一種半導體設備用濾風整流裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及半導體行業生產領域,具體地說是一種半導體設備用濾風整流裝置。技術背景
[0002]在半導體前道工藝晶圓的生產過程中,因過程復雜成本高昂,對晶圓產能和合格率要求非常嚴格。在半導體設備實際生產中,會經常因設備內部溫濕度及風流量的不均勻性而導致產能降低、無法滿足產品合格率。這種情況下,作為半導體設備中一種濾風整流裝置可以快速滿足工藝需求,減少設備調整周期。現階段供風系統直接排風至工作區域,風流量不均勻,如圖1所示。而供風系統的不均勻性無法保證晶圓工藝需求,需要進行多次調整,嚴重影響作業時間,降低合格品率。
【發明內容】
[0003]針對上述問題,本發明的目的在于提供一種半導體設備用濾風整流裝置。該裝置解決現有設備因供風系統風流量不均勻而使晶圓工藝精度易受影響的問題。
[0004]為了實現上述目的,本發明采用以下技術方案:
[0005]一種半導體設備用濾風整流裝置,設置于供風系統與作業區域之間,包括濾風整流箱和整流板,其中濾風整流箱的一側面上設有與供風系統相對應的濾風整流箱入風口,所述濾風整流箱的底部均布有多個濾風整流箱出風口,所述整流板豎直設置于濾風整流箱內、并上側與濾風整流箱的頂部連接;所述供風系統提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口進入濾風整流箱內、并通過整流板的整流調整使風流均勻分布,均勻風流由所述濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。
[0006]所述整流板的形狀為弧形、并一端與濾風整流箱入風口的一側相切,所述整流板的另一端為自由端,所述供風系統提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口進入濾風整流箱內、并沿整流板的弧形曲面前行、并進行方向改變,使風流均勻分布。
[0007]所述整流板沿濾風整流箱的內壁設置、并兩端分別與濾風整流箱入風口的左、右兩側相切,所述供風系統提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口進入濾風整流箱內、并沿濾風整流箱入風口兩側整流板前行、并進行方向改變,使風流均勻分布。
[0008]本發明的優點及有益效果是:
[0009]1.本發明可根據供風系統排風分布的不均勻性進行調整,保證在生產和維護中作業區域的風流量均勻度。
[0010]2.本發明可有效地提高設備對風流量工藝需求的精度,解決現在半導體設備所面臨的問題,大幅提升實際生廣的效率。
[0011]3.本發明具有結構簡單,實現方便,價格低廉等特點。
[0012]4.本發明通過供風系統的風流量分布而進行濾風整流裝置的調整,保證了作業區域風流量的均勻性,很大程度上節省了再處理時間。
[0013]5.本發明采用可調整整流板形狀的方式,可有效提高作業區域風流量分布的均勻性,系統性的提高設備對風流量的工藝精度要求。
【附圖說明】
[0014]圖1為現有濾風整流裝置在供風系統與作業區域間所起作用的示意圖;
[0015]圖2為本發明在供風系統與作業區域間所起作用的示意圖;
[0016]圖3為本發明中整流板的形狀示意圖之一;
[0017]圖4為本發明中整流板的形狀示意圖之二;
[0018]其中:1為供風系統,2為供風系統風量分布,3為濾風整流箱,4為紊流風量分布,5為整流板,6為均勻風流,7為濾風整流箱入風口,N為風流方向。
【具體實施方式】
[0019]下面結合附圖對本發明作進一步詳細描述。
[0020]如圖2所示,本發明安裝在半導體設備供風系統側部,并位于供風系統1與作業區域之間,包括濾風整流箱3和整流板5,其中濾風整流箱3的一側面上設有與供風系統1相對應的濾風整流箱入風口 7,所述濾風整流箱3的底部布均布有多個濾風整流箱出風口。所述整流板5豎直設置于濾風整流箱3內、并上側與濾風整流箱3的頂部連接。所述供風系統1提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口 7進入濾風整流箱3內、并通過整流板5的整流調整使風流均勻分布,均勻風流6由所述濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。所述整流板5的形狀根據供風系統1提供的不均勻風流量確定。
[0021]如圖3所示,所述整流板5的形狀為弧形、并一端與濾風整流箱入風口 7的一側相切,所述整流板5的另一端為自由端,該形狀整流板5適用于供風系統1所提供的風流量為兩側強,中間弱的狀態。所述供風系統1提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口 7進入濾風整流箱3內、并沿整流板5的弧形曲面前行、并進行方向改變,使風流均勻分布,均勻風流6由所述濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。
[0022]如圖4所示,所述整流板5沿濾風整流箱3的內壁設置、并兩端分別與濾風整流箱入風口 7的左、右兩側相切,該形狀的整流板5適用于供風系統1所提供的風流量為中間強,兩側弱的狀態。所述供風系統1提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口 7進入濾風整流箱3內、并沿濾風整流箱入風口 7兩側整流板5前行、并進行方向改變,使風流均勻分布,均勻風流6由所述濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。
[0023]所述整流板5可根據供風系統1提供的風流量的不均勻分布及設備的工藝需求對整流板5的形狀進行選擇性的安裝擺放。
[0024]本發明的具體工作過程如下:
[0025]在供風系統1排風分布不均勻情況下,用本發明將供風系統1的不均勻風流量進行調節改變風流量,最終形成均勻風流6輸送至作業區域。在改變供風系統1所提供的不均勻風流時,可根據其不均勻性在濾風整流箱3中選擇合適的整流板形狀,如圖3、圖4所示,最終實現排風均勻,滿足工藝需求。
[0026]本發明安裝于半導體設備供風系統1的側部,可以滿足半導體設備內各個單元作業區內對風流量均勻性的工藝要求,達到縮短半導體設備安裝調整的周期,節約整機作業時間,滿足半導體晶圓工藝有效作業精度的目的。
【主權項】
1.一種半導體設備用濾風整流裝置,設置于供風系統(1)與作業區域之間,其特征在于:包括濾風整流箱(3)和整流板(5),其中濾風整流箱(3)的一側面上設有與供風系統(1)相對應的濾風整流箱入風口(7),所述濾風整流箱(3)的底部均布有多個濾風整流箱出風口,所述整流板(5)豎直設置于濾風整流箱(3)內、并上側與濾風整流箱(3)的頂部連接;所述供風系統(1)提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口(7)進入濾風整流箱(3)內、并通過整流板(5)的整流調整使風流均勻分布,均勻風流¢)由所述濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。2.按權利要求1所述的半導體設備用濾風整流裝置,其特征在于:所述整流板(5)的形狀為弧形、并一端與濾風整流箱入風口(7)的一側相切,所述整流板(5)的另一端為自由端,所述供風系統(1)提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口(7)進入濾風整流箱(3)內、并沿整流板(5)的弧形曲面前行、并進行方向改變,使風流均勻分布。3.按權利要求1所述的半導體設備用濾風整流裝置,其特征在于:所述整流板(5)沿濾風整流箱(3)的內壁設置、并兩端分別與濾風整流箱入風口(7)的左、右兩側相切,所述供風系統(1)提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口(7)進入濾風整流箱(3)內、并沿濾風整流箱入風口(7)兩側整流板(5)前行、并進行方向改變,使風流均勻分布。
【專利摘要】本發明涉及半導體行業生產領域,具體地說是一種半導體設備用濾風整流裝置。該裝置設置于供風系統與作業區域之間,包括濾風整流箱和整流板,其中濾風整流箱的一側面上設有與供風系統相對應的濾風整流箱入風口,所述濾風整流箱的底部均布有多個濾風整流箱出風口,整流板豎直設置于濾風整流箱內、并上側與濾風整流箱的頂部連接;供風系統提供的不均勻風流由濾風整流箱入風口進入濾風整流箱內、并通過整流板的整流調整使風流均勻分布,均勻風流由濾風整流箱出風口排出、并輸送至作業區域。本發明滿足半導體設備內各個單元作業區域內對風流量均勻性的工藝需求,達到縮短半導體設備安裝調整的周期,節約整機作業時間,滿足晶圓工藝有效作業精度的目的。
【IPC分類】H01L21/67
【公開號】CN105321839
【申請號】CN201410323959
【發明人】郭聰, 胡延兵
【申請人】沈陽芯源微電子設備有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2014年7月8日