一種柔性觸摸屏導電膜的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種柔性觸摸屏導電膜，其包括由下至上依次疊置的有機聚合物層、五氧化二鈮薄膜介質層、二氧化硅粘接層、ITO透明導電層和引線層，所述引線層上開設有凹槽，所述凹槽內填充有納米導電金屬。本實用新型將有機聚合物層作為基底，在基底和ITO透明導電層之間鍍有五氧化二鈮薄膜介質層和二氧化硅粘接層，有效提高產品的透過率，同時，利用轉印納米級導電金屬，形成導電引線，有效解決了傳統真空鍍金屬制作引線，引線易脫落且不耐彎曲等問題。
【專利說明】一種柔性觸摸屏導電膜
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及觸摸屏技術，具體涉及柔性觸摸屏導電膜。
【背景技術】
[0002]目前，觸控屏所使用的基底材料可大致分為兩類:一類是玻璃；另一類是有機聚合物。玻璃基底具有低雙折射率、低膨脹系數、低粗糙度、高尺寸穩定性、耐高溫等諸多優點，但以玻璃為基底制作的觸摸屏容易碎裂，且無法實現彎曲折疊，隨著電子產品朝輕型化、小型化方向發展，對基底材料的性能提出了新要求，需要有可以彌補玻璃基底不足的新材料出現。
[0003]有機聚合物是一類良好的柔性基底材料，具有很好的柔性且成本較低，且適合R-TO-R工藝大批量生產。有機聚合物根據其不同的性能主要分為:熱塑性半結晶型、熱塑性非結晶型以及高玻璃化溫度材料。熱塑性半結晶型主要有PET、PEN材料；熱塑性非結晶型主要有PC、PES材料；高玻璃化溫度材料主要有PAR、PCO、PI等，而目前使用較為廣泛是熱塑性半結晶型材料。
[0004]以有機聚合物為基底材料的觸摸屏有了廣泛應用，但存在透過率低、邊緣引線通過傳統真空鍍金屬制作，引線易脫落，不耐彎曲等問題。
實用新型內容
[0005]本實用新型的目的在于提出一種柔性觸摸屏導電膜，其能解決透過率低的問題。
[0006]為了達到上述目的，本實用新型所采用的技術方案如下:
[0007]—種柔性觸摸屏導電膜，其包括由下至上依次疊置的有機聚合物層、五氧化二鈮薄膜介質層、二氧化硅粘接層、ITO透明導電層和引線層，所述引線層上開設有凹槽，所述凹槽內填充有納米導電金屬。
[0008]優選的，所述有機聚合物層為PET (Polyethylene terephthalate)層或PEN (聚萘二甲酸乙二醇酯)層。
[0009]優選的，所述五氧化二鈮薄膜介質層的折射率范圍為2.0-2.5。
[0010]優選的，所述二氧化硅粘接層的折射率范圍為1.4-1.7。
[0011]優選的，所述ITO (Indium Tin Oxides,銦錫氧化物)透明導電層的折射率范圍在為 1.9-2.2。
[0012]優選的，所述五氧化二鈮薄膜介質層的厚度范圍為100-150埃。
[0013]優選的，所述二氧化硅粘接層的厚度范圍為500-700埃。
[0014]優選的，所述ITO透明導電層的厚度范圍為500-1500埃。
[0015]優選的，所述引線層為OC材料層。
[0016]優選的，所述引線層的厚度范圍為l-3um。
[0017]本實用新型具有如下有益效果:
[0018]有機聚合物層作為基底，在基底和ITO透明導電層之間鍍有五氧化二鈮薄膜介質層和二氧化硅粘接層，有效提高產品的透過率，同時，利用轉印納米級導電金屬，形成導電引線，有效解決了傳統真空鍍金屬制作引線，引線易脫落且不耐彎曲等問題。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型較佳實施例的柔性觸摸屏導電膜的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0020]下面，結合附圖以及【具體實施方式】，對本實用新型做進一步描述。
[0021]如圖1所示，一種柔性觸摸屏導電膜，其包括由下至上依次疊置的有機聚合物層10、五氧化二鈮薄膜介質層20、二氧化硅粘接層30、IT0透明導電層40和引線層50，所述引線層50上開設有凹槽(圖未標出)，所述凹槽內填充有納米導電金屬60。所示有機聚合物層10作為基底。
[0022]本實施例的有機聚合物層10優選為PET(Polyethylene terephthalate)層或PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)層。具體可選用透過率大于90%的高亮PET聚酯薄膜。
[0023]本實施例的五氧化二鈮薄膜介質層20的折射率范圍為2.0-2.5，其厚度范圍為100-150 埃。
[0024]本實施例的二氧化硅粘接層30的折射率范圍為1.4-1.7，其厚度范圍為500-700埃。
[0025]本實施例的ITO (Indium Tin Oxides，銦錫氧化物)透明導電層40的折射率范圍在為1.9-2.2，其厚度范圍為500-1500埃。
[0026]本實施例的引線層50為OC材料層，其具有絕緣性，其厚度范圍為l-3um。
[0027]本實施例的制作過程如下:
[0028]在預處理后的基底上鍍五氧化二鈮薄膜介質層20和二氧化硅粘接層30，在鍍好的二氧化硅粘接層30上鍍ITO透明導電層40，ITO透明導電層40利用黃光制程工藝:光刻膠涂覆、預烘、曝光、顯影、固化、刻蝕、光刻膠剝離，最后得到功能層圖案。在完成ITO功能層圖案的基板上制作引線層50，曝光，顯影后形成引線凹槽，對凹槽進行烘烤后，印壓納米導電金屬60。表面擦除多余的納米導電金屬后燒結、固化后形成所需要的高透過率，耐彎曲的透明導電膜。
[0029]對于本領域的技術人員來說，可根據以上描述的技術方案以及構思，做出其它各種相應的改變以及變形，而所有的這些改變以及變形都應該屬于本實用新型權利要求的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，包括由下至上依次疊置的有機聚合物層、五氧化二鈮薄膜介質層、二氧化硅粘接層、ITO透明導電層和引線層，所述引線層上開設有凹槽，所述凹槽內填充有納米導電金屬。
2.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述有機聚合物層為PET層或PEN 層。
3.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述五氧化二鈮薄膜介質層的折射率范圍為2.0-2.5。
4.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述二氧化硅粘接層的折射率范圍為1.4-1.7。
5.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述ITO透明導電層的折射率范圍在為1.9-2.2。
6.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述五氧化二鈮薄膜介質層的厚度范圍為100-150埃。
7.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述二氧化硅粘接層的厚度范圍為500-700埃。
8.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述ITO透明導電層的厚度范圍為500-1500埃。
9.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述引線層為OC材料層。
10.如權利要求1所述的柔性觸摸屏導電膜，其特征在于，所述引線層的厚度范圍為l-3um。
【文檔編號】H01B5/14GK203931538SQ201420176310
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年4月11日 優先權日:2014年4月11日
【發明者】毛肖林 申請人:深圳市深越光電技術有限公司