一種清理工具的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種清理工具，所述清理工具包含刀片和粘附于所述刀片工作區(qū)域的百潔布。所述刀片設(shè)有工作區(qū)域，所述百潔布粘附于所述刀片的工作區(qū)域內(nèi)，且所述百潔布的大小與所述刀片工作區(qū)域的大小一致，避免了因百潔布過大而對靜電吸盤其他部位造成損害；同時，形成的百潔布工作區(qū)域與靜電吸盤的外形輪廓相匹配，可以徹底地清除靜電吸盤邊緣的等離子體；刀片還設(shè)有刀鋒區(qū)域，可以對百潔布難以清理到的靜電吸盤的邊角縫隙進(jìn)行清理；所述清潔工具外形小巧，可以在狹小的工作空間內(nèi)靈活使用，大大提高了工作效率。
【專利說明】
—種清理工具
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種清理工具。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體器件的制造工序中，尤其是半導(dǎo)體刻蝕工序中，通常會使用等離子體刻蝕裝置形成刻蝕氣體的等離子體(Plasma)，通過等離子體中的離子、游離基等活性種進(jìn)行刻蝕。而近年來，隨著半導(dǎo)體集成電路的高密度化，半導(dǎo)體器件的微型化也在發(fā)展，在刻蝕中也要求微細(xì)加工。另外，由于氧化膜等被刻蝕膜中形成的孔或槽，在高深寬比接觸蝕刻工序中也要求高深寬比。而形成這種高深寬比的孔或槽時，一直以來使用具有堆積性的刻蝕氣體，例如C4F8、C4F6, C5F8等氟碳系氣體作為刻蝕氣體。然而，利用這些氣體作為刻蝕氣體的時候，在工程師對反應(yīng)室進(jìn)行維護(hù)時，會發(fā)現(xiàn)在插入環(huán)和靜電吸盤之間有等離子堆積并緊緊的粘附在靜電吸盤的邊緣，如果不及時徹底的清理掉靜電吸盤邊緣粘附的等離子體，在下一個循環(huán)工序中，反應(yīng)室就會停止工作。因此，在維護(hù)中干凈的清理掉堆積的等離子體成為重中之重。
[0003]在現(xiàn)有工藝中，工程師大多使用百潔布來擦除這些部位堆積的等離子體。然而，在使用百潔布清理的過程中，經(jīng)常會清理的不夠徹底，并且在實際操作中，由于工程師無法合理的控制百潔布的大小，在靜電吸盤邊緣進(jìn)行清理時，也會對靜電吸盤的其他部位造成不同程度的損害。譬如，對靜電吸盤造成的損害有以下幾種:1.百潔布過大，擦邊緣時，會將等離子體帶到靜電吸盤的通氮?dú)獾牡獨(dú)饪變?nèi)，將孔堵塞，使得反應(yīng)室在工作的時候，氮?dú)鉄o法順暢的流出而造成反應(yīng)室停止工作，以及氮?dú)鉄o法順暢的流出而造成的晶片冷卻不徹底而產(chǎn)生電弧放電；2.百潔布過大，擦邊緣的時候很容易擦到靜電吸盤的底座，長時間的擦拭摩擦容易對靜電吸盤的底座的涂覆層造成損害，使得底座的鋁層完全裸露出來。鋁層的裸露，使得在反應(yīng)室工作時，等離子體會與鋁發(fā)生反應(yīng)，在靜電吸盤的縫隙中生成白色的多晶聚合物，進(jìn)而對工藝造成影響。
[0004]鑒于此，有必要設(shè)計一種新的清理工具用以解決上述技術(shù)問題。
實用新型內(nèi)容
[0005]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實用新型的目的在于提供一種清理工具，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于使用百潔布清理靜電吸盤邊緣堆積的等離子體而造成的清理不夠徹底或?qū)o電吸盤的其他部位造成不同程度的損害，進(jìn)而影響生產(chǎn)工藝的問題。
[0006]為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種清理工具，適于清理靜電吸盤邊緣堆積粘附的等離子體，所述靜電吸盤包含第一圓柱體和第二圓柱體，所述第二圓柱體位于所述第一圓柱體的上表面，且所述第一圓柱體的半徑大于所述第二圓柱體的半徑，所述清理工具至少包含:刀片和百潔布；所述刀片包含第一端、第二端、第一側(cè)和第二偵牝所述第一端靠近所述第一側(cè)的部分和所述第一側(cè)靠近所述第一端的部分設(shè)有刀片工作區(qū)域，所述刀片工作區(qū)域的寬度等于所述刀片的厚度；所述百潔布粘附于所述刀片工作區(qū)域內(nèi)，形成對應(yīng)的百潔布工作區(qū)域，所述百潔布工作區(qū)域包含:第一百潔布工作區(qū)域、第二百潔布工作區(qū)域、第三百潔布工作區(qū)域和第四百潔布工作區(qū)域；所述第一百潔布工作區(qū)域、第二百潔布工作區(qū)域、第三百潔布工作區(qū)域和第四百潔布工作區(qū)域依次接觸連接；所述第一百潔布工作區(qū)域的高度小于或等于所述第一圓柱體的高度；所述第二百潔布工作區(qū)域的長度等于所述第一圓柱體和所述第二圓柱體的半徑之差；所述第三百潔布工作區(qū)域的高度等于所述第二圓柱體的高度。
[0007]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀片為陶瓷刀片。
[0008]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀片的長度為45?55mm，所述刀片的寬度為10?20mm,所述刀片的厚度為I?2mm。
[0009]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述百潔布工作區(qū)域的寬度小于或等于所述刀片工作區(qū)域的寬度。
[0010]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述百潔布工作區(qū)域的寬度等于所述刀片工作區(qū)域的寬度。
[0011]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀片第一端靠近所述第二側(cè)的部分和所述刀片第二側(cè)靠近所述第一端的部分均設(shè)有刀鋒，所述刀鋒形成刀鋒區(qū)域。
[0012]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀鋒的坡度為2:1.1。
[0013]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀鋒的高度為I?3mm，所述刀鋒沿所述刀片厚度方向上的長度為0.5?1.5mm。
[0014]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀片的第二側(cè)所設(shè)刀鋒區(qū)域的長度小于所述刀片的長度。
[0015]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述刀片的第二側(cè)所設(shè)刀鋒區(qū)域的長度小于或等于所述刀片長度的1/2。
[0016]作為本實用新型的清理工具的一種優(yōu)選方案，所述百潔布為含砂百潔布。
[0017]如上所述，本實用新型的清理工具，具有以下有益效果:所述清理工具包含刀片和百潔布，刀片設(shè)有工作區(qū)域，所述百潔布粘附于所述刀片的工作區(qū)域內(nèi)，且所述百潔布的大小與所述刀片工作區(qū)域的大小一致，避免了因百潔布過大而對靜電吸盤其他部位造成損害；同時，形成的百潔布工作區(qū)域與靜電吸盤的外形輪廓相匹配，可以徹底地清除靜電吸盤邊緣的等離子體；刀片還設(shè)有刀鋒區(qū)域，可以對百潔布難以清理到的靜電吸盤的邊角縫隙進(jìn)行清理；所述清潔工具外形小巧，可以在狹小的工作空間內(nèi)靈活使用，大大提高了工作效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018]圖1顯示為本實用新型的刀片的正視圖。
[0019]圖2顯示為本實用新型的刀片的左視圖。
[0020]圖3顯示為本實用新型的清理工具的正視圖。
[0021]圖4顯示為本實用新型的清理工具的左視圖。
[0022]圖5顯示為本實用新型的清理工具置于靜電吸盤上的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]元件標(biāo)號說明
[0024]21刀片
[0025]211第一端
[0026]212第二端
[0027]213第一側(cè)
[0028]214第二側(cè)
[0029]215刀片工作區(qū)域
[0030]216刀鋒區(qū)域
[0031]22百潔布
[0032]221百潔布工作區(qū)域
[0033]221a第一百潔布工作區(qū)域
[0034]221b第二百潔布工作區(qū)域
[0035]221c第三百潔布工作區(qū)域
[0036]221d第四百潔布工作區(qū)域
[0037]23靜電吸盤
[0038]231第一圓柱體
[0039]232第二圓柱體
[0040]hi第一百潔布工作區(qū)域的高度
[0041]h2第一圓柱體的高度
[0042]h3第三百潔布工作區(qū)域的高度
[0043]h4第二圓柱體的高度
[0044]h5刀鋒的高度
[0045]L1第二百潔布工作區(qū)域的長度
[0046]L2第二側(cè)刀鋒區(qū)域的長度
[0047]L3刀片的長度
[0048]L4刀鋒沿刀片厚度方向上的長度
[0049]D刀片的寬度
[0050]Cl1刀片的厚度
[0051]d2刀片工作區(qū)域的寬度
[0052]d3百潔布工作區(qū)域的寬度
[0053]R1第一圓柱體的半徑
[0054]R2第二圓柱體的半徑
【具體實施方式】
[0055]以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本實用新型還可以通過另外不同的【具體實施方式】加以實施或應(yīng)用，本說明書中的各項細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒有背離本實用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0056]請參閱圖1至圖5。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實用新型可實施的限定條件，故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實用新型可實施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實用新型可實施的范疇。
[0057]請參閱圖1至圖4，本實用新型提供一種清理工具，所述清理工具至少包含刀片21和百潔布22。所述刀片21包含第一端211、第二端212、第一側(cè)213和第二側(cè)214,所述第一端211靠近所述第一側(cè)213的部分和所述第一側(cè)213靠近所述第一端211的部分設(shè)有刀片工作區(qū)域215，所述刀片工作區(qū)域215的寬度d2等于所述刀片的厚度Cl1 ;所述百潔布22粘附于所述刀片工作區(qū)域215內(nèi)，形成對應(yīng)的百潔布工作區(qū)域221，所述百潔布工作區(qū)域221包含:第一百潔布工作區(qū)域221a、第二百潔布工作區(qū)域221b、第三百潔布工作區(qū)域221c和第四百潔布工作區(qū)域221d ;所述第一百潔布工作區(qū)域221a、第二百潔布工作區(qū)域221b、第三百潔布工作區(qū)域221c和第四百潔布工作區(qū)域221d依次接觸連接。
[0058]請參閱圖1至圖2，其中圖1為刀片21的正視圖，圖2為刀片21的左視圖。由圖1和圖2可知，所述刀片21包含第一端211、第二端212、第一側(cè)213和第二側(cè)214，所述第一端211靠近所述第一側(cè)213的部分和所述第一側(cè)213靠近所述第一端211的部分設(shè)有刀片工作區(qū)域215，所述刀片工作區(qū)域215的寬度d2等于所述刀片的厚度屯。
[0059]具體的，由于靜電吸盤與反應(yīng)室之間的間隙比較小，為了使得所述刀片21能夠在較小的空隙內(nèi)靈活使用，所述刀片21的尺寸不易設(shè)計得太大。具體的，所述刀片21的長度L3為45?55mm,所述刀片21的寬度D為10?20mm,所述刀片21的厚度(I1為I?2mm ;優(yōu)選地，本實施例中，所述刀片21的長度L3S 50mm，所述刀片21的寬度D為16mm，所述刀片21的厚度(I1為1.5mm。
[0060]具體的，所述刀片21為陶瓷刀片。
[0061]具體的，所述刀片21第一端211靠近所述第二側(cè)214的部分和所述刀片21第二偵忉14靠近所述第一端211的部分設(shè)有刀鋒，所述刀鋒形成刀鋒區(qū)域216。所述刀鋒的坡度為2:1.1，即所述刀鋒的高度h5與所述刀鋒沿所述刀片21厚度方向上的長度L4的比h5:L4為2:1.1。所述刀鋒的高度匕為I?3mm，所述刀鋒沿所述刀片21厚度方向上的長度L4S
0.5?1.5mm ;優(yōu)選地，本實施例中，所述刀鋒的高度h5為2mm，所述刀鋒沿所述刀片21厚度方向上的長度L4S 1.1mm。
[0062]具體的，為了防止在使用所述刀片21的過程中劃傷使用者，所述刀片21的第二側(cè)214上所設(shè)置的刀鋒區(qū)域216不易過長，具體的，所述刀片21的第二側(cè)21所設(shè)刀鋒區(qū)域216的長度應(yīng)小于所述刀片21的長度L3。優(yōu)選地，本實施例中，所述刀片21的第二側(cè)21所設(shè)刀鋒區(qū)域216的長度小于或等于所述刀片21的長度L3的1/2。
[0063]請參閱圖3至圖4，其中圖1為清理工具的正視圖，圖2為所述清理工具的左視圖。由圖3和圖4可知，所述清理工具包含刀片21和百潔布22，所述百潔布22粘附于所述刀片工作區(qū)域215內(nèi)，形成對應(yīng)的百潔布工作區(qū)域221，所述百潔布工作區(qū)域221包含:第一百潔布工作區(qū)域221a、第二百潔布工作區(qū)域221b、第三百潔布工作區(qū)域221c和第四百潔布工作區(qū)域221d ;所述第一百潔布工作區(qū)域221a、第二百潔布工作區(qū)域221b、第三百潔布工作區(qū)域221c和第四百潔布工作區(qū)域221d依次接觸連接。
[0064]具體的，為了提高所述百潔布22的清理能力，所述百潔布22優(yōu)選為含砂百潔布。
[0065]具體的，所述第一百潔布工作區(qū)域221a的高度Sh1，所述第二百潔布工作區(qū)域221b的長度為L1，所述第三百潔布工作區(qū)域221c的高度為h3。
[0066]具體的，所述百潔布工作區(qū)域221的寬度d3小于或等于所述刀片工作區(qū)域215的寬度d2;優(yōu)選地，本實施例中，所述百潔布工作區(qū)域221的寬度屯等于所述刀片工作區(qū)域215的寬度d2。
[0067]請參閱圖5，所述由刀片21和百潔布22構(gòu)成的清理工具適于清理靜電吸盤23邊緣堆積粘附的等離子體，所述靜電吸盤23包含第一圓柱體231和第二圓柱體232，所述第二圓柱體232位于所述第一圓柱體231的上表面，且所述第一圓柱體231的半徑R1大于所述第二圓柱體232的半徑R2。由圖5可知，在使用所述清理工具清理靜電吸盤23邊緣堆積粘附的等離子體時，如果要達(dá)到最佳的清理效果，所述清理工具的百潔布工作區(qū)域要與所述靜電吸盤23的外形輪廓相匹配。具體的，請結(jié)合圖3至圖4，所述第一百潔布工作區(qū)域221a的高度Ii1應(yīng)小于或等于所述第一圓柱體231的高度h2 ;所述第二百潔布工作區(qū)域221b的長度L1應(yīng)等于所述第一圓柱體231和所述第二圓柱體232的半徑之差R1-R2 ;所述第三百潔布工作區(qū)域221c的高度h3應(yīng)等于所述第二圓柱體232的高度h4。優(yōu)選地，本實施例中，所述第一百潔布工作區(qū)域221a的高度Ii1等于所述第一圓柱體231的高度h2。
[0068]綜上所述，本實用新型提供一種清理工具，所述清理工具包含刀片和百潔布，刀片設(shè)有工作區(qū)域，所述百潔布粘附于所述刀片的工作區(qū)域內(nèi)，且所述百潔布的大小與所述刀片工作區(qū)域的大小一致，避免了因百潔布過大而對靜電吸盤其他部位造成損害；同時，形成的百潔布工作區(qū)域與靜電吸盤的外形輪廓相匹配，可以徹底地清除靜電吸盤邊緣的等離子體；刀片還設(shè)有刀鋒區(qū)域，可以對百潔布難以清理到的靜電吸盤的邊角縫隙進(jìn)行清理；所述清潔工具外形小巧，可以在狹小的工作空間內(nèi)靈活使用，大大提高了工作效率。
[0069]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種清理工具，適于清理靜電吸盤邊緣堆積粘附的等離子體，所述靜電吸盤包含第一圓柱體和第二圓柱體，所述第二圓柱體位于所述第一圓柱體的上表面，且所述第一圓柱體的半徑大于所述第二圓柱體的半徑，其特征在于，所述清理工具至少包含:刀片和百潔布； 所述刀片包含第一端、第二端、第一側(cè)和第二側(cè)，所述第一端靠近所述第一側(cè)的部分和所述第一側(cè)靠近所述第一端的部分設(shè)有刀片工作區(qū)域，所述刀片工作區(qū)域的寬度等于所述刀片的厚度； 所述百潔布粘附于所述刀片工作區(qū)域內(nèi)，形成對應(yīng)的百潔布工作區(qū)域，所述百潔布工作區(qū)域包含:第一百潔布工作區(qū)域、第二百潔布工作區(qū)域、第三百潔布工作區(qū)域和第四百潔布工作區(qū)域；所述第一百潔布工作區(qū)域、第二百潔布工作區(qū)域、第三百潔布工作區(qū)域和第四百潔布工作區(qū)域依次接觸連接； 所述第一百潔布工作區(qū)域的高度小于或等于所述第一圓柱體的高度；所述第二百潔布工作區(qū)域的長度等于所述第一圓柱體和所述第二圓柱體的半徑之差；所述第三百潔布工作區(qū)域的高度等于所述第二圓柱體的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理工具，其特征在于:所述刀片為陶瓷刀片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理工具，其特征在于:所述刀片的長度為45?55mm，所述刀片的寬度為10?20mm,所述刀片的厚度為I?2mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的清理工具，其特征在于:所述百潔布工作區(qū)域的寬度小于或等于所述刀片工作區(qū)域的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清理工具，其特征在于:所述百潔布工作區(qū)域的寬度等于所述刀片工作區(qū)域的寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理工具，其特征在于:所述刀片第一端靠近所述第二側(cè)的部分和所述刀片第二側(cè)靠近所述第一端的部分均設(shè)有刀鋒，所述刀鋒形成刀鋒區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清理工具，其特征在于:所述刀鋒的坡度為2:1.1。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清理工具，其特征在于:所述刀鋒的高度為I?3mm，所述刀鋒沿所述刀片厚度方向上的長度為0.5?1.5mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清理工具，其特征在于:所述刀片的第二側(cè)所設(shè)刀鋒區(qū)域的長度小于所述刀片的長度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清理工具，其特征在于:所述刀片的第二側(cè)所設(shè)刀鋒區(qū)域的長度小于或等于所述刀片長度的1/2。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理工具，其特征在于:所述百潔布為含砂百潔布。
【文檔編號】H01L21/67GK204011383SQ201420478075
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月22日
【發(fā)明者】霍港文, 王俊彪 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司