先從其上方利用第I吹拂器4a吹出干燥用的氣體，此外，還從下方利用第2吹拂器4b吹出干燥用的氣體。在該吹出狀態下，若基板W通過輸送路H中的氣體供給位置、即第I吹拂器4a與第2吹拂器4b之間，則基板W的上下表面被吹送氣體而將附著于基板W的液體吹飛，基板W表面變干燥。此時，附著于基板W的表面(上表面以及下表面)的液體通過氣體的吹送而沿著從基板W表面的右上角朝向左下角的方向(圖1的俯視圖)移動，因此，基板W的上下表面分別從右上角朝左下角而依次干燥。
[0030]根據該基板處理，在基板W到達輸送路H中的氣體供給位置之前(干燥處理前)，從第I吹拂器4a吹出的氣體被朝輸送路H的下方吹送、從第2吹拂器4b吹出的氣體被朝輸送路H的上方吹送。來自這些第I吹拂器4a、第2吹拂器4b的氣體分別碰撞、匯合而在基板W的輸送路H上部附近沿與輸送方向Ha平行且相反的方向前進。此時，基板W尚未到達第I吹拂器4a和第2吹拂器4b附近的輸送路H，因此輸送輥3a的輥11以及軸12并不保持基板W而存在。因此，當來自第I吹拂器4a和第2吹拂器4b的氣體匯合而成的氣團流動至輥11或者軸12附近時，在輥11或者軸12的彎曲面(外周面)產生附壁效應，來自第I吹拂器4a、第2吹拂器4b的氣團幾乎全部沿著輥11或者軸12的彎曲面一口氣朝處理室2的下方流動。朝處理室2的下方流動的氣體在與底面Ml碰撞后，形成紊流而欲朝處理室2的上方流動。但是，由于以妨礙該紊流朝處理室2的上方流動的方式配置有整流板5，因此能夠抑制氣體與基板W的背面碰撞。
[0031]如圖3所示，來自第I吹拂器4a和第2吹拂器4b的氣體匯合而成的氣團分成沿著各整流板5的第I面5a的流動、和在與底面Ml碰撞后又與第2面5b碰撞的流動。各氣體容易以沿著第I面5a以及第2面5b的方式分開流動、然后以沿著處理室2的底面Ml的方式流動。在圖3中，沿著第I面5a的流動用白箭頭表示，沿著其背面即第2面5b的流動用黑箭頭表示。但是，圖3只是示出氣體的流動的形象，也存在與實際的流動不同的部分。沿著第I面5a流動的氣體容易以沿著處理室2的底面Ml的方式流動(參照圖3中的白箭頭)，沿著第2面5b流動的氣體容易與沿著鄰接的整流板5的第I面5a流動來的氣體混合并以沿著處理室2的底面Ml的方式流動(參照圖3中的黑箭頭)。隨后，由各整流板5整流后的氣體積存在底室2a，并從該底室2a內的各排氣口 2b排出。這樣，能夠抑制產生紊流而朝處理室2的上方流動，因此能夠抑制基板W的抖動以及輸送偏移。
[0032]接著，在從基板W到達輸送路H中的氣體供給位置起至通過氣體供給位置為止(干燥處理中)，從第I吹拂器4a吹出的氣體由基板W的上表面遮擋，但從第2吹拂器4b吹出的氣體由基板W的下表面遮擋并朝輸送路H的下方流動。該氣體也在不存在整流板5的情況下成為與處理室2的底部碰撞并朝輸送路H反射的流動，成為在輸送路H的下方產生紊流而基板W(尤其是基板W的輸送方向Ha下游側部分)抖動的原因。但是，與上述同樣(參照圖3)，由于借助各整流板5而以沿著各個第I面5a以及第2面5b的方式分開流動，因此，與不經由整流板5而直接與處理室2的底面Ml碰撞的情況相比較，容易沿著處理室2的底面Ml流動。沿著第I面5a流動的氣體容易以沿著處理室2的底面Ml的方式流動(參照圖3中的白箭頭)，沿著第2面5b流動的氣體容易與沿著鄰接的整流板5的第I面5a流動來的氣體混合并以沿著處理室2的底面Ml的方式流動(參照圖3中的黑箭頭)。然后，由各整流板5整流后的氣體積存在底室2a，并從該底室2a內的各排氣口 2b排出。這樣，能夠抑制產生紊流而朝處理室2的上方流動，因此能夠抑制基板W的抖動以及輸送偏移。并且，也能夠抑制附著于基板W的液體成為霧狀的液體、并借助紊流舞動而再次附著于基板W的下表面的情況。
[0033]并且，由于整流板5設置于處理室2的底面Ml，因此在整流板5與處理室2的底面Ml之間不存在間隙，能夠防止氣體在該間隙通過。因此，能夠抑制通過間隙而流速進一步增大后的氣體朝輸送路H流動這樣的氣流的產生，因此能夠抑制新的紊流的產生。但是，根據氣流的量、速度等，存在即便不將整流板5設置于處理室2的底面Ml而形成為使其從該底面Ml浮起的狀態也能夠抑制紊流的產生的情況。在該情況下，即便使整流板5與處理室2的底面Ml之間產生間隙也無妨，但為了可靠地抑制紊流的產生，優選將整流板5設置于處理室2的底面Ml ο
[0034]如以上所說明了的那樣，根據一個實施方式，整流板5設置成位于輸送路H的下方且朝基板W的輸送方向Ha的下游側傾倒、將氣體的流動分成沿著第I面5a的流動和沿著第2面5b的流動，由此，從氣體供給單元4吹出的氣團朝處理室2的上方的流動被阻止，且隨后以沿著第I面5a以及第2面5b流動的方式被整流。由此，能夠抑制朝輸送路H流動的氣流的產生，能夠抑制紊流的產生，因此能夠抑制基板W的抖動、輸送偏移等輸送不良。
[0035]并且，通過將整流板5設置在處理室2的底面Ml，在整流板5與處理室2的底面Ml之間不存在間隙，能夠防止氣體在該間隙通過。由此，能夠抑制通過間隙后的氣體朝輸送路H流動這樣的氣流的產生，能夠抑制紊流的產生，因此能夠進一步抑制基板W的抖動以及輸送偏移。
[0036](第2實施方式)
[0037]參照圖4對第2實施方式進行說明。另外，在第2實施方式中，對與第I實施方式的不同點(抑制板6以及液體回收板7)進行說明，省略其他的說明。
[0038]如圖4所示，第2實施方式所涉及的基板處理裝置I具備抑制板6以及液體回收板7。抑制板6以將底室2a的開口在短邊方向例如堵塞一半的方式設置在底室2a的上端，抑制經由整流板5被回收的底室2a內的氣體朝上方返回。并且，液體回收板7在底室2a的上方位于從該底室2a的開口離開預定距離的位置，且設置于處理室2的側面M2。該液體回收板7利用其上表面承接并回收從通過輸送路H的基板W朝底室2a飛散的液體。
[0039]另外，利用液體回收板7回收的液體例如從與處理室2的側面M2連接的排出管(未圖示)排出。但是，如果附著于液體回收板7的液體的量為少量，則也可以并不在處理室2的側面M2連接排出管，而在制造停止時或維護時用布、海綿等吸收體從液體回收板7擦去液體。
[0040]如以上所說明了的那樣，根據第2實施方式，能夠得到與第I實施方式同樣的效果。并且，通過設置抑制板6，能夠抑制底室2a內的氣體朝上方返回，能夠抑制紊流的產生，因此能夠可靠地抑制基板W的抖動、輸送偏移等輸送不良。
[0041 ]此外，通過設置液體回收板7，能夠承接并回收從通過輸送路H的基板W朝底室2a飛散的液體，因此能夠抑制液體侵入各排氣口 2b內，能夠抑制因排氣不良等不良情況而引起的紊流的產生。
[0042](第3實施方式)
[0043]參照圖5對第3實施方式進行說明。另外，在第3實施方式中，對與第I實施方式以及第2實施方式的差異點進行說明，省略其他的說明。
[0044]如圖5所示，對于第3實施方式所涉及的基板處理裝置I，設置有多個的整流板中的、位于輸送方向Ha的最上游側的整流板51的傾斜角度與其他的整流板5不同。整流板51的傾斜角度設置成朝第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b側大幅傾斜(即底面Ml與第2面51b之間的角度小)。通過像這樣設置最上游側的整流板51，能夠更有效地抑制基板W的抖動。如上所述，當基板W未到達氣體供給位置時，來自第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b的氣體匯合而成的氣團由多個整流板5以及整流板51整流。分成沿著整流板5的第I面5a的流動和沿著第2面5b的流動，并以沿著處理室2的底面Ml的方式流動。除此之外，在第I吹拂器4a、第2吹拂器4b的吹出口 13中，從距各排氣口2b最遠的位置吹出的氣體被分成沿著整流板51的第I面51a的流動和沿著第2面51b的流動。此處，整流板51的第2面51b與底面Ml之間的區域比其他整流板5的第2面5b與底面Ml之間的區域窄。由此，沿著整流板51的第2面51 b流動的氣體的流速顯著高于沿著整流板5的第2面5b流動的氣體的流速。即便是對于從第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b的吹出口 13中的距排氣口 2b最遠的位置吹出的氣體，也能夠花費與從距各排氣口 2b比較近的位置吹出的氣體相同程度的時間而使其從各排氣口 2b排出。由此，能夠更有效地抑制基板W的抖動、輸送偏移等輸送不良。
[0045](其他實施方式)
[0046]在上述的實施方式中，對排氣口2b僅位于處理室2的底面的例子進行了說明，但并不限于此。圖6是在處理室2內的比輸送部3更靠上方的壁面具有排氣口 20的基板處理裝置I的剖視圖。如圖6所示，排氣口 20在輸送方向Ha的上游側的壁面開口，且借助未圖示的排氣裝置而被排氣。然而，如上所述，在從基板W被搬入處理室2內而輸送開始、直至到達氣體供給位置為止的期間，需要阻礙來自輸送路H的下方的氣體朝處理室2的上方流動。因而，若借助排氣口 20的排氣裝置進行排氣，則無法使處理室2內的氣體的流動集中在底面，因此，此時預先使排氣口 20的排氣裝置停止。若基板W到達氣體供給位置而干燥處理開始，則使排氣口 20的排氣裝置工作。由此，能夠對從第I吹拂器4a吹出并在基板W上反射后的氣體進行排Ho
[0047]如以上所說明了的那樣，即便在這種結構中，也能夠得到與上述的各實施方式同樣的效果。此外，能夠對干燥處理中的處理室2整體的氣流也進行整流，能夠也抑制干燥處理中的基板W的抖動。
[0048]在上述的實施方式中，使第I吹拂器4a(或者第2吹拂器4b)從吹出口13的長度方向與輸送方向Ha在水平面內正交的狀態朝輸送方向Ha的上游側傾倒，但并不限于此，也可以設置成朝相反的下游側傾倒。在該情況下，各整流板5(51)、底室2a、各排氣口2b的位置基于上述的實施方式變更。
[0049]并且，也能夠根據在輸送路H移動的基板W的位置而利用調整部(未圖示)調整第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b中的某一方或者雙方的流量。例如，在基板的前端到達第I吹拂器4a以及第2吹拂器4b的氣體供給位置的情況下，使雙方的流量增大，在基板W的后端到達上述的氣體供給位置的情況下，使雙方的流量(也包括為零)降低(作為一例，僅在基板處理中吹出氣體)。由此，基板W的前端在第I吹拂器4a與第2吹拂器4b之間適當地被輸送，隨后能夠進行處理。
[0050]并且，雖然在處理室2的底面Ml設置底室2a，但并不限于此，例如也可以不設置底室2a而在處理室2的底面Ml設置各排氣口 2b。此外，雖然在底室2a的底面設置各排氣口 2b，但并不限于此，例如也能夠在底室2a的側面設置。
[0051]并且，在上述的各實施方式中，對整流板5(包括51)為4片的例子進行了說明，但并不限于此，根據第I吹拂器4a(或者第2吹拂器4b)的長度來決定其數量即可，只要具備I片以上即可。但是，通過具備多片整流板5，能夠更容易使氣體以沿著處理室2的底面Ml的方式流動。因而，更加能夠抑制基板W的抖動、輸送偏移等輸送不良。
[0052]以上，對本發明的幾個實施方式進行了說明，但上述實施方式只是作為例子加以提示，并非意圖限定發明的范圍。上述新的實施方式能夠以其他各種各樣的方式實施，能夠在不脫離發明的主旨的范圍內進行各種省略、置換、變更。這些實施方式及其變形也包含于發明的范圍、主旨中，且包含于權利要求書所記載的發明及其等同的范圍中。
【主權項】
1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備: 處理室； 輸送部，設置在所述處理室內，并輸送基板； 第I氣體供給部以及第2氣體供給部，在所述處理室內以夾著輸送所述基板的輸送路的方式在所述輸送路的上下分別設置，并分別朝所述輸送路吹送氣體;以及整流板，設置在所述處理室內，并對氣體的流動進行整流， 所述第I氣體供給部以及所述第2氣體供給部設置成:分別具有吹出所述氣體的長條狀的吹出口，所述吹出口的長度方向在水平面內相對于所述基板的輸送方向朝相同的方向傾斜，所述吹出口朝所述基板的輸送方向的上游側吹出所述氣體， 所述整流板設置成:具有第I面以及該第I面的相反面即第2面，位于所述輸送路的下方且朝所述基板的輸送方向的下游側傾倒，將氣體的流動分成沿著所述第I面的流動和沿著所述第2面的流動。2.一種基板處理裝置，其特征在于，具備: 處理室； 輸送部，設置在所述處理室內，并輸送基板； 第I氣體供給部以及第2氣體供給部，在所述處理室內以夾著輸送所述基板的輸送路的方式在所述輸送路的上下分別設置，并分別朝所述輸送路吹送氣體;以及整流板，設置在所述處理室內，并對氣體的流動進行整流， 所述第I氣體供給部以及所述第2氣體供給部設置成:分別具有吹出所述氣體的長條狀的吹出口，所述吹出口的長度方向在水平面內相對于所述基板的輸送方向朝相同的方向傾斜，朝所述基板的輸送方向的上游側吹出所述氣體， 所述整流板位于所述輸送路的下方且朝所述基板的輸送方向的下游側傾倒，且設置在所述處理室的底面。3.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述整流板設置在所述處理室的底面。4.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述整流板以與所述基板的輸送方向在水平面內正交的方式設置有多個， 多個所述整流板以沿著所述第I氣體供給部或者所述第2氣體供給部的所述吹出口的長度方向的方式在所述基板的輸送方向上錯開排列。5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述整流板以與所述基板的輸送方向在水平面內正交的方式設置有多個， 多個所述整流板以沿著所述第I氣體供給部或者所述第2氣體供給部的所述吹出口的長度方向的方式在所述基板的輸送方向上錯開排列。6.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第I氣體供給部位于所述輸送路的上方， 所述處理室具有多個排氣口，該多個排氣口位于相比所述整流板靠所述基板的輸送方向的上游側的位置，形成在所述處理室的底面、且是與所述第I氣體供給部的所述吹出口對置的部位，將由所述整流板整流后的所述氣體排出。7.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第I氣體供給部位于所述輸送路的上方， 所述處理室具有多個排氣口，該多個排氣口位于相比所述整流板靠所述基板的輸送方向的上游側的位置，形成在所述處理室的底面、且是與所述第I氣體供給部的所述吹出口對置的部位，將由所述整流板整流后的所述氣體排出。8.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第I氣體供給部位于所述輸送路的上方， 所述處理室具有底室，該底室位于相比所述整流板靠所述基板的輸送方向的上游側的位置，形成在所述處理室的底面、且是與所述第I氣體供給部的所述吹出口對置的部位，形成積存由所述整流板整流后的所述氣體的空間。9.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第I氣體供給部位于所述輸送路的上方， 所述處理室具有底室，該底室位于相比所述整流板靠所述基板的輸送方向的上游側的位置，形成在所述處理室的底面、且是與所述第I氣體供給部的所述吹出口對置的部位，形成積存由所述整流板整流后的所述氣體的空間。10.根據權利要求4或5所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述多個整流板中的位于所述基板的輸送方向的最上游側的所述整流板相比設置在其他位置的整流板更朝所述第I氣體供給部或者第2氣體供給部側傾斜。11.根據權利要求8或9所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述處理室具有多個排氣口，該多個排氣口設置在所述底室，將由所述整流板整流后的所述氣體排出。12.根據權利要求8或9所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具備抑制板，該抑制板設置在所述底室，抑制所述底室內的氣體朝上方返回。13.根據權利要求8或9所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具備液體回收板，該液體回收板設置在所述底室的上方，承接朝所述底室飛散的液體。
【文檔編號】H01L21/67GK105826168SQ201610046871
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年1月25日
【發明人】高原龍平, 西部幸伸, 磯明典, 坂下健司, 松田大輝
【申請人】芝浦機械電子株式會社