一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置，包括：加熱盤和冷卻盤，所述加熱盤的盤面與所述冷卻盤的盤面對應匹配固定連接在一起；所述加熱盤中嵌有加熱管，所述冷卻盤中設有流道。本實用新型由加熱盤與冷卻盤組成，集成加熱與冷卻功能；加熱盤中均勻嵌有加熱管，保證了加熱的均勻性；在冷卻盤內設有流道，保證了冷卻水能快速冷卻加熱盤。
【專利說明】一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體【技術領域】，特別涉及一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置。
【背景技術】
[0002]晶圓鍵合是半導體器件三維加工的一個重要的工藝，最主要應用包括硅片和硅片之間的鍵合，以及硅片和玻璃襯底之間的鍵合。通常鍵合是在真空環境內對鍵合對象加溫、加壓和冷卻的過程，最終使鍵合對象通過粘接、金屬擴散等作用融合在一起。為了保證成品率，鍵合對溫度、壓力和真空度都具有很嚴格的要求，其中，溫度指標為:最高溫度達到600 V，溫度均± I %，冷卻速度達到50 V /分鐘。
[0003]現有技術中，通常采用加熱器和冷卻器分離的方式進行加熱和冷卻的過程。升溫時，加熱器往下貼緊硅片進行加熱；降溫時，冷卻器往下貼緊硅片使其冷卻、降溫。由于加熱器和冷卻器是采用分離的方式，因此冷卻時，速度較慢。
實用新型內容
[0004]本實用新型的目的在于提供一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置，以解決現有技術在冷卻硅片時速度較慢的問題。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型提供:一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置，包括:加熱盤和冷卻盤，所述加熱盤的盤面與所述冷卻盤的盤面對應匹配固定連接在一起；所述加熱盤中嵌有加熱管，所述冷卻盤中設有流道。
[0006]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述冷卻盤是穿孔式冷卻盤，所述流道橫向、縱向均勻分布于所述穿孔式冷卻盤中，所述流道的通孔分布于所述穿孔式冷卻盤的外側，保留2個所述流道的外側通孔，一個作為進水口，另一個作為出水口，剩余所述外側通孔是閉塞的。
[0007]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述冷卻盤是開槽式冷卻盤，所述流道從開槽式冷卻盤外一側均勻旋入冷卻盤中心后，轉向180°又均勻旋回至開槽式冷卻盤外的另一側，所述流道的外側通孔，一個作為進水口，另一個作為出水口。
[0008]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，還包括兩根冷卻水管，一根冷卻水管焊接于所述開槽式冷卻盤的所述進水口，另一根冷卻水管焊接于所述開槽式冷卻盤的所述出水口。
[0009]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述加熱管是單相加熱盤，所述單相加熱盤中嵌有一根加熱管，所述加熱管從單相加熱盤外一側均勻旋入單相加熱盤中心后，轉向180°又均勻旋回至單相加熱盤外的另一側。
[0010]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述加熱管通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述單相加熱盤中。
[0011]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述加熱管是三相加熱盤，所述三相加熱盤中嵌有三根加熱管，所述加熱管均勻分布于所述所述三相加熱盤中。
[0012]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，每根加熱管從三相加熱盤外一側均勻旋入三相加熱盤中心后，轉向180°又均勻旋回至三相加熱盤外的另一側。
[0013]優選的，在所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置中，所述加熱管通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述三相加熱盤中。
[0014]本實用新型提供的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，具有以下有益效果:本實用新型由加熱盤與冷卻盤組成，集成加熱與冷卻功能；加熱盤中均勻嵌有加熱管，保證了加熱的均勻性；在冷卻盤內設有流道，保證了冷卻水能快速冷卻加熱盤。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015]下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中:
[0016]圖1是本實用新型實施例的穿孔式冷卻盤示意圖；
[0017]圖2是本實用新型實施例的開槽式冷卻盤示意圖；
[0018]圖3是本實用新型實施例的單相加熱盤示意圖；
[0019]圖4是本實用新型實施例的三相加熱盤示意圖；
[0020]圖5-6是本實用新型實施例的具有冷卻功能的均勻加熱裝置示意圖。
【具體實施方式】
[0021]以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的具有冷卻功能的均勻加熱裝置作進一步詳細說明。根據下面說明和權利要求書，本實用新型的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
[0022]本實用新型提供一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置，包括:加熱盤和冷卻盤，所述加熱盤的盤面與所述冷卻盤的盤面對應匹配固定連接在一起，集成了加熱與冷卻的功能。所述加熱盤中均勻嵌有加熱管，保證了加熱的均勻性；所述冷卻盤中設有流道，冷卻時流道內通過冷卻水,達到快速冷卻的目標。
[0023]請參考圖1，在一優選的實施例中，所述冷卻盤選用穿孔式冷卻盤11，所述穿孔式冷卻盤11的流道12橫向、縱向均勻分布于所述穿孔式冷卻盤11中，所述流道12的通孔分布于所述穿孔式冷卻盤11的外側，保留兩個所述留到的外側通孔，一個作為進水口，一個作為出水口，并封閉其余外側通孔，冷卻時，將冷卻水通入流道中，所述流道12交織互通，以此冷卻水能經過穿孔式冷卻盤11的各個區域。
[0024]請參考圖2，在另一優選的實施例中，所述冷卻盤選用開槽式冷卻盤21，所述開槽式冷卻盤21的流道22從開槽式冷卻盤21外一側均勻旋入冷卻盤中心后，轉向180°又均勻旋回至開槽式冷卻盤21外的另一側。冷卻時，將冷卻水從開槽式冷卻盤21 —側，該側作為進水口，通入流道中并通向開槽式冷卻盤21的另一側，該側作為出水口，保證了冷卻水能均勻冷卻到開槽式冷卻盤21的各個區域。
[0025]請參考圖3，在一優選的實施例中，所述加熱管選用單相加熱31，所述單相加熱盤31中嵌有一根加熱管32，所述加熱管32從單相加熱盤31外一側均勻旋入單相加熱盤31中心后，轉向180°又均勻旋回至單相加熱盤31外的另一側，然后通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述單相加熱盤31中，保證了加熱時可以均勻加熱單相加熱盤31的各個區域。
[0026]請參考圖4，在另一優選的實施例中，所述加熱管選用三相加熱盤41，所述三相加熱盤41中嵌有三根加熱管42，所述加熱管42均勻分布于所述三相加熱盤41中。每根加熱管42從三相加熱盤41外一側均勻旋入三相加熱盤41中心后，轉向180°又均勻旋回至三相加熱盤41外的另一側，然后通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述三相加熱盤41中，保證了加熱時可以均勻加熱三相加熱盤41的各個區域。
[0027]在本實用新型中，可以將穿孔式冷卻盤、開槽式冷卻盤和單相加熱盤、三相加熱盤自由組合，構成具有冷卻功能的均勻加熱裝置
[0028]請參考圖5，其選用了穿孔式冷卻盤51和單相加熱盤52的組合。將穿孔式冷卻盤51和單相加熱盤52焊接成一體，其中，所述單相加熱盤52的開槽面緊貼所述穿孔式冷卻盤51開槽面，并在所述穿孔式冷卻盤51進水口和出水口焊接兩根冷卻水管53，在所述單相加熱盤52的兩側焊接加熱管54。冷卻時，冷卻水從冷卻水管53通入，在流道中流通，通過熱傳導可以冷卻所述單相加熱盤52，由于冷卻介質與所述單相加熱盤52溫差很大，并且金屬熱傳導非常快，因此快速實現了冷卻的目的。
[0029]請參考圖6，其選用了開槽式冷卻盤61和三相加熱盤62的組合。將開槽式冷卻盤61和三相加熱盤焊62接成一體，其中，所述三相加熱盤62的開槽面緊貼所述開槽式冷卻盤61的開槽面，并在所述開槽式冷卻盤61進水口和出水口焊接兩根冷卻水管63，在所述三相加熱盤62的外側焊接加熱管64。冷卻時，冷卻水從冷卻水管63通入，在流道中流通，通過熱傳導可以冷卻所述三相加熱盤62，由于冷卻介質與所述三相加熱盤63溫差很大，并且金屬熱傳導非常快，因此快速實現了冷卻的目的。
[0030]上述描述僅是對本實用新型較佳實施例的描述，并非對本實用新型范圍的任何限定，本實用新型領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬于權利要求書的保護范圍。
【權利要求】
1.一種具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，包括:加熱盤和冷卻盤，所述加熱盤的盤面與所述冷卻盤的盤面對應匹配固定連接在一起；所述加熱盤中嵌有加熱管，所述冷卻盤中設有流道。
2.如權利要求1所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述冷卻盤是穿孔式冷卻盤，所述流道橫向、縱向均勻分布于所述穿孔式冷卻盤中，所述流道的通孔分布于所述穿孔式冷卻盤的外側，保留兩個所述流道的外側通孔，一個作為進水口，另一個作為出水口，剩余所述外側通孔是閉塞的。
3.如權利要求1所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述冷卻盤是開槽式冷卻盤，所述流道從開槽式冷卻盤外一側均勻旋入冷卻盤中心后，轉向180°又均勻旋回至開槽式冷卻盤外的另一側，所述流道的外側通孔，一個作為進水口，另一個作為出水□。
4.如權利要求2或3所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，還包括兩根冷卻水管，一根冷卻水管焊接于所述開槽式冷卻盤的所述進水口，另一根冷卻水管焊接于所述開槽式冷卻盤的所述出水口。
5.如權利要求1所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述加熱管是單相加熱盤，所述單相加熱盤中嵌有一根加熱管，所述加熱管從單相加熱盤外一側均勻旋入單相加熱盤中心后，轉向180°又均勻旋回至單相加熱盤外另一側。
6.如權利要求5中所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述加熱管通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述單相加熱盤中。
7.如權利要求1所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述加熱管是三相加熱盤，所述三相加熱盤中嵌有三根加熱管，所述加熱管均勻分布于所述所述三相加熱盤中。
8.如權利要求7所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，每根加熱管從三相加熱盤外一側均勻旋入三相加熱盤中心后，轉向180°又均勻旋回至三相加熱盤外另一側。
9.如權利要求8中所述的具有冷卻功能的均勻加熱裝置，其特征在于，所述加熱管通過焊接或過盈配合的方式固定嵌入所述三相加熱盤中。
【文檔編號】H01L21/67GK203839351SQ201420137822
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月25日 優先權日:2014年3月25日
【發明者】余斌 申請人:上海微電子裝備有限公司