專利名稱：：微孔膜及其制備方法
背景技術：
：(a)發明領域本發明涉及一種微孔膜及其制備方法，且更具體地說，涉及一種通過用高能離子粒在真空下對一種聚合物膜進行輻照而制備一種具有親水/疏水性能并具有均勻尺寸微孔的微孔膜的方法。(b)相關技術的描述目前，有多種用于鋰電池中的隔板的微孔膜。制備這種微孔膜的常規方法可分為濕法和干法。這些方法中使用填料或蠟一制得一種基質膜(precursorfilm)，若帶有溶劑就是濕法，不帶有溶劑就是干法。然后通過在該基質膜上形成微孔就得到微孔膜。形成微孔膜有多種方法，例如在冷拉伸和熱拉伸方法中，對基質膜進行一個拉伸工藝，而在提取法中，將低分子量粒子從經雙軸拉伸(或者，雙軸拉伸工藝可在提取法之后實施)的基質膜中提取出來從而在基質膜上形成微孔。而且，在拉伸之后，可對基質膜進行電暈放電，或者用高能離子束輻照后，可對基質膜進行蝕刻(例如采用徑跡蝕刻法)而得到微孔膜。將使用冷或熱拉伸工藝的方法稱為干法。US3679538，3801692，3843761，4238459和5013439公開了干法，而US3471597和3880966公開了用于得到帶有微孔的基質膜的電暈放電方法。干法的優點在于，它不使用對環境有害的溶劑，且因此該方法被稱作為清潔方法并廣泛地用在工業中。然而，由干法制得的微孔膜具有較小尺寸的孔，且難于調整和增大孔的形狀和大小。而且，在拉伸過程中存在一個缺點，即隨拉伸比增大難于保持孔的形狀。制備用于鋰電池的隔板的微孔膜的常規方法使用聚烯烴樹脂，因為它們的成本低且化學和物理性能好。然而，由于聚烯烴樹脂的疏水性，所以電解質對所述隔板具有低的潤濕性。目前，已開展許多研究以使聚烯烴樹脂膜具有親水性能。根據HoechstCelenese描述的方法是用表面活性劑處理聚烯烴樹脂膜的表面，和由US3231530，3853601，3951815，4039440和4340482所述的其它方法是引入了具有親水性能的單體或用化學物質處理聚烯烴膜。然而，由于同時發生化學反應，聚合物的分子量降低且聚烯烴膜的結構均勻性變差。而且，由于所涉及方法的復雜性，因而難于大批量生產具有親水性的聚烯烴膜。US4346142，5085775和5294346也介紹了將親水性能引入至聚烯烴膜的其它方法。這些方法使用具有親水性的丙烯酸單體和聚環氧乙烷聚合物，通過使用電暈或等離子體方法將它們接枝到聚合物膜的表面上。JP-A-831399(待審查的日本公告申請)公開了一種使用等離子體方法或濺射蝕刻方法通過氧氣和四氟化碳氣體使聚烯烴膜表面具有親水和疏水性能的方法。然而，由于等離子體的獨特性能，即能量分布范圍寬和高度的環境敏感性，所以難以得到均勻的孔隙率。而且，得到具有極佳物理性能的聚烯烴膜的困難在于，由于所述方法引起的附帶反應使膜表面的受損，因而膜的機械性能降低。發明綜述基于上述原因，本發明的目的是提供一種通過用高能離子粒在真空下對一種聚合物膜進行輻照而制備一種具有親水/疏水性能并具有均勻尺寸微孔的微孔膜的方法。本發明的另一目的是提供一種制備具有高孔密度的微孔膜的方法。本發明的再一個目的在于提供一種制備具有親水性能的微孔膜的簡單方法。本發明的進一個目的是一種制備具有親水性能和極佳物理特性的微孔膜的方法。本發明的又一個目的是提供由上述方法制得的微孔膜。根據本發明的上述方法，可通過對用常規方法制得的微孔膜進行離子粒輻照而制得一種具有極佳物理特性的微孔膜。發明的詳細描述本發明將詳述于下。本發明通過使用離子束輻照，利用了降低親水性溶劑在聚合物表面的接觸角和增加它們之間粘結力的原理。基質膜的制備通過使用具有T-模頭或管形模頭的擠出機由選自于聚丙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯和低密度線型聚乙烯的聚烯烴(因為它們的成本低而且反應性低)制得一聚合物膜。雖然擠出工藝可在常規的擠出溫度下實施，但更優選在所述聚合物膜熔點+10℃至聚合物熔點+100℃的溫度下實施。在該溫度范圍之外擠出聚合物可能導致聚合物降解從而降低了其物理性能。通過使用流延輥在10～150℃下以5～120米/分拉伸擠出后的聚合物而得到基質膜，拉伸比為10～400且凍結溫度為10～120℃。退火將基質薄膜在聚合物熔點-100℃至聚合物熔點-10℃的溫度范圍內退火10秒至1小時以使其在25℃下彈性回復超過40％。這個退火工藝增加了基質膜的彈性回復和結晶度。在高于該范圍的溫度下退火可能使聚合物膜熔融，而在低于范圍的溫度下退火則限制了聚合物的運動，彈性回復和結晶度僅有極有限的增長。輻照將經退火的基質膜放置在10-2～10-8毫米汞柱的真空室中，然后用離子槍輻照基質膜的兩個表面。通過注入一種用于在輻照中產生高能離子粒的氣體并通過通過改變離子束的電流就制得離子槍。雖然從離子槍到基質膜表面的輻照距離為5～100cm是足夠的，但輻照距離應根據真空室中的壓力進行調整。由此，在10-2～10-3毫米汞柱的高真空下應為15～25cm，在10-3～10-6毫米汞柱的高真空下應為25～55cm，及在10-6～10-7毫米汞柱的極高真空下應為55～60cm。離子槍可使用能夠產生離子粒的任何氣體，然而，電子、氫氣、氦氣、氧氣、氮氣、空氣、氟、氖、氬、氪或N2O和它們的混合化合物也適用于這種用途。在這時，離子粒的能量設定為10-2～107KeV且通過控制離子槍上的電源裝置而將輻照量設定為102～1020個離子/cm2。用具有上述能級和量的離子粒輻照，就得到微孔聚合物膜。在用離子束輻照期間或之后，將一種反應性氣體以0.5～20ml/min的量施加到聚合物膜上，根據所用反應性氣體的不同類型，就能使該聚合物膜具有親水或疏水性能。為了得到具有親水性能的聚合物膜，優選使用氦氣、氫氣、氧氣、氮氣、空氣、N2O、氨氣、一氧化碳、二氧化碳、或甲烷或它們的混合物；而為了得到具有疏水性能的聚合物膜，優選使用氟、四氟化碳或它們的混合物。測定聚合物膜的親水性或疏水性的工藝也可在得到最終的微孔膜之后實施。冷拉伸將從上述輻照工藝中得到的微孔聚合物膜使用導輥或雙軸拉伸機進行一個拉伸工藝，通過單軸或雙軸拉伸以增加在聚合物膜中形成的微孔的尺寸。這里，拉伸是在從-20℃至聚合物熔點-40℃的溫度范圍內進行的。熱拉伸使用導輥或雙軸拉伸機對從冷拉伸工藝中得到微孔聚合物膜進行另一拉伸工藝，通過單軸或雙軸拉伸得到所需尺寸的并具有機械性能的微孔。這里，拉伸是在聚合物熔點-40℃至聚合物熔點-5℃的溫度范圍內進行的。熱定形將在低于聚合物熔點的溫度下經熱拉伸的且具有張力的微孔膜然后在張力狀態下進行熱定形以保持經拉伸孔的均勻性。這里，熱定形是在聚合物熔點-80℃至聚合物熔點-5℃的溫度范圍內進行的。由本發明的上述方法制得的具有圓形或橢圓形且孔徑為0.005～10μm的微孔膜是適合用作鋰離子電池中的隔板。另外，一種層壓膜，其通過將由本發明方法制得的第一層微孔膜和由常規方法制得的第二層微孔膜進行層合而制得，其中沒有采用輻照步驟，也適合用作鋰電池的隔板。本發明的上述方法描述和提供了一種制備具有極佳物理性能的微孔膜的方法。為了得到具有不同所需性能的微孔膜，本發明的步驟可以刪減、變化或改進。下面將詳細地介紹優選實施例和對比例。實施例1通過使用離子束輻照制得的聚乙烯微孔膜由密度高達0.964g/cm3和熔融指數為0.3g/10min的聚乙烯，通過具有T-模頭的一單螺桿擠出機和卷繞裝置，而制得一種高密度聚乙烯基質膜。在該方法中，將擠出溫度設定為180℃，卷繞裝置的導輥的溫度設定為110℃，且拉伸速率為35米/分，拉伸比為70。將基質膜在一干燥爐中于110℃退火1小時。將退火后的基質膜放置于壓力為10-5～10-6毫米汞柱的真空室中。然后，用高能氬粒子通過離子槍對基質膜的兩表面進行輻照以制得微孔，從而得到聚乙烯微孔膜。這里，將離子束的能量設定為3KeV，且將輻照用離子粒的量設定為1018個離子/cm2。實施例2使用離子束輻照和冷拉伸制得的聚乙烯微孔膜按照實施例1中所述的方法，只是將拉伸速率設定為30米/分和將拉伸比設定為60，將基質膜制成聚乙烯微孔膜。然后，將擠出后的聚合物基質膜按實施例1進行退火或輻照，只是將離子束的能量改變為1.5KeV，且輻照用離子粒的量改變為1017個離子/cm2。然后將帶有微孔的基質膜在室溫下沿加工方向進行冷拉伸，得到為實施例1所得膜的150％長度(以下稱作為拉伸比)的薄膜。然后，在張力狀態下，使用導輥在115℃下對拉伸后的薄膜進行熱定形2分鐘，并冷卻得到聚乙烯微孔膜。實施例3使用離子束輻照和熱拉伸制得的聚乙烯微孔膜按照實施例2中所述的方法，只是將離子束的能量改變為2KeV，輻照用離子粒的量改變為5×1017個離子/cm2，拉伸溫度為115℃。實施例4使用離子束輻照和冷拉伸及熱拉伸制得的聚乙烯微孔膜按照實施例2中所述的方法，只是冷拉伸工藝在室溫下以50％的拉伸比進行；接著在115℃的溫度下進行熱拉伸工藝且拉伸比為100％；將離子束的能量改變為1.5KeV，輻照用離子粒的量改變為2×1017個離子/cm2。實施例5制得聚丙烯微孔膜按照實施例1所述的方法，將聚丙烯基質膜制成聚丙烯微孔膜。這里使用密度為0.90g/cm3和熔融指數為2.0g/10min的聚丙烯等規均聚物。對該方法而言，將擠出溫度設定為230℃，將卷繞裝置導輥的溫度設定為90℃，拉伸速率設定為35米/分，拉伸比為70。然后將基質膜在實施例1的干燥爐中于140℃退火1小時。然后，如實施例1所述，在真空下用氬粒子通過離子槍對退火后的基質膜的兩表面進行輻照以制得微孔。這里，將離子束的能量設定在1.5KeV，且輻照用離子粒的量設定為5×1017個離子/cm2。輻照之后，如實施例4所述，在室溫下以30％的拉伸比進行冷拉伸工藝；接著在140℃的溫度下進行熱拉伸工藝且拉伸比為120％。然后，將拉伸后的膜在140℃熱定形2分鐘并冷卻得到聚丙烯微孔膜。實施例6由聚丙烯/聚乙烯共混物制得的微孔膜按照實施例4和5所述的方法，使用T-模頭和卷繞裝置由聚丙烯和高密度聚乙烯共混物制得聚合物基質膜。聚丙烯/聚乙烯的組成比是70/30(重量)。在該方法中，將擠出溫度設定為230℃，將卷繞裝置的導輥的溫度設定為85℃，拉伸速率設定為40米/分，拉伸比為70。將所得的聚合物基質膜在實施例1的干燥爐中于120℃退火1小時。然后，在實施例1的相同條件下，對聚合物基質膜進行輻照。這里，將離子束的能量設定在1.5KeV，且輻照用離子粒的量設定為2.5×1017個離子/cm2。輻照之后，如實施例4所述，在室溫下以30％的拉伸比進行冷拉伸工藝；接著在125℃的溫度下進行熱拉伸工藝且拉伸比為120％。然后，將經拉伸的膜在125℃熱定形2分鐘并冷卻得到聚丙烯/聚乙烯共混物微孔膜。實施例7由聚丙烯/聚乙烯層合制得的微孔膜按照實施例4和5所述的方法，分別制得高密度聚乙烯基質膜和聚丙烯基質膜，其厚度均為10μm。將基質膜在130℃、50kg/cm2的壓力下按聚丙烯/高密度聚乙烯/聚丙烯的順序進行壓合。將層壓膜按實施例6所述方法和相同條件下進行輻照，就在基質膜上形成微孔。然后如實施例6中所述，對具有微孔的層壓膜進行冷和熱拉伸工藝、熱定形工藝并冷卻，就得到微孔膜。實施例8使用離子束輻照和冷/熱(雙軸)拉伸制得的聚乙烯微孔膜對按實施例4所述方法制得的高密度聚乙烯基質膜進行退火。退火之后，按實施例4所述方法并在相同條件下進行輻照而在基質膜表面上形成微孔。然后，按實施例4所述方法對基質膜進行冷拉伸，隨后使用雙軸拉伸設備(由日本ToyoseikiCo.制造)在115℃進行雙軸熱拉伸。這里，分別將每個拉伸方向X和Y設定為拉伸比為100％。然后將在115℃下拉伸的膜熱定形2分鐘以得到聚乙烯微孔膜。實施例9使用熱拉伸、離子束輻照和冷/熱(雙軸)拉伸方法制得的聚乙烯微孔膜將按實施例4所述方法制得的高密度聚乙烯基質膜用Toyoseiki雙軸拉伸設備在115℃進行雙軸熱拉伸工藝。這里，分別將每個拉伸方向X和Y設定為拉伸比為100％。分別按實施例4所述方法和相同條件對基質膜進行退火且然后進行輻照，以在聚乙烯基質膜表面上形成微孔。輻照之后，按實施例8所述方法，對基質膜進行冷和熱拉伸并冷卻，就得到最終的聚乙烯微孔膜。實施例10使用離子束輻照和冷拉伸制備具有親水性能的聚乙烯微孔膜將按實施例4所述的方法得到的高密度聚乙烯基質膜進行退火。退火之后，在實施例4的相同條件下，對聚合物基質膜進行輻照。在輻照的過程中，通過氣體噴射裝置用4ml/min的親水性誘導反應性氣體(氧氣)處理聚合物基質膜的表面。這里，將離子束的能量設定為1.0KeV，且輻照用離子粒的量設定為5×1016個離子/cm2。輻照之后，如實施例4所述，在室溫下進行冷拉伸，隨后在115℃下進行熱拉伸。然后，將在115℃拉伸后的薄膜進行熱定形2分鐘，并冷卻就得到具有親水性能的聚乙烯微孔膜。實施例11使用離子束輻照和拉伸工藝制得的聚乙烯微孔膜對按實施例10所述方法得到的高密度聚乙烯基質膜進行退火。退火之后，在實施例10的相同條件下，對聚合物基質膜進行輻照以在其表面上形成微孔。在輻照的過程中，通過氣體噴射裝置用4ml/min的親水性誘導反應性氣體(氧氣)處理聚合物基質膜的表面。然后，在相同的輻照條件下，用4ml/min的疏水性誘導反應性氣體(氟)處理聚合物基質膜的其它表面。輻照之后，如實施例10所述，進行拉伸。然后將在115℃拉伸后的薄膜進行熱定形2分鐘，并冷卻就得到聚乙烯微孔膜。實施例12通過使用離子束輻照和親水性誘導反應性氣體的干法制備具有高親水性能的聚乙烯微孔膜對按實施例4所述方法得到的高密度聚乙烯基質膜進行退火。退火之后，在室溫下通過通常的冷拉伸工藝在聚合物基質膜的表面上形成微孔。然后將其在115℃下進行熱拉伸，隨后進行熱定形。這里，拉伸是按實施例4所述的方法進行的，其中冷拉伸和熱拉伸分別是以50％和100％的拉伸比下進行。然后，用離子粒對聚乙烯基質膜進行輻照且同時按實施例10中所述方法用親水性誘導反應性氣體(氧氣)處理。這里，將離子束的能量設定為1.0KeV，且輻照用離子粒的量為1016個離子/cm2且反應性氣體(氧氣)的用量為4ml/min。實施例13通過使用離子束輻照和親水性誘導反應性氣體的濕法制備具有高親水性能的聚乙烯微孔膜通過采用常規的濕法，使用與實施例1相同的高密度聚乙烯、超高分子量聚乙烯(重均分子量為2，500，000)和液體石蠟制得聚乙烯基質膜。高密度聚乙烯超高分子量聚乙烯液體石蠟的組成比為2∶13∶85(重量)。如實施例1所述，通過單螺桿擠出機的T-模頭制得基質膜。在該方法中，將擠出溫度設定為180℃，并將卷繞裝置的導輥的溫度設定為30℃，且拉伸速率設定為5米/分，拉伸比為10。然后使用Toyoseiki雙軸拉伸設備在115℃對基質膜進行雙軸熱拉伸。這里，分別將每個拉伸方向X和Y的拉伸比設定為100％。拉伸之后，通過二氯甲烷或烴類與氯的化合物而從聚乙烯膜除去液態石蠟殘余物。然后，用水淋洗聚乙烯膜并干燥。然后，用離子粒對聚乙烯基質膜進行輻照且同時按實施例12所述方法用親水性誘導氧氣處理。對比例1由常規干法制得的聚乙烯微孔膜按照實施例12中所述的方法，只是不經離子粒輻照和用反應性氣體處理的步驟而制得聚乙烯微孔膜。對比例2由電暈放電方法制得的聚乙烯微孔膜按照實施例4中所述的方法，只是對聚乙烯基質膜的表面還進行電暈放電工藝，該電暈放電工藝使用可調節的泰斯拉線圈在12000V下和以每平方英寸3至5秒的速率進行。對比例3由常規濕法制得的聚乙烯微孔膜按照實施例13中所述的方法，只是不經離子粒輻照和用反應性氣體處理的步驟而制得聚乙烯微孔膜。對比例4通過等離子體處理制得具有高親水性能的聚乙烯微孔膜對按照對比例1的干法制得聚乙烯微孔膜的表面在輻照能為0.8W/cm2且壓力為1毫米汞柱的條件下進行等離子體處理30秒，就得到具有親水性能的微孔膜。從上述的實施例1-13及對比例1-4，可得到微孔膜的膜厚度、孔尺寸、孔密度、刺扎強度、停車溫度和熔融均勻性，并將它們列在表1-3中。另外，從上述的實施例1-13及對比例1-4，也可得到微孔膜的透氣性、孔隙度、拉伸強度和拉伸模量，并將它們列在表1-3中。而且，將從上述實施例10-13和對比例4得到的微孔膜的吸水速度示于表3中。在本發明中，表1-3中的加工方向(MD)表示拉伸方向和橫切方向(TD)表示拉伸方向的垂直方向。表1表2從上表1和2中可以看出，由實施例1-9所述方法得到的微孔膜比由對比例1-3所述方法制得的微孔膜具有更均勻的孔徑、更高的孔密度和更好的其它物理性能。表3<tablesid="table3"num="003"><table>實施例10實施例11實施例12實施例13對比例4厚度(μm)2324242425孔徑(μm)0.02×0.020.15×0.060.06×0.030.12×0.050.08×0.03孔隙率(％)2837384048孔密度(孔數/cm2)18×10914×10914×10915×10916×109透氣性(秒/100cm3)840825920650860刺扎強度(g)290283287428230拉伸強度(MD/TD)(kg/cm2)1250/1601300/1651450/1801410/2001580/190拉伸模量(MD/TD)(kg/cm2)6500/34006620/34406800/34806850/34907200/3680停車溫度(℃)128128131128131均勻熔融的溫度(℃)134134133138133吸水速度(秒)2.22.32.62.55.3</table></tables>從上表3可以看出，由實施例10-13所述方法制得的微孔膜比由對比例4中所述方法制得的微孔膜具有更快的吸水速度、更高的親水性能、和更好的物理性能。根據在本發明的實施例所述的方法，通過離子束輻照而得到具有均勻孔徑和高孔密度的微孔膜。另外，根據本發明所公開的方法，也可得到具有極好親水性和物理性能的微孔膜。而且，根據本發明的方法，不但克服了常規方法的缺點，而且不將高拉伸比、高彈性回復和高結晶度作為一個重要的要求。在以上的公開內容中，僅僅顯示和描述了本發明的優選實施例，但如前所述，應理解的是，本發明能夠在各種其它情況下和環境下使用，且能夠在這里所述的發明構思范圍變化或改進。權利要求1.一種通過在真空下用高能的離子束輻照聚合物膜而制備微孔膜的方法。2.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中對聚合物膜的一個或兩個表面進行輻照。3.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中所述高能離子粒選自于電子、氫氣、氦氣、氧氣、氮氣、空氣、氟、氖、氬、氪、N2O和它們的混合化合物。4.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中輻照在10-2～10-8毫米汞柱的真空下、以1～100cm的輻照距離進行。5.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中所述離子粒具有10-2～107KeV的能量。6.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中輻照以高能離子粒的數量為102～1020個離子/cm2進行。7.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中所述聚合物膜是在該聚合物熔點+10℃至聚合物熔點+100℃的溫度下擠出，并將擠出后的聚合物膜在10-150℃下以5-120米/分的速率拉伸。8.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中在輻照之前和/或之后，對聚合物膜進行退火工藝。9.如權利要求8所述的制備微孔膜的方法，其中所述退火工藝在聚合物熔點-100℃至聚合物熔點-5℃的溫度下進行10秒至1小時。10.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中在輻照之前和/或之后，對聚合物膜進行一個拉伸工藝。11.如權利要求10所述的制備微孔膜的方法，其中所述拉伸工藝在從-20℃至聚合物熔點-40℃的溫度下進行。12.如權利要求10所述的制備微孔膜的方法，其中所述拉伸工藝在從聚合物熔點-40℃至聚合物熔點-5℃的溫度下進行。13.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中在輻照之前和/或之后，對聚合物膜進行一個熱定形工藝。14.如權利要求13所述的制備微孔膜的方法，其中所述熱定形工藝在從聚合物熔點-80℃至聚合物熔點-5℃的溫度下進行。15.如權利要求1所述的制備微孔膜的方法，其中在輻照工藝中國，將一種反應性氣體同時施加到聚合物膜的表面上。16.如權利要求15所述的制備微孔膜的方法，其中所述反應性氣體選自于氦氣、氫氣、氧氣、氮氣、空氣、氨氣、一氧化碳、二氧化碳、氟、四氟化碳、甲烷、N2O和它們的混合物化合物。17.如權利要求15所述的制備微孔膜的方法，其中所述反應性氣體以0.5～20ml/min的量使用。18.如權利要求15所述的制備微孔膜的方法，其中在輻照工藝之后，將反應性氣體施加至聚合物膜表面上。19.如權利要求18所述的制備微孔膜的方法，其中所述反應性氣體選自于氦氣、氫氣、氧氣、氮氣、空氣、氨氣、一氧化碳、二氧化碳、氟、四氟化碳、甲烷、N2O和它們的混合物化合物。20.如權利要求18所述的制備微孔膜的方法，其中所述反應性氣體以0.5～20ml/min的量使用。21.如權利要求18所述的制備微孔膜的方法，其中所述聚合物膜是聚烯烴，其選自于聚丙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、低密度線型聚乙烯和它們的混合物。22.一種通過用高能離子粒在真空下輻照聚合物制得的具有圓形或橢圓形孔的微孔膜。23.如權利要求22所述的微孔膜，其中孔的直徑為0.005～10μm。24.如權利要求22所述的微孔膜，其中所述膜可用作電池的隔板。25.一種通過用高能離子粒在真空下輻照微孔膜而制備具有改進的物理性能的微孔膜的方法。26.一種通過用高能離子粒在真空下輻照微孔膜的同時，注入反應性氣體而制備具有改進的物理性能的微孔膜的方法。27.一種制備微孔膜的方法，其包括如下步驟(a)將一種聚合物在該聚合物熔點+10℃至聚合物熔點+100℃的溫度下擠出；(b)將擠出后的聚合物在10-150℃下以5-120米/分的速率拉伸而制成聚合物膜；(c)將該聚合物膜在聚合物熔點-100℃至聚合物熔點-5℃的溫度下退火10秒至1小時；(d)用能量為10-2～107Kev的離子粒以102～1020個離子/cm2的量、在真空度為10-2～10-8毫米汞柱下輻照經退火的聚合物膜的兩個表面，輻照距離為5～100cm；(e)在-20℃至聚合物熔點-40℃的溫度下對輻照后的聚合物膜進行冷拉伸；(f)在聚合物熔點-40℃至聚合物熔點-5℃的溫度下對經冷拉伸后的薄膜進行熱拉伸；和(g)在聚合物熔點-80℃至聚合物熔點-5℃的溫度下對熱拉伸后的聚合物膜進行熱定形。28.如權利要求27所述的制備微孔膜的方法，其中所述聚合物膜是聚烯烴，其選自于聚丙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯和低密度線型聚乙烯。29.一種電池隔板，其包含通過用高能離子粒在真空下輻照聚合物膜制得的第一層微孔膜；和第二層微孔膜。全文摘要一種制備微孔膜的方法,其包括:將一種聚合物在該聚合物熔點+10℃至聚合物熔點+100℃的溫度下擠出;將擠出后的聚合物在10－150℃下以5－120米/分的速率拉伸制成聚合物膜:將該聚合物膜在聚合物熔點－100℃至聚合物熔點－5℃的溫度下退火10秒至1小時;用能量為10文檔編號H01M2/16GK1283134SQ98812632公開日2001年2月7日申請日期1998年11月16日優先權日1997年11月17日發明者李相英,金明萬,宋憲植申請人:Lg化學株式會社