蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備，該噴淋處理設備包括支撐裝置和噴淋裝置，支撐裝置用于支撐待處理的基材，且支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置用于向傾斜設置的基材噴淋處理液。通過上述方式，本實用新型能夠提升處理液處理基材的均勻性。
【專利說明】蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及噴淋處理【技術領域】，特別是涉及一種蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備。
【背景技術】
[0002]現有的噴淋處理設備通常通過朝下噴淋處理液對水平移動的材料進行化學反應或清洗，處理液因重力作用在水平移動的基材上面形成一層水膜，阻礙新的處理液與材料接觸而造成上表面存在“水池效應”，從而使得噴淋的液體不能直接噴灑到水平移動基材上，造成化學反應或清洗不均勻。
[0003]因此，需要提供一種蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備，以解決上述問題。
實用新型內容
[0004]本實用新型主要解決的技術問題是提供一種蝕刻、顯影、清洗以及褪膜設備、噴淋處理設備，能夠避免與基材反應過的處理液阻擋新的處理液與基材反應，能夠提升處理液處理基材的均勻性。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案是:提供一種噴淋處理設備，噴淋處理設備包括:支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置，用于向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0006]其中，支撐裝置設有用于傳送基材的傳送機構。
[0007]其中，支撐裝置的兩側均設置有噴淋裝置。
[0008]其中，支撐平面與水平面的夾角為2?70度。
[0009]其中，支撐裝置還包括用于調節支撐平面的傾斜角度的角度調節裝置。
[0010]其中，噴淋裝置與支撐裝置平行設置，且噴淋裝置噴出處理液的方向與支撐裝置支撐的基材表面垂直；或者噴淋裝置水平設置，且噴淋裝置噴出處理液的方向與水平面垂直。
[0011]其中，支撐裝置包括至少兩個子支撐裝置，噴淋裝置包括至少兩個子噴淋裝置，且每個子支撐裝置對應設置至少一個子噴淋裝置。
[0012]其中，至少兩個子支撐裝置的兩支撐平面相交。
[0013]其中，至少兩個子支撐裝置的兩支撐平面關于同一鉛垂面對稱設置。
[0014]為解決上述技術問題，本實用新型采用的另一個技術方案是:提供一種蝕刻設備，該蝕刻設備包括支撐裝置和噴淋裝置，支撐裝置用于支撐待處理的基材，且支撐裝置支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置用于向傾斜設置的基材噴淋蝕刻液。
[0015]為解決上述技術問題，本實用新型采用的另一個技術方案是:提供一種顯影設備，顯影設備包括支撐裝置和噴淋裝置，支撐裝置用于支撐待處理的基材，且支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置用于向傾斜設置的基材噴淋顯影液。
[0016]為解決上述技術問題，本實用新型采用的又一個技術方案是:提供一種清洗設備，該清洗設備包括支撐裝置和噴淋裝置，支撐裝置用于支撐待處理的基材，且支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置用于向傾斜設置的基材噴淋清洗液。
[0017]為解決上述技術問題，本實用新型采用的又一個技術方案是:提供一種褪膜設備，該褪膜設備包括支撐裝置和噴淋裝置，支撐裝置用于支撐待處理的基材，且支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜；噴淋裝置用于向傾斜設置的基材噴淋褪膜液。
[0018]本實用新型的有益效果是:區別于現有技術的情況，本實用新型通過設置支撐平面傾斜的支撐裝置，使基材上的處理液快速流走避免“水池效應”，確保新鮮處理液持續快速與基材表面反應，不會產生處理液到不了的死角，從而提升處理液處理基材的均勻性。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1是本實用新型噴淋處理設備的第一實施例的結構示意圖；
[0020]圖1a是支撐裝置和噴淋裝置傾斜的另一種情況示意圖；
[0021]圖2是本實用新型噴淋處理設備的第二實施例的結構示意圖；
[0022]圖3是本實用新型噴淋處理設備的第三實施例的結構示意圖；
[0023]圖4是本實用新型噴淋處理設備的第四實施例的結構示意圖；
[0024]圖5是本實用新型噴淋處理設備的第五實施例的結構示意圖；
[0025]圖6是本實用新型噴淋處理方法的優選實施例的流程圖。
【具體實施方式】
[0026]下面結合附圖和實施例對本實用新型進行說明。
[0027]請參閱圖1，圖1是本實用新型噴淋處理設備的第一實施例的結構示意圖。在本實施例中，在本實施例中，噴淋處理設備包括支撐裝置10和噴淋裝置11。
[0028]支撐裝置10用于支撐待處理的基材12，且支撐裝置10的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材12與水平面成預定角度傾斜。
[0029]噴淋裝置11用于向傾斜設置的基材12噴淋處理液。噴淋裝置11進一步相對水平面傾斜設置，優選地，噴淋裝置11與支撐裝置10平行設置，且噴淋裝置11噴出處理液的方向與支撐裝置10支撐的基材12表面垂直。當然，在其他實施例中，噴淋裝置11也可以是水平設置。
[0030]噴淋裝置11包括安裝板111和噴頭112，安裝板111用于固定噴頭112，噴頭112用于噴淋處理液。優選地，安裝板111與支撐裝置10支撐平面平行設置。在本實用新型其他實施例中，安裝板111與支撐裝置10支撐平面也可以成一定的角度設置，比如安裝板111水平設置。
[0031]優選地，噴淋處理設備也包括用于調節噴淋裝置的傾斜角度的角度調節裝置。
[0032]優選地，噴淋處理設備設有用于調節噴淋裝置11旋轉角度的調節裝置(圖未示)，噴淋處理設備還設有用于調節支撐裝置10旋轉角度的調節裝置。
[0033]優選地，支撐裝置10設有用于傳送基材12的傳送機構，即支撐裝置10還用于傳送基材12。傳送機構包括若干通過動力驅動而轉動的輥軸101，基材12支撐在多個輥軸101形成的支撐平面上，由輥軸101轉動從而傳送基材12。
[0034]優選地，輥軸101之間有間隙，噴淋裝置11噴出的處理液通過間隙噴淋至基材12上。
[0035]優選地，支撐裝置10具有一個整體的支撐平面支撐基材12。
[0036]優選地，支撐裝置10的兩側均設置有噴淋裝置11。
[0037]優選地，支撐裝置10還包括用于調節支撐平面的傾斜角度的角度調節裝置。
[0038]優選地，支撐裝置10支撐平面與水平面的夾角為2?70度。
[0039]更為優選地，支撐裝置10支撐平面與水平面的夾角為3?10度。
[0040]由于基材12支撐在支撐平面上，基材12與水平面的夾角和支撐裝置10支撐平面與水平面的夾角相等。
[0041]優選地，處理液為顯影液、蝕刻液、清洗液、褪膜液中的一種或組合。例如，當處理液為顯影液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為顯影設備，當處理液為蝕刻液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為蝕刻設備，當處理液為清洗液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為清洗設備。當處理液為褪膜液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為褪膜設備，當然在有多個子噴淋裝置和子支撐裝置而在不同的子噴淋裝置上噴淋不同的處理液時，本實用新型的噴淋處理設備也可以是一種流水線處理設備，例如流水線處理設備利用不同的子噴淋裝置按一定的順序噴淋顯影液、蝕刻液、清洗液、褪膜液中的至少兩種，從而來實現一道流水線工序。
[0042]優選地，蝕刻液是鹽酸、氯酸鈉溶液、三氯化鐵溶液、或氯化氨溶液中的一種或幾種。優選地，基材采用銅或不銹鋼制作。顯影液是碳酸鈉溶液或碳酸鉀溶液中的一種或幾種。在其他實施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。
[0043]優選地，支撐裝置10能夠繞支撐平面的法線方向旋轉。
[0044]在本實施例中，噴淋處理設備包括操作面和與非操作面，正常操控設備時，操作員面向的平面為操作面，而非操作面為與操作面垂直的平面。如圖1中所示，與紙面平行的平面為操作面，與紙面垂直的平面為非操作面，則在本實施例中，支撐裝置10和噴淋裝置11優選為在操作面平面旋轉而產生傾斜。當然在其他實施例中，也可以是另一種情況的傾斜，請進一步參閱圖la，圖1a是支撐裝置和噴淋裝置傾斜的另一種情況示意圖。如圖1a所示，與紙面垂直的平面為操作面，而與紙面平行的平面為非操作面，則另一種情況是支撐裝置1a和噴淋裝置Ila優選為在非操作面旋轉而產生傾斜。
[0045]請參閱圖2，圖2是本實用新型噴淋處理設備的第二實施例的結構示意圖。在本實施例中，噴淋處理設備包括支撐裝置20和噴淋裝置21。
[0046]支撐裝置20用于支撐待處理的基材22，且支撐裝置20支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得基材與水平面成預定角度傾斜。噴淋裝置21用于向傾斜設置的基材22噴淋處理液。
[0047]優選地，支撐裝置20設有用于傳送基材22的傳送機構。傳送機構包括若干通過動力驅動而轉動的輥軸201，基材22支撐在多個輥軸201形成的支撐平面上，輥軸201有上下兩排，上下兩排輥軸201平行且間隔設置，基材22穿過兩排輥軸201之間，由輥軸201轉動從而傳送基材22。同一排輥軸201中，多個輥軸201中相鄰兩個輥軸201間隔設置形成多個間隙。
[0048]優選地，支撐裝置20包括至少兩個子支撐裝置20a、20b，噴淋裝置21包括至少兩個子噴淋裝置21a、21b，且每個子支撐裝置20a、20b對應設置至少一個子噴淋裝置21a、21b。子支撐裝置20a、20b中至少有一個子支撐裝置20a、20b的支撐平面相對水平面傾斜設置。
[0049]優選地，支撐裝置20包括兩個子支撐裝置20a、20b，兩個子支撐裝置20a、20b用于在噴淋裝置21向基材22噴淋同種處理液時依次支撐基材22，兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面均相對于水平面傾斜設置，且二者相對同一水平面的傾斜方向相反。例如，如圖2中所示，子支撐裝置20a相對于水平面的傾斜方向向上，而子支撐裝置20b相對于水平面的傾斜方向向下。當然，在其他的實施例中，也可以是子支撐裝置20a相對于水平面的傾斜方向向下，而子支撐裝置20b相對于水平面的傾斜方向向上。
[0050]優選地，至少兩個子支撐裝置20a、20b的兩支撐平面相交。在其他實施例中，至少兩個子支撐裝置20a和20b的兩支撐平面也可以是不相交。優選地，至少兩個子支撐裝置20a、20b的兩支撐平面關于同一鉛垂面對稱設置。優選地，兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與同一水平面的夾角相等，且兩個子支撐裝置的支撐平面的夾角為鈍角。例如，若兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面相交則二者相交形成相交線，而經過這條相交線有一個豎直平面，兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與同一水平面的夾角相等即兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面關于經過二者相交形成的相交線的豎直平面對稱；若兩個子支撐裝置20a、20b不相交則二者的延伸面相交形成相交線，而經過這條相交線也有一個豎直平面，兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與同一水平面的夾角相等即兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面關于經過二者的延伸面形成的相交線的豎直平面對稱。
[0051]優選地，在本實施例中，兩個子支撐裝置20a、20b相交設置，如圖2中所示，兩個子支撐裝置20a、20b首尾相接。
[0052]優選地，兩個子支撐裝置20a和20b支撐平面與水平面的夾角根據基材22的厚度確定，基材22的厚度越大，則調整支撐平面與水平面的夾角越大，反之，基材22的厚度越小，則調整支撐平面與水平面的夾角越小。優選地，至少有一個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與水平面的夾角為2°?70°。更為優選地，至少有一個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與水平面的夾角為3°?10°。在本實施例中，兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與水平面的夾角均為2?70度，更為優選地兩個子支撐裝置20a、20b的支撐平面與水平面的夾角均為3?10度。優選地，每個子支撐裝置20a、20b都設有用于調節子支撐裝置20a、20b的支撐平面傾斜角度的角度調節裝置。在其他實施例中，噴淋處理設備也可以包括同時調節各個子支撐裝置20a、20b傾斜角度的角度調節裝置。
[0053]優選地，噴淋裝置21包括兩個與子支撐裝置20a、20b對應設置的子噴淋裝置21a、21b。例如，子噴淋裝置21a與子支撐裝置20a對應設置，以通過子噴淋裝置21a噴淋處理液至子支撐裝置20a所支撐的基材22上；而子噴淋裝置21b與子支撐裝置20b對應設置，以通過子噴淋裝置21b噴淋處理液至子支撐裝置20b所支撐的基材22上。
[0054]優選地，至少有一個子噴淋裝置21a、21b與至少一個子支撐裝置20a、20b平行設置，且子噴淋裝置21a、21b噴出處理液的方向與對應的子支撐裝置20a、20b的支撐平面上的基材22表面垂直。
[0055]優選地，兩個子噴淋裝置21a、21b均相對于水平面傾斜設置。在其他實施例中，也可以是兩個子噴淋裝置21a、21b中至少有一個子噴淋裝置21a、21b水平設置。
[0056]優選地，子噴淋裝置21a、21b與對應的子支撐裝置20a、20b支撐平面平行設置，且子噴淋裝置21a、21b噴出處理液的方向與對應的子支撐裝置20a、20b的支撐平面上的基材22表面垂直.例如，子噴淋裝置21a與對應的子支撐裝置20a支撐平面平行設置，而子噴淋裝置21b與對應的子支撐裝置20b支撐平面平行設置。當然，在其他實施例中，子噴淋裝置21a、21b也可以是與對應子支撐裝置20a、20b均傾斜設置而二者不相互平行。
[0057]每一個子噴淋裝置21a或者21b包括安裝板211和噴頭212，安裝板211用于固定噴頭212，噴頭212用于噴淋處理液。優選地，安裝板211與對應的子支撐裝置20a或者20b平行設置。
[0058]優選地，至少有一個子支撐裝置20a、20b的兩側均設置有子噴淋裝置21a、21b。更為優選地，在本實施例中，子支撐裝置20a的兩側均設置有子噴淋裝置21a，而子支撐裝置20b的兩側均設置有子噴淋裝置21b。
[0059]子支撐裝置20a兩側的兩個子噴淋裝置21a間隔設置且子支撐裝置20a和基材22設置在兩個子噴淋裝置21a之間，使得兩個子噴淋裝置21a分別對基材22的兩個表面噴淋處理液。類似的，子支撐裝置20b兩側的兩個子噴淋裝置21b間隔設置且子支撐裝置20b和基材22設置在兩個子噴淋裝置21b之間，使得兩個子噴淋裝置21b分別對基材22的兩個表面噴淋處理液。
[0060]優選地，噴淋處理設備還包括與每一子噴淋裝置21a、21b對應設置的且用于調節子噴淋裝置21a、21b的傾斜角度的角度調節裝置。
[0061]優選地，兩相鄰輥軸201之間的間隙與噴頭212的位置對應，以使得噴頭212噴出的處理液可以通過該間隙直接噴灑于基材22上。
[0062]優選地，處理液為顯影液、蝕刻液、清洗液、褪膜液中的一種或組合。例如，當處理液為顯影液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為顯影設備，當處理液為蝕刻液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為蝕刻設備，當處理液為清洗液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為清洗設備。當處理液為褪膜液的時候，本實用新型的噴淋處理設備可以為褪膜設備，當然在有多個子噴淋裝置和子支撐裝置而在不同的子噴淋裝置上噴淋不同的處理液時，本實用新型的噴淋處理設備也可以是一種流水線處理設備，例如流水線處理設備利用不同的子噴淋裝置按一定的順序噴淋顯影液、蝕刻液、清洗液、褪膜液中的至少兩種，從而來實現一道流水線工序。
[0063]優選地，蝕刻液是鹽酸、氯酸鈉溶液、三氯化鐵溶液、或氯化氨溶液中的一種或幾種。優選地，基材采用銅或不銹鋼制作。顯影液是碳酸鈉溶液或碳酸鉀溶液中的一種或幾種。在其他實施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。
[0064]值得注意的是，在本實施例中，噴淋裝置僅包括兩個子支撐裝置，噴淋裝置僅包括兩個與子支撐裝置對應設置的子噴淋裝置，然而本領域技術人員可以理解的是在其他的實施例中，支撐裝置也可以包括兩個以上的子支撐裝置，而對應的噴淋裝置也可以包括與子支撐裝置對應數量的子噴淋裝置，而傾斜的方式采用波浪形傾斜，即相鄰兩個子支撐裝置的傾斜方向相反。
[0065]請參閱圖3，圖3是本實用新型噴淋處理設備的第三實施例的結構示意圖。本實用新型噴淋處理設備的第三實施例與第二實施例的不同之處在于，在本實施例中，支撐裝置30包括至少兩個子支撐裝置30a、30b，兩個子支撐裝置30a、30b用于在噴淋裝置向基材噴淋同種處理液時依次支撐基材32。在本實施例中，至少兩個子支撐裝置30a、30b的兩支撐平面平行設置或共面設置。即兩個子支撐裝置30a、30b的支撐平面均相對于水平面傾斜設置，且二者相對同一水平面的傾斜方向相同。例如，如圖3所示，兩個子支撐裝置30a、30b均向上傾斜，當然，在其他實施例中，兩個子支撐裝置30a、30b也可以是均向下傾斜。優選地，兩個子支撐裝置30a、30b首尾相連接，兩個子支撐裝置30a、30b的兩支撐平面共面設置，即兩個子支撐裝置30a、30b的兩支撐平面位于同一平面上。在本實施例中，兩個子支撐裝置30a、30b還可以不是首尾相接，兩個子支撐裝置30a、30b的兩支撐平面相互平行設置。
[0066]請參閱圖4，圖4是本實用新型噴淋處理設備的第四實施例的結構示意圖。本實用新型噴淋處理設備的第四實施例與第二實施例的不同之處在于，在本實施例中，噴淋裝置41包括兩個子噴淋裝置41a、41b。兩個子噴淋裝置41a、41b均水平設置。
[0067]請參閱圖5，圖5是本實用新型噴淋處理設備的第五實施例的結構示意圖。本實用新型噴淋處理設備的第五實施例與第二實施例的不同之處在于，在本實施例中，兩個子支撐裝置50a、50b不相交，如圖5中所示，兩個子支撐裝置50a、50b首尾不相連接。
[0068]請參閱圖6，圖6是本實用新型噴淋處理方法的優選實施例的流程圖。在本實施例中，噴淋處理方法包括:
[0069]步驟Sll:將待處理基材置于支撐平面傾斜設置的支撐裝置上，以使得基材與水平面成預定角度傾斜。
[0070]在步驟Sll中，支撐裝置的支撐平面與水平面的夾角為2?70度。由于基材支撐在支撐平面上，基材與水平面的夾角也為2?70度。更為優選地，支撐裝置支撐平面與水平面的夾角為3?10度。具體地，支撐裝置可以為上述任意一實施例中的支撐裝置，此處不再贅述。
[0071]步驟S12:利用噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0072]在步驟S12中，噴淋裝置可以為上述任意一實施例中的噴淋裝置，此處不再贅述。
[0073]優選地，本實施例的噴淋處理方法還包括:當噴淋裝置向基材噴淋處理液時，利用支撐裝置的傳送機構傳送基材，以帶動基材從噴淋室的入口向噴淋室的出口傳送。
[0074]優選地，利用噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液包括:利用噴淋裝置從基材的兩側向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0075]優選地，利用噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液包括:利用噴淋裝置以垂直于基材的角度向傾斜設置的基材噴淋處理液。在其他實施例中，利用噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液也可以是包括:利用噴淋裝置以垂直于水平面的角度向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0076]優選地，將待處理基材置于支撐平面傾斜設置的支撐裝置上包括:將待處理基材置于支撐裝置包括的至少兩個支撐平面傾斜設置的子支撐裝置上；利用噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液包括:將噴淋裝置設置為包括至少兩個子噴淋裝置，利用至少兩個子噴淋裝置向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0077]優選地，將待處理基材置于至少兩個子支撐裝置上包括:將待處理基材置于至少一個支撐平面相對水平面傾斜設置的子支撐裝置上。將待處理基材置于至少兩個子支撐裝置上包括:將待處理基材置于至少兩個支撐平面相交設置的子支撐裝置上。更為優選地，將待處理基材置于至少兩個支撐平面相交設置的子支撐裝置上包括:將待處理基材置于至少兩個支撐平面關于同一鉛垂面對稱設置的子支撐裝置上。
[0078]優選地，利用子噴淋裝置向傾斜設置的基材淋處理液包括:利用至少兩個子噴淋裝置以垂直于基材的角度或以垂直于水平面的角度向傾斜設置的基材噴淋處理液。
[0079]優選地，利用子噴淋裝置向傾斜設置的基材淋處理液包括:利用至少兩個子噴淋裝置向至少一個傾斜設置的子支撐裝置的兩側噴淋處理液。
[0080]值得注意的是本實用新型噴淋處理方法可利用上述噴淋處理設備執行，具體請參見上文的描述。
[0081]優選地，噴淋處理設備包括與操作員相對的操作面和與操作面垂直的非操作面，支撐平面在操作面內旋轉而傾斜。在其他的實施例中，支撐平面也可以在非操作面內旋轉而傾斜。
[0082]優選地，處理液為顯影液、蝕刻液、清洗液、褪膜液中的一種或組合。優選地，蝕刻液是鹽酸、氯酸鈉溶液、三氯化鐵溶液、或氯化氨溶液中的一種或幾種。優選地，基材采用銅或不銹鋼制作。顯影液是碳酸鈉溶液或碳酸鉀溶液中的一種或幾種。在其他實施例中，基材也可以采用感光油墨或干膜制作。具體請參見上述上文的描述。
[0083]區別于現有技術的情況，本實用新型通過設置支撐平面傾斜的支撐裝置，使基材上的處理液快速流走避免“水池效應”，確保新鮮處理液持續快速與基材表面反應，不會產生處理液到不了的死角，從而提升處理液處理基材的均勻性。
[0084]以上所述僅為本實用新型的實施方式，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的【技術領域】，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
【權利要求】
1.一種噴淋處理設備，其特征在于，所述噴淋處理設備包括: 支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且所述支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得所述基材與水平面成預定角度傾斜； 噴淋裝置，用于向傾斜設置的所述基材噴淋處理液。
2.根據權利要求1所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述支撐裝置設有用于傳送基材的傳送機構。
3.根據權利要求1所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述支撐裝置的兩側均設置有噴淋裝置。
4.根據權利要求1所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述支撐平面與水平面的夾角為2?70度。
5.根據權利要求4所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述支撐裝置還包括用于調節所述支撐平面的傾斜角度的角度調節裝置。
6.根據權利要求1所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述噴淋裝置與所述支撐裝置平行設置，且所述噴淋裝置噴出處理液的方向與所述支撐裝置支撐的基材表面垂直；或者所述噴淋裝置水平設置，且所述噴淋裝置噴出處理液的方向與水平面垂直。
7.根據權利要求1-6任一項所述的噴淋處理設備，其特征在于，所述支撐裝置包括至少兩個子支撐裝置，所述噴淋裝置包括至少兩個子噴淋裝置，且每個所述子支撐裝置對應設置至少一個子噴淋裝置。
8.根據權利要求7所述的噴淋處理設備，其特征在于，至少兩個所述子支撐裝置的兩支撐平面相交。
9.根據權利要求8所述的噴淋處理設備，其特征在于，至少兩個所述子支撐裝置的兩支撐平面關于同一鉛垂面對稱設置。
10.一種蝕刻設備，其特征在于，所述蝕刻設備包括: 支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且所述支撐裝置支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得所述基材與水平面成預定角度傾斜； 噴淋裝置，用于向傾斜設置的所述基材噴淋蝕刻液。
11.一種顯影設備，其特征在于，所述顯影設備包括: 支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且所述支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得所述基材與水平面成預定角度傾斜； 噴淋裝置，用于向傾斜設置的所述基材噴淋顯影液。
12.一種清洗設備，其特征在于，所述清洗設備包括: 支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且所述支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得所述基材與水平面成預定角度傾斜； 噴淋裝置，用于向傾斜設置的所述基材噴淋清洗液。
13.一種褪膜設備，其特征在于，所述褪膜設備包括: 支撐裝置，用于支撐待處理的基材，且所述支撐裝置的支撐平面相對水平面傾斜設置，以使得所述基材與水平面成預定角度傾斜； 噴淋裝置，用于向傾斜設置的所述基材噴淋褪膜液。
【文檔編號】H01L21/67GK204230209SQ201420550326
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年9月23日 優先權日:2014年9月23日
【發明者】孫尚傳 申請人:安徽省大富光電科技有限公司