用于處理被涂層的襯底的處理盒、裝置和方法

用于處理被涂層的襯底的處理盒、裝置和方法
【專利摘要】本發明涉及用于處理在單側被涂層的襯底的可運送的處理盒，包括：用于以整面支持的方式安放第一襯底的底部，其中所述底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射能量被熱處理；框架；被放置到所述框架上的蓋；用于以整面支持的方式安放第二襯底的被布置在底部和蓋之間的中間元件，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射被熱處理。此外，本發明涉及用于處理襯底的裝置和方法，其中處理盒或處理載體被安裝并且被裝載有襯底，被運送到處理室中，并且輻射能量從蓋上方和/或底部下方被入射。在預先安裝的處理載體情況下，蓋或與框架連接的蓋被遞送到處理載體上用于構造處理盒。
【專利說明】用于處理被涂層的襯底的處理盒、裝置和方法

【技術領域】
[0001] 本發明涉及用于處理在單側被涂層的（beschichtet)襯底的處理盒、裝置和方法。 本發明尤其是涉及襯底的熱處理，所述襯底被涂有先驅層用于制造薄層太陽能電池用的吸 收體。
[0002] 用于直接將太陽光轉換成電能的光伏層系統是充分已知的。這些層系統大多被稱 為"太陽能電池"，其中術語"薄層太陽能電池"涉及具有僅幾微米的小厚度的層系統，所述 層系統需要襯底用于足夠的機械強度。已知的襯底包括無機玻璃、塑料(聚合物)或金屬、尤 其是金屬合金，并且可以根據相應的層厚和特定材料特性被構成為剛性板或柔韌薄膜。
[0003] 就工藝可操縱性和效率來說，具有由非晶、微晶態（mikromorphem)或多晶娃、締化 鎘（CdTe)、砷化鎵（GaAs)、黃銅礦化合物、尤其是銅-銦/鎵-二硫/二硒化物（通過公式 Cu (In，Ga) (S，Se) 2縮寫）或者鋅黃錫礦化合物、尤其是銅-鋅/錫-二硫/二硒化物(通過 公式Cu2 (Zn，Sn) (S，Se)4縮寫）制成的半導體層的薄層太陽能電池證明是有利的。
[0004] 因為利用單個太陽能電池僅能實現小于1伏特的電壓電平，所以一般很多太陽能 電池在一個太陽能模塊中串行地相互接線。通過這種方式可以對于應用獲得可用的輸出電 壓。在此情況下，薄層太陽能模塊提供特殊的優點，即太陽能電池已經在層制造期間就能以 集成的形式接線。在專利文獻中已經多次描述過串行接線的薄層太陽能模塊。與此有關地 僅僅示例性地參照出版物DE 4324318C1和EP 2200097A1。
[0005] 吸收體的特定特性對薄層太陽能模塊中的光輸出有重要影響。直到最近，吸收體 的結構和組成是密集型研究活動的主題。在制造半導體層的不同可能性中，近年來基本 上實施了兩種方法。這是將單元件共蒸鍍到熱襯底上以及逐漸將單層(先驅層）中的元件 例如通過磁控管陰極溉射施加到冷襯底上，這與接著的快速熱處理（RTP=Eap i d Iherma 1 processing(快速熱處理））相結合，其中進行實際的晶體形成和先驅層至半導體層的相轉 換（Phasenumwandlung)。該方式例如在 J. Palm 等人的 "CIS module pilot processing applying concurrent rapid selenization and sulfurization of large area thin film precursors"（Thin Solid Films 431-432，S. 414-522 (2003))中詳細地得以描述。
[0006] 在工業批量生產中，在所謂的順序設備（In-Line-Anlage)中進行先驅層的RTP 熱處理，在所述順序設備中被涂層的襯底經由引入室（Einschleusekammer)被運入并且 在加熱室中根據精確確定的溫度變化曲線被加溫。加溫典型地通過電運行的熱輻射器 進行。接著，經處理的襯底在冷卻室中和/或在冷卻段中被冷卻，之后是借助于引出室 (Ausschleusekammer)從順序設備中引出。這樣的方法例如由EP 0662247 B1已知。
[0007] 一般地，RTP熱處理是在制造薄層太陽能電池時的費用多的處理，其需要對處理氣 氛的精確控制。為此目的已知，通過處理盒限制圍繞襯底的處理空間。這能夠在熱處理期間 將諸如硒或硫的容易揮發的氧族組分的顆粒壓力至少在最大程度上保持為恒定的。此外， 減少具有腐蝕性氣體的熱處理室的暴露。這樣的處理盒例如由DE 102008022784 A1已知。
[0008] 此外，歐洲專利申請EP 2360720 A1示出了用于處理在兩側被涂層的襯底的可運 送的處理盒，其中兩個襯底以其未被涂層的側相疊或者通過間隔保持件彼此分離。要處理 的涂層彼此背離(背靠背（"back-to-back"))。下襯底通過間隔保持件與處理盒的底部相間 隔，其中間隔保持件被構造為使得下襯底的朝向下的涂層對于處理氣體自由可達。下襯底 的整面安放是不可能的。該下襯底通過上襯底的重力被加負荷。襯底的涂層在非對稱的處 理空間中被處理。
[0009] 歐洲專利申請EP 2360721 A1示出了兩個被涂層的襯底的與此不同的裝置。這里， 要處理的涂層彼此朝向（面對面（7&(^-如4&(^〃））。對于兩個涂層，通過襯底本身構成共 同的處理空間。襯底的整面安放是不可能的。此外，兩個涂層不具有單獨的處理空間。


【發明內容】

[0010] 本發明的任務在于，以有利的方式改進用于對被涂層的襯底進行熱處理的在現有 技術中已知的處理盒。尤其是，應該提供成本低的和節省能量的處理盒，其中提高設備吞吐 量，而不顯著提高投資成本和運行成本。此外應該能夠在工業批量生產中以特別高的質量 制造被涂層的襯底。
[0011] 該任務和其他任務根據本發明的建議通過根據并列權利要求所述的用于處理在 單側被涂層的襯底的可運送的處理盒、裝置和方法來解決。本發明的優選實施方式由從屬 權利要求的特征得知。
[0012] 在本發明的意義上，表述"襯底"涉及擁有兩個相互相反的表面的平面體，其中在 兩個表面之一上施加典型地包含多個層的層結構("涂層")。襯底的另一表面一般是未被涂 層的。優選地，這涉及用于制造薄層太陽能模塊的被涂有吸收體(例如黃銅礦化合物或鋅黃 錫礦化合物）的前驅層或先驅層的襯底，所述襯底必須經受RTP熱處理。
[0013] 表述"松動地（lose)"涉及一個體被安放或放置到另一體上的情形，其中在這些體 之間不存在固定連接或不存在固定。兩個體從而可以在無解除連接劑或固著劑的情況下無 破壞地彼此被移除。
[0014] 根據本發明的處理盒被構造為，使得所述處理盒可以被組裝用于用襯底裝載并且 尤其是又(無破壞地）被拆開用于取出經處理的襯底。
[0015] 所述處理盒包括底部，例如底板，所述底部被構造為使得可以以整面支持的方式 安放第一襯底，優選地以其未被涂層的襯底側，其中所述底部此外被構造為使得兩個襯底 的涂層、基本上或主要是第一襯底的涂層通過輸送給底部的下側的輻射的輻射能量被熱處 理。
[0016] 表述"以整面支持的方式"這里以及此外涉及襯底以其下面(未被涂層的側）被放 到底部上或進一步在下面陳述的中間元件上的情形，其中下襯底面完全地、也即在每個面 片段中被支持。在熱處理時襯底的可能彎曲由此可以被防止。
[0017] 處理盒此外包括用于將底部與蓋連接的框架以及包括蓋。所述蓋被構造為使得襯 底的涂層、基本上或主要是第二襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射的輻射能量 被熱處理。蓋優選地松動地被放置到框架上。同樣，框架優選地松動地被放置到底部上。但 是也可設想的是，框架與底部固定地連接。通過將蓋放置到框架上可以以簡單的方式實現 氣密的或(在無另外的密封裝置的情況下）準氣密的處理空間。
[0018] 此外，處理盒包括布置在底部和蓋之間的中間元件，所述中間元件被構造為使得 第二襯底可以以整面支持的方式被安放。中間元件尤其是可以以板狀元件、也即中間板的 形式來構造。
[0019] 通過底部、蓋和框架構成用于處理兩個襯底的(減小)的處理空間。將開放的、準閉 合的或準氣密的或者氣密的處理空間理解為本發明意義上的處理空間。開放的處理空間允 許在處理空間和處理盒的外部周圍環境之間的自由氣體交換。與此不同地，在氣密的處理 空間情況下，在處理空間和外部周圍環境之間的這種氣體交換被完全禁止。在準閉合的或 準氣密的處理空間情況下，處理盒直至在處理空間和外部周圍環境之間的確定的最大壓力 差為止是氣密的。在超過最大壓力差時，發生在處理空間和外部周圍環境之間的壓力平衡。 最大壓力差與處理盒的特定設計有關。
[0020] 處理盒可以具有氣體連接端，以便在確定的處理步驟期間給處理空間有針對性地 配備確定的氣體氣氛。氣體氣氛例如可以包含諸如H 2S、H2Se、S蒸汽、Se蒸汽或H2的反應 性氣體，以及諸如N 2、He或Ar的惰性氣體。可以理解，處理盒即使在氣密的或準氣密的處 理空間情況下也可以擁有氣體連接端，通過所述氣體連接端可以將具有外部超壓的處理氣 體或惰性氣體導入到處理空間中。
[0021] 在根據本發明的處理盒中，底部、中間元件、蓋和框架原則上可以由每種對于所考 慮的應用適用的材料制成。優選地，底部、中間元件、蓋和框架包含金屬、玻璃、陶瓷、玻璃 陶瓷、碳纖維增強的碳原料或石墨或由金屬、玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、碳纖維增強的碳原料或 石墨組成。在此情況下，底部應該被構造用于能夠通過輸送到底部的下側上的熱能量實現 熱處理。相應情況適用于蓋，所述蓋被構造用于能夠通過被輸送到蓋的上側上的熱能量實 現熱處理。底部和蓋為此目的對于用于輸送用來處理襯底的熱能量的電磁輻射可以是透明 的、部分透明的或不透明的。底部和蓋尤其是也可以包含以下材料(例如石墨）或由這樣的 材料組成，所述材料適用于至少部分地、尤其是完全地從用于輸送熱能量用來處理襯底的 輻射源吸收電磁輻射，以便自身被加熱。被加熱的底部或蓋于是可以用作用于尤其是加熱 分別鄰接的襯底的二次熱源，這尤其是可能導致熱量分布的均勻化。
[0022] 根據本發明的處理盒能夠以有利的方式實現兩個在單側被涂層的襯底的同時處 理(熱處理)。通過整面支持兩個襯底，可以避免在通常在玻璃軟化點之上進行的熱處理時 由于重力作用引起的襯底彎曲的危險。與此不同地，在傳統的處理盒(例如EP 2360720 A1 和EP 2360721A1)中為了避免或減少襯底彎曲必須設置附加的支承元件。附加的是，與相應 的配置有關地，至少在兩個襯底之一處不能避免通過支承元件對要處理的涂層的碰觸。在 根據本發明的處理盒中，襯底可以被處理，而不需要相應襯底的涂層的碰觸。涂層和/或襯 底的損壞從而可以被避免。此外，使襯底的自動化操縱變得容易，因為兩個襯底分別可以以 其涂層朝向上地被放到底部或中間元件上并且從而不必被旋轉。在傳統的處理盒中，在"面 對面"配置或"背靠背"配置情況下，兩個襯底之一必須被旋轉，這隨之出現提高的制造成本 和廢品增加的危險。
[0023] 另一重要優點通過以下事實得出，即處理盒可以以簡單的和成本低的方式在處理 室(例如熱處理室)之外自動化地被組裝和裝載。相應情況適用于處理盒的拆卸和經處理的 襯底的取出。就此而言，在批量生產中，用于連續地處理襯底的循環時間可以明顯被減少。
[0024] 在氣密的或準氣密的處理空間情況下，被加載到處理盒中的襯底也在處理室之外 良好地被保護免受環境影響。在順序設備中，被裝載的處理盒可以在不同的處理室之間被 運送，而不必從處理空間中移除在單側被涂層的襯底。
[0025] 處理盒可以自由選擇地被裝載一個或兩個襯底，其中為了提高吞吐量，裝載有兩 個襯底是優選的。處理盒的裝載可以以特別簡單的方式通過將襯底安放到底部和中間元件 上來進行，使得在工業批量生產中能夠實現簡單的和成本低的自動化。
[0026] 在本發明處理盒的一種有利的構型情況下，中間元件松動地被放置到由框架形成 的階梯上，這在工業批量生產中能夠實現特別簡單的和快速的組裝以及給處理盒裝載在單 側被涂層的襯底。此外，處理盒的處理空間以特別簡單的方式單獨地(僅僅）通過中間元件 被劃分成兩個處理子空間，也即用于處理第一襯底的第一處理子空間和用于處理第二襯底 的第二處理子空間。兩個處理子空間可以在流技術上相互連接。但是可替換地，也可能的 是，兩個處理子空間氣密地或準氣密地相互分離。通過所述措施可以對于每個襯底特定地 適配自己的處理子空間。因此，襯底的兩個涂層例如可以不同地被處理。優選地，處理子空 間對稱地來構造，這通過處理子空間的相同高度或(垂直）尺寸給出，使得襯底可以統一地 被處理。這支持高質量要求和品質要求的實現。
[0027] 在替換于此的構型情況下，處理盒松動地被放置到支撐在底部上的第一間隔保持 件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上，其中中間元件被構造為使得所述中間元 件與第一間隔保持件或第二間隔保持件一起將處理空間劃分成用于處理第一襯底的第一 處理子空間和用于處理第二襯底的第二處理子空間。間隔保持件分別與框架不同。通過間 隔保持件能夠實現在工業批量生產中特別簡單和快速地組裝以及給處理盒裝載在單側被 涂層的襯底。優選地，第二間隔保持件支撐在第一襯底的無涂層的或至少不作為功能面設 置的邊緣區中。在薄層太陽能模塊情況下，規則地設置這樣的邊緣區，使得可以以有利的方 式避免光學活性面處的損失。
[0028] 本發明也涉及用于在如上述的根據本發明的可運送的處理盒中處理在單側被涂 層的襯底的方法，具有以下步驟： 在第一步驟中，安裝處理盒并且給處理盒裝載一個或多個襯底。為此目的提供底部，通 過所述底部可以整面支持第一襯底并且所述底部被構造為使得襯底的涂層、基本上或主要 是施加在其上的第一襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射能量被熱處理。將框 架松動放置到底部上用于將底部與蓋連接。必要時將第一襯底（以其未被涂層的側向下)放 到底部上。此外布置中間元件，通過所述中間元件可以整面支持第二襯底。必要時將第二 襯底（以其未被涂層的側向下)放到中間元件上。接著將蓋松動地放置到框架上用于構造處 理盒，其中蓋被構造為使得襯底的涂層、基本上或主要是第二襯底的涂層可以通過被輸送 給蓋的上側的輻射能量被熱處理。通過底部、蓋和框架構成用于處理兩個襯底的處理空間。 處理盒可以被裝載有一個或兩個襯底。
[0029] 在第二步驟中，將處理盒運送到具有熱輻射器的熱處理室中。
[0030] 在第三步驟中，將熱能量或輻射能量輸送給底部的下側用于對襯底的涂層、基本 上或主要是第一襯底的涂層進行熱處理，和/或將熱能量或輻射能量輸送給蓋元件的上側 用于對襯底的涂層、基本上或主要是第二襯底的涂層進行熱處理。
[0031] 通過根據本發明的方法，處理盒可以以簡單的方式在處理室之外自動化地被組裝 和裝載。一個或兩個在單側被涂層的襯底可以特別簡單和成本低地以高制造質量被處理 (熱處理)。
[0032] 在本發明方法的一種有利的構型情況下，將中間元件松動地放置到由框架形成的 階梯上，這能夠實現處理盒的特別簡單的組裝和裝載。可替換地，將中間元件松動地放置到 支撐在底部上的第一間隔保持件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上，這同樣能 夠實現處理盒的特別簡單的組裝和裝載。
[0033] 此外示出用于構造用來處理在單側被涂層的襯底的處理盒的可運送的處理載體。 這里以及此外，術語"處理載體"涉及用于構造處理盒的可預先安裝的開放的組件。處理載 體包括底部，其被構造為使得第一襯底可以以整面支持的方式被安放，并且襯底的涂層、基 本上或主要是第一襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射能量被熱處理。此外， 處理載體包括用于將底部與蓋進行連接的框架，其中所述框架被構造為使得可以松動地放 置蓋。框架可以被松動地被放置到底部上。可替換地，框架可以與底部固定連接。此外， 處理載體包括中間元件，所述中間元件被構造為使得第二襯底可以以整面支持的方式被安 放，其中中間元件被松動地放置到由框架形成的階梯上。
[0034] 處理載體此外可以在處理室之外被組裝并且被裝載有襯底并且(無破壞地）被拆 開用于取出經處理的襯底。通過在用于處理被涂層的襯底的處理室中靜止地布置的蓋可以 使處理載體完善成處理盒。由此可以節省在批量生產中的成本，因為蓋是可以再次使用的， 并且對于處理盒可以不設置單獨的蓋。
[0035] 此外，本發明涉及用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的裝置，所述裝置包 括如前述所構造的載體襯底。此外，所述裝置包括用于松動地放置到處理載體的框架上以 形成處理盒的在處理室中靜止地布置的蓋，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層、基本上 或主要是第二襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射能量被熱處理；以及用于使蓋 和處理載體相對運動的運動機械裝置。該運動機械裝置被構造為使得可以使蓋相對于處理 載體和/或使處理載體相對于蓋運動，以便將蓋放置到框架上。通過底部、框架和蓋構成用 于處理兩個襯底的處理空間。
[0036] 本發明此外涉及用于在如前述所構造的裝置中的處理盒中處理在單側被涂層的 襯底的方法。
[0037] 在第一步驟中，組裝如上述所構造的處理載體并且給處理載體裝載一個或多個襯 底。為此目的，在第一替換方案情況下，提供底部，通過所述底部可以整面支持第一襯底并 且所述底部被構造為使得襯底的涂層、基本上或主要是被施加在其上的第一襯底的涂層可 以通過被輸送給底部的下側的輻射能量被熱處理。將框架松動地放置到底部上用于將底部 與蓋連接。在第二替換方案情況下，提供底部，所述底部與框架固定地連接。必要時將第一 襯底（以其未被涂層的側向下)安放到底部上。此外，在第一替換方案情況下，將中間元件松 動地放置到由框架形成的階梯上，通過所述中間元件能夠整面支持第二襯底，或者在第二 替換方案情況下，將中間元件松動地放置到支撐在底部上的第一間隔保持件和/或支撐在 第一襯底上的第二間隔保持件上。必要時將第二襯底（以其未被涂層的側向下)放到中間元 件上。
[0038] 在第二步驟中，將經裝載的處理載體運送到具有熱輻射器的熱處理室中。
[0039] 在第三步驟中，將在熱處理室中靜止布置的蓋松動地放置到框架上用于構造處理 盒，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層、基本上或主要地是第二襯底的涂層可以通過被 輸送給蓋的上側的輻射能量被熱處理。通過底部、框架和蓋構成用于處理兩個襯底的處理 空間。
[0040] 在第四步驟中，將熱能量或輻射能量輸送給底部的下側用于對襯底的涂層、基本 上或主要是第一襯底的涂層進行熱處理和/或將熱能量或輻射能量輸送給蓋的上側用于 對襯底的涂層、基本上或主要地是第二襯底的涂層進行熱處理。
[0041] 通過根據本發明的方法，開放的處理載體可以以簡單的方式在處理室之外自動化 地被組裝和裝載。一個或兩個在單側被涂層的襯底可以特別簡單和成本低地以高制造質量 被處理(熱處理)。
[0042] 此外示出用于構造用來處理在單側被涂層的襯底的處理盒的可運送的開放的處 理載體，具有：底部，其被構造為使得第一襯底可以以整面支持的方式被安放，并且襯底的 涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射被熱處理；中間元件，其被構造為使得第二襯底 可以以整面支持的方式被安放，其中中間元件被松動地放置到支撐在底部上的第一間隔保 持件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上。
[0043] 這樣的處理載體可以在處理室之外被組裝用于裝載有襯底并且(無破壞地）被拆 開用于取出經處理的襯底。通過在處理室中靜止地布置的、具有與之固定連接的框架的蓋 可以使處理載體完善成處理盒。由此可以節省在批量生產中的成本。
[0044] 此外，本發明涉及用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的裝置，所述裝置包 括如緊接在前所述所構造的處理載體。此外，該裝置包括在處理室中靜止地布置的、具有固 定在其處的框架的蓋，所述框架用于放置到底部上用以形成處理盒，其中所述蓋被構造為 使得襯底的涂層、基本上或主要是第二襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射能量 被熱處理。此外，該裝置包括用于使具有框架的蓋和/或處理載體運動的運動機械裝置，該 運動機械裝置被構造為使得框架可以被放置到底部上。通過底部、蓋和框架構成用于處理 兩個襯底的處理空間。
[0045] 本發明此外涉及用于在如緊接在前所述所構造的裝置中處理在單側被涂層的襯 底的方法。
[0046] 在第一步驟中相應的處理載體被組裝并且被裝載有一個或多個襯底。為此目的提 供底部，通過所述底部可以整面支持第一襯底并且所述底部被構造為使得襯底的涂層、基 本上或主要是施加在其上的第一襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射能量被 熱處理。必要時將第一襯底（以未被涂層的側向下）放到底部上。此外，將中間元件松動地 放置到支撐在底部上的第一間隔保持件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上，通 過所述中間元件可以整面支持第二襯底。必要時將第二襯底（以未被涂層的側向下)放到中 間元件上。
[0047] 在第二步驟中，將經裝載的處理載體運送到具有熱輻射器的熱處理室中。
[0048] 在第三步驟中，將在熱處理室中靜止布置的、與蓋固定連接的框架松動地放置到 底部上用于構造處理盒，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層、基本上或主要是第二襯底 的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射能量被熱處理。通過底部、框架和蓋構成用于處 理兩個襯底的(減小的）處理空間。
[0049] 在第四步驟中，將熱能量輸送給底部的下側用于對襯底的涂層、基本上或主要是 第一襯底的涂層進行熱處理和/或將熱能量輸送給蓋的上側用于對襯底的涂層、基本上或 主要是第二襯底的涂層進行熱處理。
[0050] 通過根據本發明的方法可以以簡單的方式在處理室之外自動化地組裝和裝載開 放的處理載體。兩個在單側被涂層的襯底可以特別簡單地和成本低地以高制造質量被處理 (熱處理)。通過設置靜止的蓋和靜止的框架可以節省制造成本。因為蓋和框架固定地相互 連接，所以可以以簡單的方式使處理載體完善成處理盒。
[0051] 可以理解，本發明的不同構型可以單獨地或以任意組合的方式實現。尤其是，前述 的和下面還要闡述的特征可以不僅以所說明的組合方式而且以其他組合方式或者單獨地 被使用，而不偏離本發明的范圍。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0052] 現在根據實施例更詳細地闡述本發明，其中參照附圖。在簡化的未按比例的圖示 中： 圖1根據橫斷面圖示出用于處理在單側被涂層的襯底的本發明處理盒的實施例； 圖2示出具有處理載體和靜止的蓋的圖1的處理盒的變型方案； 圖3示出圖1的處理盒的另一變型方案。

【具體實施方式】
[0053] 在圖中示出在典型的工作位置水平取向的處理盒1，其中可以理解，處理盒1也可 以不同地取向。在下面的描述中進行的位置和方向說明涉及處理盒1在圖中的表示并且僅 僅用于更簡單地描述本發明，其中本發明不應由此限制。
[0054] 應首先觀察圖1，其中處理盒1的實施例根據縱斷面圖來闡明。處理盒1用于處理 在單側被涂層的襯底3a、3b，例如用于制造薄層太陽能模塊。雖然示出了兩個襯底3a、3b， 可以理解，處理盒1同樣可以被用于處理僅一個唯一的襯底。
[0055] 因此，處理盒1包括平坦的底部5,其這里例如被構造為具有下底部面9和上底部 面10的板或方形體。在底部5的邊緣區域11中，閉合的框架6被松動地放置到上底部面 10上。但是也可設想的是，框架6與底部5固定連接。
[0056] 如在圖1的縱斷面圖中可以良好地看出的，框架6具有兩個水平的階梯12、13,所 述階梯分別用作支承面。因此，平坦的中間元件7松動地被放置到下階梯12上，所述中間元 件這里例如被構造為具有下中間面15和上中間面16的板或方形體。平坦的蓋8被松動地 放置到上階梯13上，所述蓋這里例如被構造為具有下蓋面26和上蓋面27的板或方形體。
[0057] 在處理盒1中，底部5、中間元件7和蓋8堆疊狀地相疊地或彼此地布置。在此， 通過底部5和蓋8與框架6共同地劃定氣密的或準氣密的處理空間17的界限，其中處理空 間17僅通過中間元件7被劃分成下處理子空間17a和上處理子空間17b。兩個處理子空間 17a、17b對稱地構造并且具有大致相同的高度，這通過在彼此相鄰的板之間的凈寬給出。在 本實施例中，兩個處理子空間17a、17b氣密地或準氣密地彼此隔開，其中同樣可設想的是， 兩個處理子空間17a、17b在流技術上相互連接，使得可以進行相互氣體交換。
[0058] 圖1示出裝載有兩個在單側被涂層的襯底3a、3b的處理盒1，其中每個襯底3a、3b 這里例如被構造為具有下襯底面19a、19b和上襯底面20a、20b的方形體。在上襯底面20a、 20b上分別施加層結構4a、4b。在制造薄層太陽能模塊時，層結構4a、4b例如是用于制造吸 收體的要經受RTP熱處理的先驅層或前驅層。在此情況下，下襯底3a利用其下襯底面19a 放在底部5上并且由上底部面10整面地支持。以相應的方式，上襯底3b以其下襯底面19b 放在中間元件7上并且由上中間面16整面地支持。在兩個襯底3a、3b情況下，層結構4a、 4b分別位于朝向蓋8的襯底側。
[0059] 因此，下襯底3a位于下處理子空間17a中并且上襯底3b位于上處理子空間17b 中。因為對于一致的處理氣氛而言尤其是在層結構4a、4b的RTP熱處理期間基本上重要的 是相應處理子空間17a、17b的凈寬的測定，所述凈寬對于兩個襯底3a、3b至少近似地相等， 所以兩個處理子空間17a、17b鑒于處理氣氛被看作是對稱的。這支持例如薄層太陽能模塊 在各種情況下均必須滿足的特別高的品質要求和質量要求的遵守。
[0060] 處理盒1的不同組成部分可以由相同的材料或彼此不同的材料組成。典型的材料 是金屬、玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、碳纖維增強的碳原料或石墨。在此情況下重要的是，底部5 被構造為使得下襯底3a的層結構4a的熱處理能夠通過以輻射形式被輸送到底部5的下側 上或被輸送給下底部面9的熱能量實現。以相應的方式，蓋8被構造為使得上襯底3b的層 結構4b的熱處理能夠通過以輻射形式被輸送到蓋8的上側上或被輸送給上蓋面27的熱能 量實現。熱能量在示意性地在圖2中表明的熱處理室29中可以通過在蓋8之上以及在底 部5之下例如行列式布置的熱輻射器30輸送，這里不必對所述熱輻射器的構型更詳細地予 以探討。
[0061] 例如，底部5和/或蓋8為此目的包括對于入射的電磁輻射是透明的或至少部分 透明的材料，例如玻璃陶瓷。同樣也可能的是，底部5和/或蓋8包括以下材料，所述材料 適用于至少部分地、尤其是完全地吸收電磁輻射，以便本身被加熱，例如石墨。在后述的情 況下，底部5和/或蓋8用作被動加熱的二次熱源。
[0062] 兩個襯底3a、3b例如由具有在1mm至4mm、尤其是2mm至3mm范圍中的厚度的玻璃 組成。如已經提及的，兩個襯底3a、3b分別在其上襯底面20a、20b上配備有層結構4a、4b， 所述層結構例如由吸收體(例如黃銅礦化合物或鋅黃錫礦化合物）的薄先驅層組成，所述薄 先驅層必須經受RTP熱處理。例如，層結構4a、4b是層序列氮化硅/鑰/銅-銦-鎵/硒。 例如，氮化硅層具有在50nm至300nm的范圍中的厚度，鑰層具有在200nm至700nm的范圍 中的厚度，銅-銦-鎵層具有在300nm至lOOOnm的范圍中的厚度以及硒層具有在500nm至 2000nm的范圍中的厚度。
[0063] 處理盒1可以以簡單的方式在用于處理襯底3a、3b的處理室(例如熱處理室）之 外自動化地被組裝并且被裝載有在單側被涂層的襯底3a、3b。例如，為此目的首先將框架6 松動地放到上底部面10上并且接著將下襯底3a以下襯底面19a松動地放到上底部面10 上。但是也可以設想的是，框架6與上底部面10固定地連接。下襯底3a在此情況下位于 閉合的框架6內。然后，將中間元件7松動地放到下階梯12上，由此得出閉合的或者準閉 合的下處理子空間17a。接著，將第二襯底3b以下襯底面19b松動地放到上中間面16上。 最后，將蓋8松動地放到上階梯13上，由此，得出閉合的或準閉合的上處理子空間17b。
[0064] 處理盒1可以擁有接插套筒(未示出），通過所述接插套筒可以分別單獨地將處理 氣體或惰性氣體總地輸送給處理空間17或處理子空間17a、17b。
[0065] 如開頭所述的，在薄層太陽能模塊的工業批量生產中在順序設備中進行襯底3a、 3b的處理，其中被裝載的處理盒1相繼地被輸送給不同的處理室。如對于技術人員本身已 知的，處理盒1的運送例如可以在末端輥（Stummelrollen)上進行，所述末端輥在下底部面 9處支撐處理盒1。運送速度典型地為直至lm/s。
[0066] 例如，裝載有襯底3a、3b的處理盒1首先被運入到引入室中，從那里開始所述處 理盒1被運送到熱處理室中用于對兩個襯底3a、3b的層結構4a、4b進行RTP熱處理。在 RTP熱處理時，襯底3a、3b例如通過熱輻射器以1°C /s至50°C /s的加熱速度被加熱到例如 350°C至800°C的溫度。例如在此，由銅、銦、鎵和硒組成的先驅層在含有硫的氣氛中被轉換 成Cu (In，Ga) (S，Se)2半導體層。接著，經裝載的處理盒1被運入到冷卻室中用于冷卻襯底 3a、3b。也就是說，襯底3a、3b例如以直至50°C被冷卻直至在處理技術上需要的溫度、例如 10°C至380°C。冷卻例如可以通過冷卻板進行并且通過循環氣流加速，例如空氣流、氬氣流 或氮氣流。可替換地，冷卻可以在無冷卻板的情況下通過對流冷卻或強制冷卻實現。接著， 經加載的處理盒1從冷卻室被運入到引出室中，從那里開始襯底3a、3b可以被輸送給進一 步的處理裝置。可以理解，這種順序設備的結構與用于制造薄層太陽能模塊的特殊要求有 關，其中尤其是可以設置另外的加溫室和/或冷卻室以及冷卻段。同樣必要時可以放棄引 入室和/或引出室。
[0067] 處理盒1能夠實現順序設備的批量供應，其中可以在不同的處理室中同時處理經 加載的處理盒。尤其是，襯底3a、3b可以在冷卻室中被冷卻，而其他襯底3a、3b在熱處理室 中經受RTP熱處理。
[0068] 在圖2中示出了圖1的處理盒1的變型方案。為了避免不必要的重復，僅僅示出 與圖1的處理盒的差異并且在其他方面參照對圖1的陳述。因此，處理盒1如下不同：由底 部5、框架6和中間元件7組成的開放的處理載體2在順序設備之外或在處理室之外被組裝 并且被裝載有襯底3a、3b。才在相應的處理室中使處理盒1完善。
[0069] 如在圖2中所示，為此目的，蓋8在熱處理室29中靜止地(位置固定地）布置。蓋 8可以通過未更詳細示出的運動機械裝置21在其垂直位置上被調節，以便被遞送給開放的 處理載體2,其中蓋8松動地被放置到上階梯13上。因此，才在熱處理室29中構造處理空 間17。該變型方案具有優點：總是可以使用相同的蓋8相繼地用于多個經裝載的處理載體 2,使得不必對于每個處理盒1設置單獨的蓋8。由此可以在批量生產中節省成本。該變型 方案此外具有優點：相同的蓋8不必持續地被加熱和冷卻并且從而可以節省能量成本。開 放的處理載體2與靜止的蓋8和運動機械裝置21共同地形成用于處理襯底3a、3b的裝置， 所述裝置在圖2中總地用附圖標記28表示。
[0070] 在圖3中示出了圖1的處理盒1的另一變型方案，其中又僅僅闡述了與圖1的處 理盒1的差異并且在其他方面參照在那里的陳述。
[0071] 因此，框架6不包括用于放置中間元件7的下階梯12,而是僅僅包括用于放置蓋8 的上階梯13。代替下階梯12設置間隔保持件22、24,所述間隔保持件分別以閉合的框架形 式來構造。因此，松動地放置到上底部面10上的第一間隔保持件22的上側用作用于中間 元件7的第一支承面23。另一方面，與第一間隔保持件22不同地松動地放置到下襯底3a 的上側上的另一位于內部的第二間隔保持件24的上側用作用于中間元件7的第二支承面 25。因為用于制造薄層太陽能模塊的被涂層的襯底3a、3b -般擁有無涂層的或者至少不作 為光學活性面設置的邊緣區14,所以有利的是，第二間隔保持件24在該無涂層的邊緣區38 的區域中支撐在下襯底3a處，使得不通過第二間隔保持件24引起功率減小。
[0072] 例如以以下方式進行處理盒1的組裝和裝載，即首先將框架6松動地放置到上底 部面10上。接著在框架6內將第一襯底3a以其下襯底面19a松動地放置到上底部面10 上。然后，將兩個框架式間隔保持件22、24置于位置，其中第一間隔保持件22松動地被放 置到上底部面10上并且第二間隔保持件24松動地被放置到下襯底3a上。接著，將中間元 件7松動地放到兩個支承面23、25上，由此使下處理子空間17a完整。然后，將第二襯底3b 以其下襯底面19b松動地放置到上中間面16上。最后，將蓋8松動地放置到上階梯13上， 由此使上處理子空間17b完整。處理盒1因此可以以簡單的、可靠的和成本低的方式自動 化地被組裝和裝載。
[0073] 同樣可能的是，與圖2對應地，僅僅開放的處理載體2以前述方式在順序設備或處 理室之外被安裝和裝載，所述開放的處理載體由底部5、框架6和中間元件7組成或由底部 5和中間元件7組成。在該情況下，在處理室中靜止地布置的蓋8被遞送給處理載體2用于 完成處理盒1。可替換地，也可能的是，在處理室中，靜止地布置的蓋8以及框架6被遞送 給處理載體2。有利地，為此目的，蓋8與框架6固定地連接。因此，可以不為每個處理盒1 設置單獨的蓋8以及必要時單獨的框架6。
[0074] 根據本發明的處理盒1能夠實現在單側被涂層的襯底3a、3b的處理，其中處理盒 1或者開放的處理載體2可以在處理室之外自動地被安裝和被裝載有襯底3a、3b。通過整 面地支持兩個襯底3a、3b，可以以特別有利的方式避免通過重力引起的襯底彎曲。尤其是 在典型地在玻璃軟化點之上進行的RTP熱處理情況下，可以通過這種方式可靠地和安全地 避免玻璃襯底3a、3b的彎曲。此外，兩個襯底3a、3b的層結構4a、4b既不必在處理之前、也 不必在處理期間或者在處理之后被碰觸，從而可以避免機械損壞。尤其是，兩個襯底3a、3b 的位置對于處理不必被改變，例如通過旋轉襯底3a、3b，從而大大簡化自動化的處理。處理 盒1的處理空間17可以以特別有利的方式至少近似對稱地被劃分成兩個處理子空間17a、 17b，使得兩個襯底3a、3b可以利用相同的處理氣氛被處理。此外，可以如此控制對處理盒 1的上側和下側的供熱，使得在兩個襯底3a、3b內存在盡可能均勻的熱量分布。這鑒于在 RTP熱處理時前驅材料至吸收體的受控轉化是期望的。處理盒1因此支持以高品質要求或 質量要求對用于薄層太陽能模塊的被涂層的襯底的制造。
[0075] 本發明的其他特征從以下描述中得出： 用于處理在單側被涂層的襯底的可運送的處理盒，包括：用于優選以整面支持的方式 安放第一襯底的底部，其中底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的 輻射被熱處理；用于將底部與蓋進行連接的框架；用于優選以整面支持的方式安放第二襯 底的中間元件；蓋，所述蓋被放置到框架上并且被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送 給蓋的上側的輻射被熱處理。
[0076] 在處理盒的一種構型情況下，處理空間（單獨地）通過中間元件被劃分成用于處理 第一襯底的第一處理子空間和用于處理第二襯底的第二處理子空間。在處理盒的另一構型 情況下，中間元件被放置到框架上。在處理盒的另一構型情況下，中間元件被放置到支撐在 底部上的第一間隔保持件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上。在處理盒的另一 構型情況下，第二間隔保持件支撐在第一襯底的無涂層的邊緣區中。在處理盒的另一構型 情況下，框架被放置到底部上。處理盒的構型可以任意地相互組合。
[0077] 用于處理在單側被涂層的襯底的處理盒用的可運送的處理載體，包括：用于優選 地以整面支持的方式安放第一襯底的底部，其中底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被 輸送給底部的下側的輻射被熱處理；用于將底部與蓋進行連接的框架，其中所述框架被構 造為使得可以放置蓋；用于優選以整面支持的方式安放第二襯底的中間元件，其中中間元 件被放置到框架上。
[0078] 用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的裝置，包括：如前述的可運送的處理 載體；用于放置到處理載體的框架上以形成處理盒的在處理室中靜止地布置的蓋，其中所 述蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射被熱處理；用于使蓋和/ 或處理載體運動的運動機械裝置，其中該運動機械裝置被構造為使得蓋可以被放置到框架 上。
[0079] 用于處理在單側被涂層的襯底的處理盒用的可運送的處理載體，包括：用于優選 地以整面支持的方式安放第一襯底的底部，其中底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被 輸送給底部的下側的輻射被熱處理；用于優選以整面支持的方式安放第二襯底的中間元 件，其中中間元件被放置到支撐在底部上的第一間隔保持件和/或支撐在第一襯底上的第 二間隔保持件上。
[0080] 用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的裝置，包括：如緊接在前所述的可運 送的處理載體；在處理室中靜止地布置的、具有固定在其處的框架的蓋，所述框架用于連接 底部和蓋以形成處理盒，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側 的輻射被熱處理；用于使具有框架的蓋和/或處理載體運動的運動機械裝置，其中該運動 機械裝置被構造為使得框架可以被放置到底部上。
[0081] 用于在可運送的處理盒中處理在單側被涂層的襯底的方法，具有以下步驟：a)通 過以下方式安裝和裝載處理盒，即提供底部，通過所述底部可以優選整面支持第一襯底并 且所述底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射被熱處理，將框 架放置到底部上用于將底部與蓋連接，必要時將第一襯底安放到底部上，布置中間元件，通 過所述中間元件可以優選整面支持第二襯底，必要時將第二襯底安放到中間元件上，將蓋 放置到框架上用于構造處理盒，其中蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上 側的輻射被熱處理；b)將處理盒運送到具有熱輻射器的熱處理室中；c)將輻射輸送給底部 的下側和/或將輻射輸送給蓋的上側用于對襯底的涂層進行熱處理。在該方法的一種構型 情況下，將中間元件放置到框架上。在該方法的另一構型情況下，將中間元件放置到支撐在 底部上的第一間隔保持件和/或支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上。該方法的構型可 以任意地相互組合。
[0082] 用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的方法，具有以下步驟：a)通過以下方 式安裝和裝載可運送的處理載體，即提供底部，通過所述底部可以優選整面支持第一襯底 并且所述底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射被熱處理，將 框架放置到底部上用于將底部與蓋連接，必要時將第一襯底安放到底部上，將中間元件放 置到框架上，通過所述中間元件可以優選整面支持第二襯底，必要時將第二襯底安放到中 間元件上；b)將處理載體運送到具有熱輻射器的熱處理室中；c)將在熱處理室中靜止布置 的蓋放置到框架上用于構造處理盒，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送 給蓋的上側的輻射被熱處理；d)將輻射輸送給底部的下側和/或將輻射輸送給蓋的上側用 于對襯底的涂層進行熱處理。
[0083] 用于在處理盒中處理在單側被涂層的襯底的方法，具有以下步驟：a)通過以下方 式安裝和裝載可運送的處理載體，即提供底部，通過所述底部可以優選整面支持第一襯底 并且所述底部被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給底部的下側的輻射被熱處理，必 要時將第一襯底安放到底部上，將中間元件放置到支撐在底部上的第一間隔保持件和/或 支撐在第一襯底上的第二間隔保持件上，通過所述中間元件可以優選整面支持第二襯底， 必要時將第二襯底安放到中間元件上；b)將經裝載的處理載體運送到具有熱輻射器的熱 處理室中；c)將在熱處理室中靜止布置的、與蓋固定連接的框架放置到底部上用于構造處 理盒，其中所述蓋被構造為使得襯底的涂層可以通過被輸送給蓋的上側的輻射被熱處理； d)將輻射輸送給底部的下側和/或將輻射輸送給蓋的上側用于對襯底的涂層進行熱處理。 [0084] 附圖標記列表 1處理盒 2處理載體 3a、3b襯底 4a、4b層結構 5底部 6框架 7中間元件 8蓋 9下底部面 10上底部面 11邊緣區域 12下階梯 13上階梯 14邊緣區 15下中間面 16上中間面 17處理空間 17a、17b處理子空間 19a、19b下襯底面 20a、20b上襯底面 21運動機械裝置 22第一間隔保持件 23第一支承面 24第二間隔保持件 25第二支承面 26下蓋面 27上蓋面 28裝置 29熱處理室 30熱輻射器。
【權利要求】
1. 用于處理在單側被涂層的襯底（3a，3b)的可運送的處理盒（1)，包括： 底部（5)，所述底部被構造為使得第一襯底（3a)能夠以整面支持的方式被安放，并且 襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下側（9)的福射被熱處理， 用于將底部（5)與蓋（8)連接的框架（6)， 中間元件（7)，所述中間元件被構造為使得第二襯底（3b)能夠以整面支持的方式被安 放， 蓋（8)，所述蓋被放置到框架（6)上并且被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能 夠通過被輸送給蓋（8)的上側（27)的輻射被熱處理，其中通過底部（5)、蓋（8)和框架（6) 構成用于處理襯底（3a，3b )的處理空間（17 )。
2. 根據權利要求1所述的處理盒（1)，其中所述中間元件（7)松動地被放置到由框架 (6)形成的階梯（12)上，其中所述中間元件（7)將處理空間（17)劃分成用于處理第一襯底 (3a)的第一處理子空間（17a)和用于處理第二襯底（3b)的第二處理子空間（17b)。
3. 根據權利要求1所述的處理盒（1)，其中所述中間元件（7)松動地被放置到支撐在 底部（5)上的第一間隔保持件（22)和/或支撐在第一襯底（3a)上的第二間隔保持件（24) 上，其中所述中間元件（7)被構造為使得所述中間元件（7)與第一間隔保持件（22)或第二 間隔保持件（24)共同地將所述處理空間（17)劃分成用于處理第一襯底（3a)的第一處理子 空間（17a)和用于處理第二襯底（3b)的第二處理子空間（17b)。
4. 根據權利要求3所述的處理盒（1)，其中第二間隔保持件（24)支撐在第一襯底（3a) 的無涂層的邊緣區（14)中。
5. 根據權利要求1至4之一所述的處理盒（1 )，其中所述框架（6)松動地被放置到底部 (5)上。
6. 用于在根據權利要求1至5之一所述的可運送的處理盒（1)中處理在單側被涂層的 襯底（3a，3b)的方法，具有以下步驟： a) 通過以下方式來安裝和裝載處理盒（1)，即 -提供底部（5)，通過所述底部能夠整面支持第一襯底（3a)并且所述底部被構造為使 得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下側（9)的輻射被熱處理， -將框架（6)松動地放置到底部（5)上用于將底部（5)與蓋（8)連接， -必要時將第一襯底（3a)安放到底部（5)上， -布置中間元件（7)，通過所述中間元件能夠整面支持第二襯底（3b)， -必要時將第二襯底（3a)安放到中間元件（7)上， -將蓋（8)放置到框架（6)上用于構造處理盒（1)，其中所述蓋（8)被構造為使得襯底 (3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給蓋（8)的上側（27)的輻射被熱處理， b) 將處理盒（1)運送到具有熱輻射器（30 )的熱處理室（29 )中， c) 將輻射輸送給底部（5 )的下側（9 )和/或將輻射輸送給蓋（8 )的上側（27 )用于對襯 底（3a，3b)的涂層（4a，4b)進行熱處理。
7. 根據權利要求6所述的方法，其中在第一替換方案情況下，將中間元件（7)松動地放 置到由框架（6)形成的階梯（12)上，或者在第二替換方案情況下，將中間元件（7)松動地放 置到支撐在底部（5)上的第一間隔保持件（22)和/或支撐在第一襯底（3a)上的第二間隔 保持件（24)上。
8. 用于在處理盒（1)中處理在單側被涂層的襯底（3a，3b)的裝置（28)，包括： 可運送的處理載體（2)，所述處理載體（2)具有底部（5)，所述底部被構造為使得第一 襯底（3a)能夠以整面支持的方式被安放，并且襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸 送給底部（5)的下側（9)的輻射被熱處理；框架（6)，所述框架被構造為使得所述框架將底 部（5)與蓋（8)連接并且所述蓋（8)能夠松動地被放置到框架上；中間元件（7)，所述中間元 件被構造為使得第二襯底（3b)能夠以整面支持的方式被安放，其中所述中間元件松動地被 放置到框架（6)的階梯（12)上；在處理室（29)中靜止地布置的蓋（8)，其用于松動地放置 到處理載體（2)的框架（6)上用以形成處理盒（1)，其中所述蓋（8)被構造為使得襯底（3a， 3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給蓋（8)的上側（27)的輻射被熱處理， 用于使蓋（8)和/或處理載體（2)運動的運動機械裝置（21)，其中該運動機械裝置被 構造為使得蓋（8)能夠被放置到框架（6)上。
9. 用于在根據權利要求8所述的裝置（28)中處理在單側被涂層的襯底（3a，3b)的方 法，具有以下步驟： a) 通過以下方式來安裝和裝載可運送的處理載體（2)，即 -在第一替換方案情況下：提供底部（5)，通過所述底部能夠整面支持第一襯底（3a)并 且所述底部被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下側 (9)的輻射被熱處理，并且將框架（6)松動地放置到底部（5)上用于將底部（5)與蓋（8)連 接，或者在第二替換方案情況下：提供底部（5)，通過所述底部能夠整面支持第一襯底（3a) 并且所述底部被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下 偵儀9)的輻射被熱處理，其中底部（5)與框架（6)固定地連接，所述框架用于將底部（5)與 蓋（8)連接， -必要時將第一襯底（3a)安放到底部（5)上， -在第一替換方案情況下，將中間元件（7)松動地放置到由框架（6)形成的階梯（12) 上，通過所述中間元件能夠整面支持第二襯底（3b)，或者在第二替換方案情況下，將中間元 件（7)松動地放置到支撐在底部（5)上的第一間隔保持件（22)和/或支撐在第一襯底（3a) 上的第二間隔保持件（24)上， -必要時將第二襯底（3b )安放到中間元件（7 )上， b) 將處理載體（2)運送到具有熱輻射器（30)的熱處理室（29)中， c) 將在熱處理室（30)中靜止地布置的蓋（8)松動地放置到框架（6)上用于構造處理 盒（1)，其中所述蓋（8)被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給蓋（8) 的上側（27)的輻射被熱處理， d) 將輻射輸送給底部（5 )的下側（9 )和/或將輻射輸送給蓋（8 )的上側（27 )用于對襯 底（3a，3b)的涂層（4a，4b)進行熱處理。
10. 用于在處理盒（1)中處理在單側被涂層的襯底（3a，3b)的裝置，包括： 可運送的處理載體（2)，其具有底部（5)，所述底部被構造為使得第一襯底（3a)能夠以 整面支持的方式被安放，并且襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下 偵儀9)的輻射被熱處理；中間元件（7)，所述中間元件被構造為使得第二襯底（3b)能以整面 支持的方式被安放，其中所述中間元件（7)松動地被放置到支撐在底部（5)上的第一間隔 保持件（22)和/或支撐在第一襯底（3a)上的第二間隔保持件（24)上；在處理室（29)中靜 止地布置的、具有被固定在其處的框架（6)的蓋（8)，所述框架用于連接底部（5)和蓋（8)用 以形成處理盒（1)，其中所述蓋（8)被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被 輸送給蓋（8)的上側（27)的輻射能量被熱處理， 用于使具有框架（6 )的蓋（8 )和/或處理載體（2 )運動的運動機械裝置，該運動機械裝 置被構造為使得框架（6)能夠松動地被放置到底部（5)上。
11.用于在根據權利要求10所述的裝置（28)中處理在單側被涂層的襯底（3a，3b)的 方法，具有以下步驟： a) 通過以下方式安裝和裝載可運送的處理載體（2)，即 -提供底部（5)，通過所述底部能夠整面支持第一襯底（3a)并且所述底部被構造為使 得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能夠通過被輸送給底部（5)的下側（9)的輻射被熱處理， -必要時將第一襯底（3a)安放到底部（5)上， -將中間元件（7)放置到支撐在底部（5)上的第一間隔保持件（22)和/或支撐在第一 襯底（3a)上的第二間隔保持件（24)上，通過所述中間元件能夠整面支持第二襯底（3b)， -必要時將第二襯底（3b)安放到中間元件（7)上， b) 將經裝載的處理載體（2)運送到具有熱輻射器（30)的熱處理室（29)中， c) 將在熱處理室（29)中靜止布置的、與蓋（8)固定連接的框架（6)松動地放置到底部 (5)上用于構造處理盒（1)，其中所述蓋（8)被構造為使得襯底（3a，3b)的涂層（4a，4b)能 夠通過被輸送給蓋（8)的上側（27)的輻射被熱處理， d) 將輻射輸送給底部（5 )的下側（9 )和/或將輻射輸送給蓋（8 )的上側（27 )用于對襯 底（3a，3b)的涂層（4a，4b)進行熱處理。
【文檔編號】H01L21/673GK104106131SQ201380009664
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年2月8日 優先權日:2012年2月16日
【發明者】M.菲爾方格, D.C.范, S.約斯特 申請人:法國圣戈班玻璃廠