技術特征：
技術總結
本發明公開一種膜層退火設備及退火方法，涉及顯示技術領域，用于改善顯示裝置的畫面顯示質量。所述膜層退火設備包括：承載臺，用于承載形成有半導體膜層的基板；多個加熱器，用于對半導體膜層各區域進行分別加熱；載流子檢測裝置，用于檢測半導體膜層各區域的載流子濃度；控制裝置，控制裝置分別與載流子檢測裝置和每個加熱器連接，控制裝置根據載流子檢測裝置所檢測的半導體膜層各區域的載流子濃度，調整加熱器對半導體膜層中對應區域進行加熱的加熱溫度，使半導體膜層各區域的載流子濃度相同。本發明提供的膜層退火設備及退火方法應用于制作薄膜晶體管的有源層中。
技術研發人員：王明
受保護的技術使用者：京東方科技集團股份有限公司
技術研發日：2017.07.05
技術公布日：2017.10.24