透明導電結構與包含該透明導電結構的電容式觸摸屏的制作方法

透明導電結構與包含該透明導電結構的電容式觸摸屏的制作方法
【專利摘要】本申請提供了一種透明導電結構與包含該透明導電結構的電容式觸摸屏。該透明導電結構包括透明導電膜，該透明導電膜包括：第一高折導電層、第一鈍化層、金屬層、第二鈍化層、第二高折導電層，第一鈍化層設置在第一高折導電層的表面上，金屬層設置在第一鈍化層的遠離第一高折導電層的表面上，第二鈍化層設置在金屬層的遠離第一鈍化層的表面上，第二高折導電層設置在第二鈍化層的遠離金屬層的表面上。具有上述結構的透明導電膜的第一高折導電層、第一鈍化層、金屬層、第二鈍化層與第二高折導電層之間實現了間隙摻雜，使透明導電結構的方阻值減小，導電性能提高；另外，通過調節透明導電膜的厚度，使其對光的反射率降到最低，進而使其透光率達到最大。
【專利說明】透明導電結構與包含該透明導電結構的電容式觸摸屏

【技術領域】
[0001] 本發明涉及觸摸屏領域，具體而言，涉及一種透明導電結構與包含該透明導電結 構的電容式觸摸屏。

【背景技術】
[0002] 近年來，隨著半導體制造技術的突飛猛進，諸如光電池、平面顯示器、LED照明、觸 摸屏等新器件迅速發展起來并大量運用到我們的日常生活中。這些新器件都要用到透明導 電膜作為受光面或者是發光面電極。
[0003] 如果能提高這些器件中的透明導電膜的透光率，則光電池能增加對光的吸收從而 轉換出更多的電量、發光器件在不增加能耗的情況下可以增加亮度、觸摸屏能提高亮度與 清晰度；同樣，如果能減小透明導電膜的電阻率，則可以減少光電池與發光器件的傳輸損 耗，提1?能源利用率、提1?器件的靈敏度。
[0004] 目前IT0 (摻錫氧化銦Indium Tin Oxide)膜仍是透明導電膜中最常用的材料，因 此，提高IT0膜的導電性，同時提高其透光率是光電材料工程師追求的目標之一。例如，申 請號為201220623869. 8的中國專利申請中提出了一種復合折射率IT0膜，通過不同厚度設 置以及折射率的差異，適應不同工作狀態下對光學電學性能的要求。通過控制薄膜生長時 氬氣和氧氣比值，使上層IT0膜與下層IT0膜具有不同的折射率，得到了較低的方塊電阻和 較大透光率的IT0膜。申請號為201220623869. 8的中國專利申請中提出了一種基材/Si02/ IT0三層結構，方塊電阻值為100Q左右，提高了薄膜的透光率和降低了電阻率。
[0005] 目前，同時提高IT0膜的透光率與方阻值存在矛盾：為了增大IT0膜的透光率，應 當減小IT0膜的厚度，但為了減小IT0膜的方阻值，應當增加IT0膜的厚度。現有技術中折 中考慮這兩方面，IT0膜的透光率在90%以下，其方阻在100 Q?200 Q范圍內，當其應用 在平面顯示器、LED照明、觸摸屏等光電器件時，會使器件出現靈敏度下降、驅動難度大等問 題。例如當其應用于大尺寸電容式觸摸屏應用領域時，因為IT0膜是靠刻蝕線路傳輸電信 號的，尺寸增大時，線電阻會成比例增加，這樣會造成IT0膜出現末端信號衰變，邊緣感應 的靈敏度下降及掃描電壓增加而無法工作。
[0006] 另外，無論是IT0膜還是Metal mesh導電膜對氧氣或水汽的阻隔效率很低，容易 發生氧化或老化的現象，經檢測通常用的IT0膜或Metal mesh導電膜，水汽阻隔率<l(T2g/ m2. day，降低了使用該IT0膜的器件的壽命，例如達不到觸摸屏使用50000小時的壽命要 求，現有的做法是將導電膜貼合在玻璃上以提高水汽阻隔率，然而這樣制得的觸摸屏較厚、 不易彎折；同時由于0LED對空氣中的水汽或氧氣較敏感，要求水汽阻隔率>l(T 6g/m2. day， 而現有技術中IT0膜或Metal mesh的水汽阻隔率遠大于10_6g/m2. day，所以現有技術中ITO 膜或 Metal mesh 不能應用于 OLED (Organic Light-Emitting Diode,有機發光二極管）或 AM0LED(Active Matrix/Organic Light-Emitting Diode，有源矩陣有機發光二極體面板） 等觸摸顯示屏或柔性觸摸屏。


【發明內容】

[0007] 本發明旨在提供一種透明導電結構與包含該透明導電結構的電容式觸摸屏，以解 決現有技術中透明導電結構方阻值大、透光率低的問題。
[0008] 為了實現上述目的，根據本發明的一個方面，提供了一種透明導電結構，該透明導 電結構包括：第一高折導電層、第一鈍化層、金屬層、第二鈍化層、第二高折導電層，第一鈍 化層設置在上述第一高折導電層的表面上，金屬層設置在上述第一鈍化層的遠離上述第一 高折導電層的表面上，第二鈍化層設置在上述金屬層的遠離上述第一鈍化層的表面上，第 二高折導電層設置在上述第二鈍化層的遠離上述金屬層的表面上。
[0009] 進一步地，形成上述第一鈍化層和上述第二鈍化層的材料為抗氧化金屬材料。
[0010] 進一步地，上述第一鈍化層和上述第二鈍化層的材料相同或不同，上述抗氧化金 屬材料為鋅或鈦。
[0011] 進一步地，上述第一鈍化層與上述第二鈍化層的厚度相同，上述厚度在lnrn? 10nm之間，優選在lnm?5nm之間。
[0012] 進一步地，上述金屬層的厚度為6nm?12nm。
[0013] 進一步地，上述第一高折導電層與上述第二高折導電層的光學厚度相等，上述第 一高折導電層和上述第二高折導電層的光學厚度總和為〇. 8?2. 0個光學單位。
[0014] 進一步地，上述第一高折導電層與上述第二高折導電層的折射率均大于2。
[0015] 進一步地，上述透明導電結構還包括透明基材層，上述透明基材層設置在上述第 一高折導電層的遠離上述第一鈍化層的表面上。
[0016] 進一步地，上述透明基材層為柔性透明基材層，優選為PET材料層。
[0017] 進一步地，上述透明導電結構還包括水汽阻隔層，上述水汽阻隔層設置在透明基 材層的遠離上述第一高折導電層的表面上。
[0018] 進一步地，上述水汽阻隔層包括：第一薄膜，設置在上述透明基材層的遠離上述第 一高折導電層的表面上；第二薄膜，設置在上述第一薄膜的遠離上述透明基材層的表面上； 保護膜，設置在上述第二薄膜的遠離上述第一薄膜的表面上。
[0019] 進一步地，上述第一薄膜的厚度在10nm?100nm之間。
[0020] 進一步地，上述第一薄膜為無機氧化物，優選為IT0材料。
[0021] 進一步地，上述第二薄膜為無機氧化物，優選為A1203或Si0 2。
[0022] 進一步地，上述保護膜為PET膜。根據本發明的另一方面，提供了一種電容式觸摸 屏，包括透明導電結構，上述透明導電結構為上述的透明導電結構。
[0023] 進一步地，上述透明導電結構為兩個，分別為第一透明導電結構和第二透明導電 結構，上述電容式觸摸屏還包括透明膠層，上述第一透明導電結構和上述第二透明導電結 構設置在上述透明膠層的相對兩個表面上，且各上述透明導電結構的上述透明導電膜設置 在上述透明膠層上，當所述透明導電結構還包括水汽阻隔層時，上述第一透明導電結構的 上述水汽阻隔層被基板代替。
[0024] 應用本發明的技術方案，上述結構的透明導電結構中的透明導電膜的第一高折導 電層、第一鈍化層、金屬層、第二鈍化層與第二高折導電層實現間隙摻雜，即金屬層間隙摻 雜到第一高折導電層與第二高折導電層之間，使透明導電結構的電阻率減小、方阻值減小， 進而使得透明導電結構的導電性能提高；另外，由于在相同厚度時，本申請中多層膜結構的 透明導電膜的電阻率較小，導電率較大，透光率也得到提高；而且本領域技術人員可以通過 調節透明導電膜厚度，使透明導電膜對光的反射率降低，進而使得透明導電膜的透光率增 大。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發明的進一步理解，本發明的示 意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：
[0026] 圖1示出了本申請一種優選的透明導電膜的結構剖面圖；
[0027] 圖2示出了本申請一種優選的透明導電結構的結構剖面圖；
[0028] 圖3示出了本申請一種優選的水汽阻隔層的結構剖面圖；
[0029] 圖4示出了本申請一種優選的電容式觸摸屏的結構剖面圖；
[0030] 圖5示出了本申請實施例2的透明導電膜的反射率與波長的關系曲線；以及
[0031] 圖6使出了本申請中實施例4中透明導電膜的水汽阻隔層的水汽阻隔率隨時間的 變化曲線。

【具體實施方式】
[0032] 應該指出，以下詳細說明都是例示性的，旨在對本申請提供進一步的說明。除非另 有指明，本文使用的所有技術和科學術語具有與本申請所屬【技術領域】的普通技術人員通常 理解的相同含義。
[0033] 需要注意的是，這里所使用的術語僅是為了描述【具體實施方式】，而非意圖限制根 據本申請的示例性實施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數形式 也意圖包括復數形式，此外，還應當理解的是，當在本說明書中使用屬于"包含"和/或"包 括"時，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。
[0034] 需要說明的是，本申請的說明書和權利要求書及上述附圖中的術語"第一"、"第 二"等是用于區別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應該理解這樣使用 的數據在適當情況下可以互換，以便這里描述的本申請的實施方式例如能夠以除了在這里 圖示或描述的那些以外的順序實施。此外，術語"包括"和"具有"以及他們的任何變形，意 圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統、產品或設備 不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒有清楚地列出的或對于這些過程、 方法、產品或設備固有的其它步驟或單元。
[0035] 為了便于描述，在這里可以使用空間相對術語，如"在……之上"、"在……上方"、 "在……上表面"、"上面的"等，用來描述如在圖中所示的一個器件或特征與其他器件或特 征的空間位置關系。應當理解的是，空間相對術語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位 之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為"在其他器 件或構造上方"或"在其他器件或構造之上"的器件之后將被定位為"在其他器件或構造下 方"或"在其他器件或構造之下"。因而，示例性術語"在……上方"可以包括"在……上方" 和"在……下方"兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位（旋轉90度或處于其他方 位），并且對這里所使用的空間相對描述作出相應解釋。
[0036] 正如【背景技術】所介紹的，現有技術中的透明導電膜的方阻值較大，透光率較低，為 了解決如上問題，本申請提出了一種透明導電結構。
[0037] 需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相 互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發明。
[0038] 在本申請一種優選的實施方式中，提供了一種透明導電結構，該透明導電結構包 括透明導電膜300,如圖1所示，該透明導電膜300包括：第一高折導電層311、第一鈍化層 312、金屬層313、第二鈍化層314、第二高折導電層315,第一鈍化層312設置在上述第一高 折導電層311的表面上，金屬層313設置在上述第一鈍化層312的遠離上述第一高折導電 層311的表面上，第二鈍化層314設置在上述金屬層313的遠離上述第一鈍化層312的表 面上，第二高折導電層315設置在第二鈍化層314的遠離上述金屬層313的表面上。
[0039] 具有上述結構的透明導電結構中的透明導電膜300的第一高折導電層311、第一 鈍化層312、金屬層313、第二鈍化層314與第二高折導電層315實現間隙摻雜，即金屬層 313間隙摻雜到第一高折導電層311與第二高折導電層315,使透明導電結構的電阻率減 小、方阻值減小，進而使得透明導電結構的導電性能提高；另外，由于在相同厚度時，本申請 中多層膜結構的透明導電膜300的電阻率較小，導電率較大，透光率也得到提高；而且本領 域技術人員可以通過調節透明導電膜300厚度，使透明導電膜300對光的反射率降低，進而 使得透明導電膜300的透光率增大。
[0040] 本申請為了進一步提高透明導電結構的導電性，優選上述第一鈍化層312和上述 第二鈍化層314的材料為抗氧化金屬材料。
[0041] 為了提高第一鈍化層312和第二鈍化層314的抗氧化能力，優選上述第一鈍化層 312和上述第二鈍化層314的金屬材料為鋅或鈦，上述鋅或鈦與氧反應的活性大于第一高 折導電層311和第二高折導電層315,可以使這兩層呈欠氧狀態，進而形成所謂的隧穿效應 提高導電性，同時鈍化層312和314因厚度較小可以對導電金屬膜層間隙進行填充，進一步 提高了透明導電結構的導電性能。
[0042] 在實現上述理想的抗氧化的基礎上，為了進一步使得所形成的透明導電膜的導電 性能和透光率，優選上述第一鈍化層312和上述第二鈍化層314的厚度在lnm?10nm之間， 進一步優選在lnm?5nm之間，且該兩層抗氧化金屬層以中間的導電金屬層為鏡像對稱。這 樣可以實現與上述透明導電膜300中的第一高折導電層311、金屬層313與第二高折導電層 315的良好間隙摻雜，進而提高透明導電膜300的導電性能，并且能夠保證較高的透光率。 為了方便設置，在本申請一種優選的實施例中，上述第一鈍化層312與上述第二鈍化層314 的厚度相同。
[0043] 本申請一種優選的實施例中，可以通過對金屬層的材料進行選擇進一步減小透明 導電膜的電阻率，優選上述金屬層313為金層或銀層，這是因為金與銀的電阻率很小，與透 明導電膜300中的第一高折導電層311、第一鈍化層312、第二鈍化層314與第二高折導電 層315間隙摻雜后，能進一步降低透明導電膜300的電阻率，進而降低透明導電膜300的方 阻值，提高透明導電結構的導電性能。
[0044] 為了實現更好的間隙摻雜效果，并且保證透明導電膜300具有較高的光透過率， 本申請優選上述金屬層313的厚度為6nm?12nm。
[0045] 本申請又一種優選的實施例中，第一高折導電層311與第二高折導電層315的光 學厚度的總和為〇. 8?2. 0個光學單位。這樣的設置方式能夠保證透明導電膜300的對光 的吸收及反射減小，進而使透光率達到最大值，為了使透明導電膜300的制作工藝簡單方 便，本申請優選第一高折導電層311與第二高折導電層315的光學厚度相等。
[0046] 為了進一步提高透明導電膜300的透光率，本申請采用高折導電層與其它材料復 合達到增透的效果，本申請優選第一高折導電層311與第二高折導電層315的折射率均大 于2。
[0047] 本申請的另一種優選的實施方式中，透明導電結構還包括透明基材層200,上述透 明基材層200設置在上述第一高折導電層311的遠離上述第一鈍化層312的表面上。
[0048] 為了使透明導電結構在較寬的溫度范圍內保持較好的物理機械性能，在高溫、高 頻時保持較好的電性能，本申請優選透明基材層200為柔性透明基材層，進一步優選為PET 材料層。
[0049] 本申請的又一種優選的實施方式中，上述透明導電結構還包括水汽阻隔層100,如 圖2所示，水汽阻隔層100設置在透明基材層200的遠離上述第一高折導電層311的表面 上。傳統方法中需要采用0CA膠層將透明基材層200與水汽阻隔層100貼合，使得水汽從透 明基材層200與水汽阻隔層100中間的側向漏入。本申通過原子沉積法直接在透明基材層 200沉積水汽阻隔膜100,避免了水汽的側向漏入，提高了透明導電膜300對氧氣或水汽的 阻隔效率，降低其發生氧化或老化的幾率，提高透明導電膜300的使用壽命；同時，包括水 汽阻隔層100的透明導電結構還可以應用于0LED與AM0LED等觸摸顯示屏或柔性觸摸屏。
[0050] 為了得到更好的水汽與氧氣阻隔效果，提高透明導電膜300的使用壽命，本申請 優選多層薄膜層疊組成的水汽阻隔層100,如圖3所示，該水汽阻隔層100包括：第一薄膜 101、第二薄膜102、保護膜103,第一薄101膜設置在上述透明基材層200的遠離上述第一 高折導電層311的表面上；第二薄膜102設置在上述第一薄膜101的遠離上述透明基材層 200的表面上；保護膜103設置在上述第二薄膜102的遠離上述第一薄膜101的表面上。
[0051] 為了實現更好的水汽阻隔效果，并且可以保證透明導電結構較好的導電性與較高 的透光率，本申請優選第一薄膜101的厚度在l〇nm?100nm之間。
[0052] 為了達到水汽阻隔層100對氧氣分子、水分子與其他小分子更好的阻隔效果，本 申請優選上述第一薄膜101為無機氧化物，進一步優選為IT0材料。
[0053] 為了降低水汽阻隔層100的水汽、氧氣的滲透率，本申請優選上述第二薄膜102為 無機氧化物，進一步優選為A1 203、Si02。
[0054] 為了使水汽阻隔層100在較寬的溫度范圍內保持較好的物理機械性能，同時防止 在運輸過程中損傷第一薄膜101與第二薄膜102,本申請優選保護膜103為PET膜。
[0055] 本申請的又一種優選的實施方式中，提供了一種電容式觸摸屏，該電容式觸摸屏 包括透明導電結構，該透明導電結構為上述透明導電結構。
[0056] 具有上述結構的電容式觸摸屏，包括上述透明導電結構，該透明導電結構的電阻 率低，方阻值小，這樣可以提高電容式觸摸屏的靈敏度，并使其更容易驅動；該透明導電結 構的透光率高，提高了電容式觸摸屏的亮度與清晰度，使得電容式觸摸屏具有較好的顯示 效果；此外，當透明導電結構中還包括水汽阻隔層100時，可以使電容式觸摸屏不容易發生 氧化或者老化，進而可以提高電容式觸摸屏的使用壽命。
[0057] 本申請的又一種優選的實施例中，如圖4所示，上述電容式觸摸屏的透明導電結 構為兩個，分別為第一透明導電結構10和第二透明導電結構20,上述電容式觸摸屏還包括 透明膠層400,上述第一透明導電結構10和第二透明導電結構20設置在上述透明膠層400 的相對兩個表面上，且各上述透明導電結構的上述透明導電膜設置在上述透明膠層400 上，即第一透明導電結構10的第一透明導電膜300與第二透明導電結構20的第二透明導 電膜500設置在上述透明膠層400上，當所述透明導電結構還包括水汽阻隔層時，上述第一 透明導電結構300的上述水汽阻隔層100被基板800代替得到第二透明導電結構20,該第 二透明導電結構20包括第二透明導電膜500、第二基材層600、基板800。本領域技術人員 還可以借鑒現有技術，在第二基材層600與基板800之間設置光學膠層700,以牢固粘結第 二基材層600和基板800,使得具有圖4所示的電容式觸摸屏結構更穩定。
[0058] 具有上述結構的電容式觸摸屏，包括本發明的透明導電結構，該透明導電結構的 電阻率低，方阻值小，這樣可以提高電容式觸摸屏的靈敏度，并使其更容易驅動；該透明導 電結構的透光率高，提高了電容式觸摸屏的亮度與清晰度；該透明導電結構中還包括水汽 阻隔層，可以實現良好的水汽阻隔效果，提高電容式觸摸屏的使用壽命；另外，該電容式觸 摸屏中第一透明導電膜300與第二透明導電膜500分別設置在上述透明膠層400的上、下 表面，且被第一基材層200與第二基材層600包含在內部，因此可以減少或者消除應力的釋 放，增加了電容式觸摸屏的可彎折性。
[0059] 以下將結合實施例和對比例進一步說明本發明的有益效果。
[0060] 實施例1
[0061] 設置具有圖1所示結構的透明導電膜，其中各第一高折導電層311、第一鈍化層 312、金屬層313、第二鈍化層314與第二高折導電層315的厚度及材料見表1，對該透明導 電膜的電阻率和透光率進行檢測，檢測結果見表2。
[0062] 實施例2
[0063] 設置具有圖1所示結構的透明導電膜，其中各第一高折導電層311、第一鈍化層 312、金屬層313、第二鈍化層314與第二高折導電層315的厚度及材料見表1，對該透明導 電膜的電阻率和透光率進行檢測，檢測結果見表2及圖5。
[0064] 實施例3
[0065] 設置具有圖1所示結構的透明導電結構，其中各第一高折導電層311、第一鈍化層 312、金屬層313、第二鈍化層314與第二高折導電層315的厚度及材料見表1，對該透明導 電膜的電阻率和透光率進行檢測，檢測結果見表2。
[0066] 實施例4
[0067] 設置具有圖3所示的水汽阻隔層的透明導電結構，透明導電結構如圖2所示，其 中各第一高折導電層311、第一鈍化層312、金屬層313、第二鈍化層314與第二高折導電層 315、水汽阻隔層的厚度及材料見表1，對該透明導電結構的電阻率、透光率、水汽阻隔率進 行檢測，檢測結果見表2及圖6。
[0068] 對比例1
[0069] 現有透明導電膜一般包括：10nm氧化娃粘結層，5nm氧化銀高折層，60nm氧化娃折 射率匹配層，21nmIT0導電層。其透光率約為89%，方阻值約為120歐姆，水汽阻隔率約為 8. 7 X 10 ig/n^day。
[0070] 表1中給出一種現有技術的透明導電膜的具體參數，對其透明導電結構的電阻率 和透光率進行檢測，檢測結果見表2。
[0071] 其中，上述電阻率的檢測采用四探針方法，其中測試寬幅為1250mm，左右內縮 40mm ;采用A 950分光光度計方法檢測透光率；采用M0C0N水汽阻隔率測試儀方法檢測水 汽阻隔率。
[0072] 表 1

【權利要求】
1. 一種透明導電結構，包括透明導電膜，其特征在于，所述透明導電膜包括： 第一高折導電層； 第一鈍化層，設置在所述第一高折導電層的表面上； 金屬層，設置在所述第一鈍化層的遠離所述第一高折導電層的表面上； 第二鈍化層，設置在所述金屬層的遠離所述第一鈍化層的表面上； 第二高折導電層，設置在所述第二鈍化層的遠離所述金屬層的表面上。
2. 根據權利要求1所述的透明導電結構，其特征在于，形成所述第一鈍化層和所述第 二鈍化層的材料為抗氧化金屬材料。
3. 根據權利要求2所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一鈍化層和所述第二鈍 化層的材料相同或不同，所述抗氧化金屬材料為鋅或鈦。
4. 根據權利要求2所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一鈍化層與所述第二鈍 化層的厚度相同，所述厚度在lnm?10nm之間，優選在lnm?5nm之間。
5. 根據權利要求1所述的透明導電結構，其特征在于，所述金屬層為金層或銀層。
6. 根據權利要求5所述的透明導電結構，其特征在于，所述金屬層的厚度為6nm? 12nm。
7. 根據權利要求1所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一高折導電層與所述第 二高折導電層的光學厚度相等，所述第一高折導電層和所述第二高折導電層的光學厚度總 和為0.8?2.0個光學單位。
8. 根據權利要求1所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一高折導電層與所述第 二高折導電層的折射率均大于2。
9. 根據權利要求1所述的透明導電結構，其特征在于，所述透明導電結構還包括透明 基材層，所述透明基材層設置在所述第一高折導電層的遠離所述第一鈍化層的表面上。
10. 根據權利要求9所述的透明導電結構，其特征在于，所述透明基材層為柔性透明基 材層，優選為PET材料層。
11. 根據權利要求9所述的透明導電結構，其特征在于，所述透明導電結構還包括水汽 阻隔層，所述水汽阻隔層設置在透明基材層的遠離所述第一高折導電層的表面上。
12. 根據權利要求11所述的透明導電結構，其特征在于，所述水汽阻隔層包括： 第一薄膜，設置在所述透明基材層的遠離所述第一高折導電層的表面上； 第二薄膜，設置在所述第一薄膜的遠離所述透明基材層的表面上； 保護膜，設置在所述第二薄膜的遠離所述第一薄膜的表面上。
13. 根據權利要求12所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一薄膜的厚度在 10nm ?100nm 之間。
14. 根據權利要求12所述的透明導電結構，其特征在于，所述第一薄膜為無機氧化物， 優選為IT0材料。
15. 根據權利要求12所述的透明導電結構，其特征在于，所述第二薄膜為無機氧化物， 優選為A1203或Si02。
16. 根據權利要求12所述的透明導電結構，其特征在于，所述保護膜為PET膜。
17. -種電容式觸摸屏，包括透明導電結構，其特征在于，所述透明導電結構為權利要 求1至16中任一項所述的透明導電結構。
18.根據權利要求17所述的電容式觸摸屏，其特征在于，所述透明導電結構為兩個，分 別為第一透明導電結構和第二透明導電結構，所述電容式觸摸屏還包括透明膠層，所述第 一透明導電結構和所述第二透明導電結構設置在所述透明膠層的相對兩個表面上，且各所 述透明導電結構的所述透明導電膜設置在所述透明膠層上，當所述透明導電結構還包括水 汽阻隔層時，所述第一透明導電結構的所述水汽阻隔層被基板代替。
【文檔編號】H01B5/14GK104409139SQ201410649258
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年11月14日 優先權日:2014年11月14日
【發明者】解金庫, 于甄, 陳西寶, 丁曉峰, 高建聰 申請人:張家港康得新光電材料有限公司