一種微納pss制備用軟膜結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及芯片制造領域，特別涉及一種微納PSS制備用軟膜結構。
【背景技術】
[0002]發光二極管(LED)是一種電光轉換、高效節能、綠色環保、壽命長等優點，在交通指示、戶內外全色顯示、液晶電視背光源等方面有著廣泛的應用，尤其是用LED可以實現半導體固態照明，其有望成為新一代光源進入千家萬戶，引起人類照明史上的革命，其中藍寶石襯底生長氮化鎵外延的藍光LED芯片上涂敷黃光熒光粉，藍光激發熒光粉發出黃光，藍光與黃光混合得到白光，從而用藍光LED得到白光。氮化鎵襯底材料常見有二種，即藍寶石和碳化硅，碳化硅機械加工性能差，價格昂貴以及專利方面的問題使其應用得到限制，因此當前用于氮化鎵外延生長的襯底主要是藍寶石，氮化鎵外延層與藍寶石的晶格失配度相當大，殘余內應力較大，所以在藍寶石上生長氮化鎵容易造成大量的缺陷，而這些缺陷大大降低發光器件發光效率；同時GaN與空氣間存在較大的折射率的差異，光出射角度較小，很大部分被全反射回到LED芯片內部，降低了光的提取效率，增加散熱難度，影響LED器件的可靠性。采用納米級PPS襯底技術可大大降低氮化物材料的位錯的密度，緩和外延生長時產生的殘余內應力，提高內量子效率，光提取效率大大改善。
[0003]在進行微納PSS制備的過程中，為了提高軟膜的使用壽命，現研究出一種新的微納PSS的制備方法，在進行曝光處理時，軟膜只需與膠微接觸即可實現被曝光區域未曝光區，因此針對該工藝的改進，需要研究一種新的軟膜結構。
【發明內容】
[0004]本發明要解決的技術問題是提供一種微納PSS制備用軟膜結構，能夠實現軟膜只需與膠微接觸即可實現被曝光區域未曝光區。
[0005]為解決上述技術問題，本發明的技術方案為:一種微納PSS制備用軟膜結構，其創新點在于:
所述軟膜結構包括一軟膜主體，該軟膜主體呈長方體狀，在軟膜主體的長軸方向的一側設置有梳齒組；
所述梳齒組由若干并列等距分布的梳齒共同構成，在相鄰的兩個梳齒所形成的凹槽的內壁上還設置有高反射金屬層，且高反射金屬層覆蓋住相鄰兩個梳齒所形成的凹槽。
[0006]本發明的優點在于:本發明中的軟膜結構通過在相鄰的梳齒所形成的凹槽的內壁增設高反射金屬層，在進行曝光處理時，光在經過軟膜時，部分光會被高反射金屬層所阻擋，即可形成被曝光區域未曝光區，無需軟膜與膠深入接觸，提高了軟膜的使用壽命。
[0007]通過將高反射金屬層覆蓋住相鄰兩個梳齒所形成的凹槽的設計，避免光在到達膠之間從梳齒的側壁射出的情況，將光完全局限于圖形內，有效的提高圖形分辨率。
【附圖說明】
[0008]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細的說明。
[0009]圖1為本發明的微納PSS制備用軟膜結構的示意圖。
[0010]圖2為利用本發明的微納PSS制備用軟膜結構曝光后膠的示意圖。
【具體實施方式】
[0011]下面的實施例可以使本專業的技術人員更全面地理解本發明，但并不因此將本發明限制在所述的實施例范圍之中。
[0012]如圖1所示的一種微納PSS制備用軟膜結構，包括一軟膜主體1、梳齒組及高反射金屬層3。
[0013]該軟膜主體I呈長方體狀，在軟膜主體I的長軸方向的一側設置有梳齒組。
[0014]梳齒組由若干并列等距分布的梳齒2共同構成，在相鄰的兩個梳齒2所形成的凹槽的內壁上還設置有高反射金屬層3，且高反射金屬層3覆蓋住相鄰兩個梳齒2所形成的凹槽。
[0015]工作原理:在進行曝光時，光線路徑如圖1中箭頭所示，光在經過軟膜時，經過高反射金屬層3的光線會被阻擋，經過梳齒2的光線會順利通過到達膠4處，從而經過曝光處理后的膠4會形成曝光區域5與未曝光區6，如圖2所示。
[0016]另外，當光到達梳齒2處時，即使有部分光線從側方射出時，也會被高反射金屬層3的光線所阻擋，避免出現光到達膠4之前從圖形側壁出射的情況。
[0017]本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
【主權項】
1.一種微納PSS制備用軟膜結構，其特征在于: 所述軟膜結構包括一軟膜主體，該軟膜主體呈長方體狀，在軟膜主體的長軸方向的一側設置有梳齒組； 所述梳齒組由若干并列等距分布的梳齒共同構成，在相鄰的兩個梳齒所形成的凹槽的內壁上還設置有高反射金屬層，且高反射金屬層覆蓋住相鄰兩個梳齒所形成的凹槽。
【專利摘要】本發明涉及一種微納PSS制備用軟膜結構，所述軟膜結構包括一軟膜主體，該軟膜主體呈長方體狀，在軟膜主體的長軸方向的一側設置有梳齒組；？所述梳齒組由若干并列等距分布的梳齒共同構成，在相鄰的兩個梳齒所形成的凹槽的內壁上還設置有高反射金屬層，且高反射金屬層覆蓋住相鄰兩個梳齒所形成的凹槽。本發明的優點在于：本發明中的軟膜結構通過在相鄰的梳齒所形成的凹槽的內壁增設高反射金屬層，在進行曝光處理時，光在進過軟膜時，部分光會被高反射金屬層所阻擋，即可形成被曝光區域未曝光區，無需軟膜與膠深入接觸，提高了軟膜的使用壽命。
【IPC分類】H01L33/22, H01L33/46
【公開號】CN105609607
【申請號】CN201610103729
【發明人】張偉, 孫智江
【申請人】海迪科（南通）光電科技有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2016年2月26日