一種用于精密掩模板對準的微型裝置制造方法

一種用于精密掩模板對準的微型裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種用于精密掩模板對準的微型裝置，包括底盤，其特征在于：還包括一獨立的正方形的工作平臺，所述工作平臺的四個側邊均設有滑軌一，所述每個滑軌一上咬合有滑塊一，每個滑塊一的下部套在滑軌二上，所述滑軌二與底盤固定，所述工作平臺的上方連接有手動旋轉平臺，所述旋轉平臺的周圍還設有一豎直方向的高度調節機構，所述高度調節機構固定在底盤上。本實用新型與現有技術相比，其顯著優點為：體積小巧，特別是厚度，定位精確，操作簡單，結構簡單，實現成本低廉，有利于生產安裝和維護。
【專利說明】一種用于精密掩模板對準的微型裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及了一種用于精密掩模板對準的微型裝置，屬于半導體加工領域。

【背景技術】
[0002]目前較為復雜的電子器件(包括計算機CPU，電器芯片)的電極蒸鍍，刻蝕，離子注入等加工步驟通常都是用光刻工藝制作的，但是光刻工藝價格昂貴，步驟繁多，模板制作也非常復雜。通常是大型公司在規模生產時采用。而金屬(或其它易精密刻蝕材料)通孔掩模板蒸鍍技術步驟少，成本低，設計靈活，是科研單位和中小公司普遍采用的另一個方法。目前常見的采用濕法刻蝕的金屬通孔掩模版可以達到20微米的線寬，而采用干法刻蝕的高端通孔掩模版甚至可以達到亞微米的精度。國家近年來對集成電路芯片自主研發的支持，也造成了高精度通孔掩膜版的大量需求，但是高精度掩通孔模板和樣品之間的對準，目前還沒有一個完美的解決辦法。
[0003]在通孔掩模板和樣品不需要對準的情況下，通常采用直接固定(膠帶，夾具)的方式，而在通孔掩模板需要和樣品已有圖形對準的情況下，通常先使用光刻機精密移動平臺對準以后再夾具固定的方式。但是這種方式存在種種缺點，譬如由于固定后機械應力的存在，隨著時間的增加兩者容易偏離原有的對準位置，所以不適合高精度的對準。另外光刻機價格昂貴，假如單純為了用于掩模板對準很不經濟，而且本身結構復雜，不利于檢修維護。這些都造成了高精度通孔掩模板廣泛應用的局限性。
[0004]而在進行半導體加工過程中，如要將對準基座整體直接放入蒸鍍腔，其體積必須縮小；如使用普通光學顯微鏡來進行對準，樣品臺和顯微鏡目鏡之間的可調節距離有限，所以，在這樣有限的三維空間內，需要能夠完成X，Y，Z和旋轉共四個自由度的調節，是非常困難的。
[0005]通常的精密移動平臺，如圖1所示，X方向和y方向的調節平面是獨立的，所以疊加后的厚度通常都在5厘米以上。假如為了控制厚度而簡單的將此種移動平臺按比例縮小尺寸，這樣的方案會造成零件加工難度的增加，造成了制造成本大幅增加，而且對準的精度也會下降。
實用新型內容
[0006]為了解決現有設備技術的不足，本實用新型提供了一種用于精密掩模板對準的微型裝置，包括底盤，其特征在于:還包括一獨立的正方形的工作平臺，所述工作平臺的四個側邊均設有滑軌一，所述每個滑軌一上咬合有滑塊一，每個滑塊一的下部套在滑軌二上，所述滑軌二與底盤固定，所述工作平臺的上方連接有手動旋轉平臺，所述旋轉平臺的周圍還設有一豎直方向的高度調節機構，所述高度調節機構固定在底盤上。
[0007]在任意兩個相鄰的滑軌二的外側各設有一調節旋鈕。
[0008]所述高度調節機構包括滑軌三和滑塊二，所述滑軌三與底盤固定，所述滑塊二套在滑軌三上，所述滑塊二的上方設有高度調節旋鈕，所述滑塊二的內側固定有壓板，所述壓板的另一端正好位于所述旋轉平臺的上方。
[0009]本實用新型與現有技術相比，其顯著優點為:體積小巧，特別是厚度，定位精確，操作簡單，結構簡單，實現成本低廉，有利于生產安裝和維護。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是與本實用新型相關的現有技術的結構示意圖；
[0011]圖2是本實用新型的機構示意圖；
[0012]【專利附圖】

【附圖說明】:1、底盤，2、工作平臺，3、滑軌一，4、滑塊一，5、滑軌二，6、調節旋鈕，7、手動旋轉平臺，8、滑軌三，9、滑塊二，10、高度調節旋鈕，11、壓板。

【具體實施方式】
[0013]以下是通過附圖詳細說明本實用新型的技術方案。
[0014]如圖2所示，本實用新型提供了一種用于精密掩模板對準的微型裝置，包括底盤1，還包括一獨立的正方形的工作平臺2，所述工作平臺2的四個側邊均設有滑軌一 3，所述每個滑軌一 3上咬合有滑塊一 4，這樣能夠使得工作平臺2在其X方向和Y方向上的移動互不干擾:每個滑塊一 4的下部套在滑軌二 5上，在任意兩個相鄰的滑軌二 5的外側各設有一調節旋鈕6，可以在同一平面內調節各自所屬滑塊的移動，即在工作平臺2的X方向和Y方向上的任一個滑軌二 5的外側各設一調節旋鈕6，這樣一個方向(X或Y)上的兩個滑塊一 4可以通過調節旋鈕6的控制在滑軌二 5上滑動，滑動時帶動中間的工作平臺2 —起在相同的方向移動，而另外一個方向的兩個滑塊一4則保持不動。所述滑軌二5與底盤I固定，所述工作平臺2的上方通過彈簧連接有手動旋轉平臺7，所述旋轉平臺7的周圍還設有一高度調節機構，所述高度調節機構固定在底盤I上。所述高度調節機構包括滑軌三8和滑塊二9，所述滑軌三8與底盤I固定，所述滑塊二 9套在滑軌三8上，所述滑塊二 9的上方設有高度調節旋鈕10，所述滑塊二 9的內側固定有壓板11，所述壓板11的另一端正好位于所述旋轉平臺7的上方，該壓板11是用于固定掩模板的。
[0015]以上示意性的對本實用新型及其實施方式進行了描述，該描述沒有限制性，附圖中所示的也只是本實用新型的實施方式之一，實際的結構并不局限于此。所以，如果本領域的普通技術人員受其啟示，在不脫離本實用新型創造宗旨的情況下，不經創造性的設計出與該技術方案相似的結構方式及實施例，均應屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種用于精密掩模板對準的微型裝置，包括底盤，其特征在于:還包括一獨立的正方形的工作平臺，所述工作平臺的四個側邊均設有滑軌一，所述每個滑軌一上咬合有滑塊一，每個滑塊一的下部套在滑軌二上，所述滑軌二與底盤固定，所述工作平臺的上方連接有手動旋轉平臺，所述旋轉平臺的周圍還設有一豎直方向的高度調節機構，所述高度調節機構固定在底盤上。
2.根據權利要求1所述的一種用于精密掩模板對準的微型裝置，其特征在于:在任意兩個相鄰的滑軌二的外側各設有一調節旋鈕。
3.根據權利要求1所述的一種用于精密掩模板對準的微型裝置，其特征在于:所述高度調節機構包括滑軌三和滑塊二，所述滑軌三與底盤固定，所述滑塊二套在滑軌三上，所述滑塊二的上方設有高度調節旋鈕，所述滑塊二的內側固定有壓板，所述壓板的另一端正好位于所述旋轉平臺的上方。
【文檔編號】H01L21/68GK203932033SQ201420371749
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年7月7日 優先權日:2014年7月7日
【發明者】包文中, 胡榮民, 陳慧芬 申請人:南通威倍量子科技有限公司