專利名稱：低壓雙動電極真空滅弧室的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于電力真空開關中的滅弧裝置。
真空滅弧室是制造電力真空開關的心臟部件。電力真空開關所用真空滅弧室多為二極式結構，其有連接電源側的靜電極和連接負載側的動電極，動、靜電極上分別接有動、靜觸頭，通過適當的機構操縱密封于真空中的動電極，使動、靜觸頭按需要接觸或分開，從而實現電力電路的開與關。采用真空作為滅弧介質，是利用其優越的絕緣性能。二極式結構的真空滅弧室用于制造單路真空電力開關。
從國外有關文獻上，可以見到三極式真空滅弧室，其主要用于制造雙路真空電力開關，其有二個對稱的滅弧室，有兩個動電極和一個公共的靜電極，即連接電源側的一個靜電極和連接負載側的兩個動電極。
與本實用新型最相接近的對比技術是英國《世界專利文摘》雜志83年第33卷電力工程部分第18頁所載的名稱為《高壓開關真空滅弧室》(見剖視
圖1)，該滅弧室室壁內具有兩個對稱的腔體8、9，腔體8、9內分別有對稱的線圈式動電極12及13、導電桿4、靜電極10及11，中間有隔板的圓筒形靜電極7為公共引出端。腔體8、9內還分別有滅弧罩20、21及均壓屏蔽罩19、17、18、16。這種滅弧室的缺點是結構比較復雜，滅弧罩20、21置于滅弧室室壁之內，散熱性能和滅弧性能較差，而且腔體體積較大。
本專利申請的目的是提供一種結構簡單、體積較小、散熱和滅弧性能較好的低壓雙動電極真空滅弧室。
本實用新型的技術解決方案是把滅弧罩的罩身同時作為真空滅弧室的一段室壁，真空滅弧室中的動觸頭、靜觸頭以及靜電極做成平板式的。
由于動觸頭、靜觸頭以及靜電極做成平板式，結構簡單；滅弧罩的罩身同時作為真空滅弧室的一段室壁，不但可以減小滅弧室的體積，而且較大地改善散熱性能，提高滅弧性能。
圖2是本實用新型的剖視圖，并作為摘要附圖。
以下結合圖2對本實用新型進一步說明。本實用新型由上真空滅弧室16、下真空滅弧室17以及公共靜電極板8組成；上滅弧室16的中心有一對動、靜觸頭6以及7，靜觸頭7焊接在靜電極板8上，動觸頭與桿狀動電極1的一端焊接，動電極1的另一端套有滅弧室室蓋2，動、靜觸頭對6以及7的上方有滅弧罩5，動電極1的桿身與室蓋2之間封接有波紋管4，靜電極板8兼作為滅弧室16的室底；下滅弧室17的結構與上滅弧室16以靜電極板8為對稱面全對稱；本實用新型的特征在于由絕緣物制成的圓筒3與滅弧罩5的罩身封接，組成上滅弧室的室壁，該室壁的兩端分別與室蓋2以及由靜電極板8構成的室底封接。如此，由于動電極1、波紋管4、室蓋2、絕緣物圓筒3、滅弧罩5的罩身、靜電極板8依次封接，可以置于真空加熱爐內密封封接，如此制造出上真空滅弧室16。與此對應，由絕緣物制成的圓筒13與滅弧罩11的罩身封接，組成下滅弧室的室壁，該室壁的兩端分別與室蓋14以及由靜電極板8構成的室底封接。如此，由于動電極15、波紋管12、室蓋14、絕緣物圓筒13、滅弧罩11的罩身、靜電極8依次真空密封封接，如此構成下真空滅弧室17。
上、下滅弧室中，相對稱的動觸頭6以及10分別是導電平板，相對稱的靜觸頭7、9以及公共靜電極板8也是導電平板，相對稱的作為室壁構件的圓筒3以及13用氧化鋁瓷制成。
權利要求1.低壓雙動電極真空滅弧室，由上滅弧室16、下滅弧室17以及靜電極板8組成；上滅弧室16的中心有一對動、靜觸頭6以及7，靜觸頭7焊接在靜電極板8上，動觸頭與桿狀動電極1的一端焊接，動電極1的另一端套有滅弧室室蓋2，動、靜觸頭對6以及7的上方有滅弧罩5，動電極1的桿身與室蓋2之間封接有波紋管4，靜電極板8兼作為滅弧室16的室底；下滅弧室17的結構與上滅弧室16以靜電極板8作對稱面全對稱；本實用新型的特征在于由絕緣物制成的圓筒3與滅弧罩5的罩身封接，組成上滅室16的室壁，該室壁的兩端分別與室蓋2以及由靜電極板8構成的室底封接，與此對應，由絕緣物制成的圓筒13與滅弧罩11的罩身封接，組成下滅弧室17的室壁，該室壁的兩端分別與室蓋14以及由靜電極板8構成的室底封接。
2.按權利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于相對稱的動觸頭6以及10分別是導電平板。
3.按權利要求1、2所述的真空滅弧室，其特征在于相對稱的作為室壁構件的圓筒3以及13用氧化鋁瓷制成。
專利摘要低壓雙動電極真空滅弧室，屬于低壓雙路真空電力開關中的滅弧裝置。具有兩個動電極，一個靜電極。滅弧罩的罩身同時作為真空滅弧室的室壁，以減小滅弧室的體積、提高散熱和滅弧性能。
文檔編號H01H9/30GK2071383SQ90212318
公開日1991年2月13日 申請日期1990年6月8日 優先權日1990年6月8日
發明者沈錫芬, 吳良純, 胡繞奇 申請人:無錫市無線電元件三廠