一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統，屬于太陽電極技術領域。
【背景技術】
[0002]硅片在經過切片、研磨、倒角、拋光等加工工序后，表面已吸附了各種雜質，如顆粒、金屬粒子、硅粉粉塵及有機雜質，在進行擴散前需要進行清洗，以消除各類污染物。清洗的潔凈程度直接影響著電池片的成品率和可靠率。清洗主要是利用NaOH、HF、HCL等化學液對硅片進行腐蝕處理，一方面去除硅片表面的機械損傷層以及硅片表面的硅酸鈉、氧化物、油污、金屬離子等雜質，另一方面通過腐蝕在硅片的表面形成凹凸面(金字塔絨面)，增加光在太陽電池片表面的折射次數，利于太陽電池片對光的吸收，以達到電池片對太陽能價值的最大利用率，這一過程被稱為制絨。在制絨的過程中，需要進行多道純水噴淋工藝，以清除附著在硅片表面的污染物。傳統的制絨工藝中，每一道純水噴淋工藝中的純水都是單次使用，純水的消耗量大，在一定程度上造成資源的浪費，提高了生產成本。
【發明內容】
[0003]本發明針對現有技術中，制絨工藝純水消耗量大、生產成本高的技術問題，提供一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統，在不影響制絨機清洗效果的前提下，節約制絨過程中純水的用量。
[0004]為此，本發明采用如下技術方案:
一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統，包括進水管、出水管、連通進水管與出水管的若干支管，沿制絨工藝的流程設置的若干組由噴淋管、清洗槽及副槽組成的噴淋單元，每組噴淋單元包括若干根噴淋管，副槽收集清洗槽的純水供噴淋管循環使用，其特征在于:在最末端的噴淋單元的清洗槽與起始端的噴淋單元的副槽之間設置有連通的支管，從而使最末端的噴淋單元的清洗槽的純水流入起始端的噴淋單元的副槽，起始端的噴淋單元的副槽供應其噴淋單元內全部噴淋管的純水。將最末端的噴淋單元的清洗槽排出的相對較干凈的水，再次利用，引入起始端的噴淋單元的副槽中，用于對制絨起始階段的硅片進行噴淋，這樣就節省了起始端清洗槽循壞時需要補充的純水。
[0005]進一步地，在所述進水管處設置有水表。在進水管加裝水表，進行整個制絨機臺的純水噴淋系統的純水用量監控，可以有效的監控節水量。
[0006]進一步地，在所述最末端的噴淋單元的噴淋管的進水端上設置有流量計。對該噴淋單元的純水用量進行監控。
[0007]進一步地，在中間噴淋單元的噴淋管的進水端上設置有流量計。對該噴淋單元的純水用量進行監控。
[0008]因此，本發明通過水道管路的改造，大大節約了純水用量；在純水用量絕對降低的同時也不會導致擴散不良片的增加；同時，對減少廢水的排放及廢水后續處理也是有很好的促進作用。
【附圖說明】
[0009]圖1為多晶太陽電池整個制絨工藝的流程圖；
圖2為本發明的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]為了使本技術領域的人員更好的理解本發明方案，下面將結合附圖，對本發明的技術方案進行清楚、完整的描述。
[0011]圖1為多晶太陽電池整個制絨流程圖，制絨工藝的流程如圖中箭頭部分所示，硅片依次經過制絨槽一清洗槽I —堿槽一清洗槽2 —酸槽一清洗槽3 —烘干段等步驟。具體如下:
O制絨槽:硅片首先經過制絨槽，通過制絨槽中的HN03和HF腐蝕機理制作出腐蝕坑絨面；
2)清洗槽1:通過刻蝕槽后表面會存有一定的酸殘留，清洗槽I槽中的純水會將硅片表面多余的酸液洗凈；
3)堿槽:堿槽藥液為Κ0Η，制絨后表面會存有多孔硅，需用KOH堿液將多孔硅去掉；
4)清洗槽2:經過堿槽中的KOH作用后雖然去除掉了多孔硅，但硅片表面會有部分堿殘留，需用清洗槽2純水將其洗掉；
5)酸槽:酸槽為HCL和HF，HF會將硅片表面存在的氧化層去掉，HCL會去掉金屬離子；
6)清洗槽3:將硅片表面殘留的酸液洗凈；
7)烘干:將經過清洗槽3后硅片表面殘余的水烘干。
[0012]其中，三個清洗槽的純水循壞原理基本都相同，在機器正常運轉前，各槽體(包括刻蝕槽、堿槽、酸槽、清洗槽)都需配好藥液，以待機臺開機自動運行。三個清洗槽無需配藥，但需要加入純水；三個清洗槽加入純水時是通過閥門①\③\⑤開啟后將外圍純水引入到副槽中。當各槽體及清洗槽水槽配液完畢后，機臺可開啟自動生產模式。此時三個清洗槽副槽中的純水，通過循壞栗將其打入到噴淋管A\B\C\、E\F\G、I\J\K (圖中黑色虛線部分)。其中從A\E\I在對硅片噴淋完后，其純水會直接通過A1\E1\I1管道排放出去；B\C、F\G、J\K噴淋管在對硅片噴淋后，其純水會通過B1\C1、F1\G1、J1\K1管道直接再回到副槽中；D\H\J噴淋管會通過外圍②\④\⑥三個閥門開啟，來直接引入外圍純水對硅片進行噴淋，噴淋完后的純水也會流入到副槽中。此保證了三個清洗槽水槽通過排放和補充來保持清洗槽副槽中的純水足夠循壞。
[0013]如圖2所示，本發明的多晶硅制絨機的純水噴淋系統，包括進水管、出水管、連通進水管與出水管的若干支管，沿制絨工藝的流程設置的若干組由噴淋管、清洗槽及副槽組成的噴淋單元，每組噴淋單元包括若干根噴淋管，副槽收集清洗槽的純水供噴淋管循環使用，在本實施例中，與現有制絨機相適應，依次在制絨槽、堿槽和酸槽之后配置噴淋單元，為描述方便，在此命名為第一噴淋單元、第二噴淋單元和第三噴淋單元，對應地，其內的噴淋管、清洗槽及副槽也分別命名為第一噴淋管、第二噴淋管、第三噴淋管；第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽；以及第一副槽、第二副槽、第三副槽。
[0014]在第三噴淋單元的清洗槽與第一噴淋單元的副槽之間設置有連通的支管，從而使第三噴淋單元的清洗槽的純水流入第一噴淋單元的副槽，第一噴淋單元的副槽供應其噴淋單元內全部噴淋管的純水。也即，第三清洗槽的純水流入第一副槽。
[0015]作為優選，在所述進水管處設置有水表，進行整個制絨機臺的純水噴淋系統的純水用量監控，有效地監控節水量。在第二噴淋單元和第三噴淋單元的噴淋管的進水端上設置有流量計，分別對該噴淋單元的純水用量進行監控。
[0016]具體地，如圖2所示，三個副槽中的純水，通過循壞栗將其打入到噴淋管A\B\C\、E\F\G、I\J\K (圖中黑色虛線部分)。其中從A\E\I在對硅片噴淋完后，其純水會直接通過A1\E1\I1管道排放出去；B\C、F\G、J\K噴淋管在對硅片噴淋后，其純水會通過B1\C1、F1\G1、J1\K1管道直接再回到對應的副槽中；H\J噴淋管會通過外圍④\⑥三個閥門開啟，來直接引入外圍純水對硅片進行噴淋，噴淋完后的純水也會流入到對應副槽中。將閥門②關閉，第一清洗槽的D噴淋管的純水供應由之前的外圍供應變為由第一副槽供應，而第一副槽的進水則由第三清洗槽排出的純水來供應；閥門④和閥門⑥加流量計用于監控第二清洗槽和第三清洗槽的噴淋量。
[0017]本發明通過將第三清洗槽排出的相對較干凈的水，再次利用到第一副槽中，這樣就節省了第一清洗槽循壞時需要補充的純水。同時安裝的水表會對清洗槽槽用水量進行監控，可以有效的監控節水量。
[0018]顯然，所描述的實施例僅僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本發明保護的范圍。
【主權項】
1.一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統，包括進水管、出水管、連通進水管與出水管的若干支管，沿制絨工藝的流程設置的若干組由噴淋管、清洗槽及副槽組成的噴淋單元，每組噴淋單元包括若干根噴淋管，副槽收集清洗槽的純水供噴淋管循環使用，其特征在于:在最末端的噴淋單元的清洗槽與起始端的噴淋單元的副槽之間設置有連通的支管，從而使最末端的噴淋單元的清洗槽的純水流入起始端的噴淋單元的副槽，起始端的噴淋單元的副槽供應其噴淋單元內全部噴淋管的純水。2.根據權利要求1所述的多晶硅制絨機的純水噴淋系統，其特征在于:在所述進水管處設置有水表。3.根據權利要求1所述的多晶硅制絨機的純水噴淋系統，其特征在于:在所述最末端的噴淋單元的噴淋管的進水端上設置有流量計。4.根據權利要求1所述的多晶硅制絨機的純水噴淋系統，其特征在于:在中間噴淋單元的噴淋管的進水端上設置有流量計。
【專利摘要】本發明涉及一種多晶硅制絨機的純水噴淋系統，屬于太陽電池技術領域，包括進水管、出水管、連通進水管與出水管的若干支管，沿制絨工藝的流程設置的若干組由噴淋管、清洗槽及副槽組成的噴淋單元，每組噴淋單元包括若干根噴淋管，副槽收集清洗槽的純水供噴淋管循環使用，其特征在于：在最末端的噴淋單元的清洗槽與起始端的噴淋單元的副槽之間設置有連通的支管，從而使最末端的噴淋單元的清洗槽的純水流入起始端的噴淋單元的副槽，起始端的噴淋單元的副槽供應其噴淋單元內全部噴淋管的純水。本發明在不導致擴散不良片的增加的前提下，大大節約了純水用量；同時，對減少廢水的排放及廢水后續處理也是有很好的促進作用。
【IPC分類】H01L31/18
【公開號】CN105185869
【申請號】CN201510539799
【發明人】肖斌
【申請人】常州天合光能有限公司, 湖北天合光能有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年8月28日