一種用于電腦電源的負離子發生裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及離子發生器領域，尤其涉及一種用于電腦電源的負離子發生裝置。
【背景技術】
[0002]隨著人們生活水平的提高，人們對室內環境與空氣的要求也越來越高，實踐證明，清新的空氣中負離子的含量較高，因此，人們選擇產生負離子來提高空氣的清潔程度。在用電設備中，諸如室內設置的電腦機箱以及電源等設備，除了用負離子發生裝置來清潔空氣，也通過負離子發生裝置除塵，防止長時間使用造成的損傷。
[0003]現有技術中的離子產生裝置一般通過水或者空氣為介質產生負離子，如中國專利《一種負離子水發生器》公開了一種離子發生裝置，該裝置包括產生離子的升壓器、電阻器、正負極引出線等設備。該技術的缺點是，在使用過程中，水流量或者空氣流量不能根據離子的產生或者氣流的變化而控制，離子產出量不能被控制。
[0004]鑒于上述缺陷，本發明創作者經過長時間的研宄和實踐終于獲得了本創作。
【發明內容】
[0005]本發明的目的在于提供一種用于電腦電源的負離子發生裝置，用以克服上述技術缺陷。
[0006]為實現上述目的，本發明提供一種用于電腦電源的負離子發生裝置，其包括氣泵、空氣通道、密封與緩沖組件以及離子產生組件，其中，所述的密封與緩沖組件設置在離子產生組件以及空氣通道的外圍，其將空氣通道以及離子產生組件進行密封；
所述的氣泵通過氣管座與空氣通道、密封與緩沖組件連接，并且為空氣通道、密封與緩沖組件以及離子產生組件提供氣流；
所述的密封與緩沖組件、氣管座和設置在空氣通道末端的離子發射腔圍成反應裝置容納腔，所述的反應裝置容納腔內部設置有氣體通道容納體，在氣體通道容納體中設置有空氣腔；
所述的空氣通道包括第一空氣通道、第二空氣通道和第三空氣通道，三條空氣通道均從空氣腔中流出空氣，流入離子發射腔；所述的第一空氣通道和第二空氣通道設置在氣體通道容納體的上、下兩側，用以調節離子發射腔中離子的發射角度；
第三空氣通道設置在氣體通道容納體的中間，在第三通道容納體的上側設置所述的離子產生組件，包括磁性負極組件以及電源變壓器；離子產生組件設置在負極容納腔中，在離子反應組件下側設置有銅板，銅板下側設置有與磁性負極組件磁性連接的磁性放電針；在所述的負極容納腔中設置有第一高壓腔和第二高壓腔，在兩個高壓腔的作用下，所述的負極容納腔能夠沿銅板水平移動，用以調節離子發射腔中的離子濃度；
在所述的第一空氣通道上設置有集氣腔，其兩端分別設置有第一控制閥和第二控制閥，集氣腔通過第一連接氣管與第一高壓腔連接；調節第一控制閥和第二控制閥的控制壓力，第一高壓腔的氣體壓力改變，負極容納腔沿銅板水平移動。
[0007]進一步地，所述的第一通道包括空氣腔、第一輸入管、集氣腔、第一輸出管以及離子發射腔，上述各結構依次連接，其中，在所述的第一輸入管上設置有所述的第一控制閥，在第一輸出管中設置有第二控制閥；所述的第二高壓腔通過第二連接氣管與第一空氣通道上的第一輸出管連接；
并且，所述的第二連接氣管與第一輸出管的連接位置設置在第二控制閥的后側； 在所述的集氣腔的上端還設置有溢流閥。
[0008]進一步地，所述的第二空氣通道包括空氣腔、第二輸入管、第二輸出管以及離子發射腔，上述各結構依次連接；
在所述的第二輸入管上設置有第三控制閥；
若第二控制閥的控制壓力大于第三控制閥的控制壓力，則離子發射腔的離子發射的角度向下偏移，若第二控制閥的控制壓力小于第三控制閥的控制壓力，則離子發射腔的離子發射的角度向上偏移。
[0009]進一步地，第三空氣通道包括空氣腔、設置在氣體通道容納體中間的反應管道、離子發射腔，上述各結構依次連接。
[0010]進一步地，在所述的第一高壓腔與負壓容置腔之間設置第一反推板，其與所述的負壓容置腔連接為一體，并且，第一反推板與第一高壓腔的上壁以及銅板連接，用以將第一高壓腔封閉；
在所述的第二高壓腔與負壓容置腔之間設置第二反推板，其與所述的負壓容置腔連接為一體，并且，第二反推板與第二高壓腔的上壁以及銅板連接，用以將第二高壓腔封閉。
[0011]進一步地，在所述的第一控制閥控制壓力較大，第二壓力控制閥的控制壓力較小，同時關閉溢流閥時，所述的第一高壓腔的壓力高于第二高壓腔的壓力，在壓差的作用下，所述的第一反推板推動負壓容置腔向靠近離子發射腔的一側運動，產生的離子聚集在離子發射腔處，離子發射腔的離子濃度大；
在所述的第一控制閥的控制壓力較小，溢流閥開始時，集氣腔的壓力小于第一輸出管的壓力時，第一高壓腔的壓力小于第二高壓腔的壓力，在第二反推板的作用下，負壓容置腔向遠離離子發射腔的一側移動，產生的離子經過反應通道進入離子發射腔，此時，離子發射腔的離子濃度較低。
[0012]進一步地，所述的銅板上側的中間部分設置有軌道，在所述的第一反應推板和第二反應推板的作用下，磁性負極組件以及電源變壓器沿著所述的導軌運動；
所述的軌道為具有刻痕的軌道，導軌兩側設置凹槽，用以限制導軌的運動軌跡。
[0013]進一步地，所述的密封與緩沖組件包括一氣囊，氣囊的內部為中空的，在氣囊的末端設置有一開口，開口的兩側與離子發射腔的兩側連接。
[0014]進一步地，所述的氣泵的排氣端與連接法蘭連接，連接法蘭的另一端與氣管座連接，所述的連接法蘭上設置有橫向的兩個貫通的氣管插孔，兩個導氣管穿過氣管插孔進入所述的氣管座中，導氣管從氣管座的氣孔輸出端再經過導氣管進入空氣腔中。
[0015]進一步地，所述的氣管座為圓柱形結構，其內設置有水平的第一導氣孔和第二導氣孔，在氣管座的上部還設置有徑向豎直的第三導氣孔，第三導氣孔和第一導氣孔相通。
[0016]與現有技術相比本發明的有益效果為:本發明的離子發生裝置設置有三個空氣通道，可以調節發射的離子的角度，還能夠調節離子發射的濃度，方便進行控制。
[0017]本發明的離子生成位置能夠通過空氣通道的壓力變化以及高壓腔的壓力變化進行改變便于調節，提高了離子發生裝置的適用性。
[0018]還設置有密封與緩沖組件，將空氣通道以及離子產生組件進行密封，防止塵埃等進入空氣通道或者負離子通道中，而且，其設置在空氣通道的外圍，能夠避免空氣通道的壓力過大對側壁造成損傷。
【附圖說明】
[0019]圖1為本發明的離子發生裝置的結構示意圖；
圖2為本發明的空氣通道與離子發生部件的示意圖；
圖3為本發明的負極移動部件的結構示意圖；
圖4為本發明的氣管座的剖視結構示意圖。
【具體實施方式】
[0020]以下結合附圖，對本發明上述的和另外的技術特征和優點作更詳細的說明。
[0021]請參閱圖1所示，其為本發明的離子發生裝置的結構示意圖，本發明實施例的離子發生裝置包括氣泵1、空氣通道、密封與緩沖組件4以及離子產生組件，其中，所述的密封與緩沖組件4設置在離子產生組件以及空氣通道的外圍，其將空氣通道以及離子產生組件進行密封，防止塵埃等進入空氣通道或者負離子通道中，而且，其設置在空氣通道的外圍，能夠避免空氣通道的壓力過大對側壁造成損傷。
[0022]在本發明實施例中，所述的密封與緩沖組件4為一氣囊，氣囊4的內部為中空的，在氣囊的末端設置有一開口，開口的兩側與離子發射腔8的兩側連接。
[0023]在本發明實施例中，氣泵I的排氣端與連接法蘭2連接，連接法蘭2的另一端與氣管座21連接，所述的連接法蘭2上設置有橫向的兩個貫通的氣管插孔，兩個導氣管22穿過氣管插孔進入所述的氣管座21中，導氣管22從氣管座21的氣孔輸出端再經過導氣管22進入空氣腔5中。
[0024]請結合圖4所示，其為本發明的氣管座的剖視結構示意圖，氣管座21為圓柱形結構，其內設置有水平的第一導氣孔23和第二導氣孔24，在氣管座21的上部還設置有徑向豎直的第三導氣孔25，第三導氣孔25和第一導氣孔23相通。
[0025]在本實施例中，氣管座21的上端與氣囊的空氣入口連接，氣囊的空氣入口端設置有法蘭，其與氣管座21的上端連接，氣管座21上的第三導氣孔25與氣囊的空氣入口連接，并向氣囊中充氣。同時，氣泵經過連接法蘭2以及氣管座21向空氣通道5中提供流動氣體，本發明設置氣管座結構，能夠同時向氣囊和空氣通道中充氣，既保證離子發生裝置的密封性、穩定性，還保證離子產生反應的正常發生，并且，提供流動的空氣流，便于對離子產生進行控制。
[0026]所述的氣管座21的下端與氣囊連接，在氣囊內部形成密閉空間，形成反應裝置容納腔3，在本實施例中，所述的反應裝置容納腔3由氣囊、氣管座21和離子發射腔8圍成，氣囊與離子發射腔8的兩側部連接密封。在本實施例中，反應裝置容納腔3的側壁為可伸縮的，可以根據氣囊內空氣量決定，還由其內部設置的氣體通道容納體31決定。
[0027]在所述的反應裝置容納腔3的內部設置有氣體通道容納體31，所述的氣體通道容納體31由塑性材料制成，具有較好的彈性，能夠根據氣囊內的空氣量進行小幅度的伸縮，其前端設置有一伸出端，用以與導氣管22連接；在其上下側為圓桶型，伸出端與上下側之間為弧形連接端，在后端為弧形部，該結構的設置保證其具有較好的伸縮性。
[0028]在所述的氣體通道容納體31中設置有空氣腔5，請結合圖2所示，在本實施例中，設置有三條空氣通道，三條空氣通道具有均從空氣腔5中流出空氣，最終進入離子發射腔8中。空氣第一通道包括空氣腔5、第一輸入管51、集氣腔53、第一輸出管55以及離子發射腔8，上述各結構依次連接，其中，在所述的第一輸入管51上設置有第一控制閥92，在第一輸出管55中設置有第二控制閥93，分別控制空氣流量。
[0029]第二空氣通道包括空氣腔5、第二輸入管52、第二輸出管56以及離子發射腔8，上述各結構依次連接，在所述的第二輸入管52上設置有第三控制閥94，用以控制第二空氣通道的空氣流量。
[0030]上述的第一、二空氣通道將空氣直接導入離子發射腔8中，通過空氣控制輸出的離子發射的濃度，控制簡單。第一、二空氣通道設置在氣體通道容納體31的上、下兩側，在兩個空氣通道之間為離子產生組件。
[0031]第三空氣通道包括空氣腔5、設置在氣體通道容納體31中間的反應管道54、離子發射腔8，上