有機發光顯示裝置及其制造方法
【專利摘要】本發明提供了一種有機發光顯示裝置以及制造方法。有機發光顯示裝置包括：基底；第一電極，位于基底上；像素限定膜，位于基底上并至少部分暴露第一電極；有機層，位于第一電極上并具有中心部分和邊緣部分；覆蓋膜，與有機層的邊緣部分至少部分疊置。
【專利說明】 有機發光顯示裝置及其制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種有機發光顯示裝置以及一種制造該有機發光顯示裝置的方法。更具體地講，本發明涉及一種包括電極和形成在電極上的有機層的有機發光顯示裝置以及一種制造該有機發光顯示裝置的方法。
【背景技術】
[0002]在屏幕上實現各種信息的顯示器是面向信息的通信時代的核心技術，并且朝向纖薄、重量輕、便攜和高性能方向發展。因此，包括有機發光顯示裝置的平板顯示器已經越來越受到關注，其中，平板顯示器可以克服重量重且尺寸大的傳統的陰極射線管(CRT)的缺點。
[0003]這里，有機發光顯示裝置是使用電極之間的薄的有機發光層的自發光裝置，并且優勢在于因為它能夠實現纖薄。根據用于產生光的有機發光層的材料，有機發光顯示裝置被劃分為小分子有機發光顯示裝置和聚合物有機發光顯示裝置。小分子有機發光顯示裝置的有機發光層通常通過真空沉積形成為薄膜，并且聚合物分子有機發光顯示裝置的有機發光層通常通過溶液涂覆法(諸如旋涂或噴墨打印)形成為薄膜。
[0004]然而，由于在有機發光層的形成工藝中出現的問題，會導致有機發光層會具有非均勻的厚度，這樣會導致在設置成相互面向且之間設置有有機發光層的電極之間發生短路。因此，正在進行解決上述問題的各種技術嘗試。
【發明內容】
[0005]本發明提供了一種有機發光顯示裝置，該裝置可防止電極和有機層之間產生的電短路。本發明還提供了一種制造有機發光顯示裝置的方法，該方法可防止在電極和有機層之間產生的電短路。
[0006]在下面對優選實施例的描述中將描述本發明的以上和其它目的，或者本發明的以上和其它目的將通過下面對優選實施例的描述而清楚。
[0007]根據本發明的一方面，提供了一種有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置包括:基底；第一電極，位于基底上；像素限定膜，位于基底上并至少部分暴露第一電極；有機層，位于第一電極上并具有中心部分和邊緣部分；和覆蓋膜，與有機層的邊緣部分至少部分疊置。
[0008]根據本發明的另一方面，提供了一種有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置包括:基底；第一電極，位于基底上；多個像素，暴露第一電極的至少一部分；有機層，位于所述多個像素中的每個像素上；覆蓋膜，沿所述多個像素的邊緣設置。
[0009]根據本發明的又一方面，提供了一種制造有機發光顯示裝置的方法，所述方法包括:準備基底，基底包括位于基底上的第一電極和位于基底上并至少部分暴露第一電極的像素限定膜；在第一電極上圖案化有機層，有機層具有中心部分和邊緣部分；將覆蓋膜設置成與有機層的邊緣部分至少部分疊置。
[0010]本發明的實施例提供了至少下述效果。
[0011]也就是說，有機發光顯示裝置可防止第一電極和第二電極之間發生電短路。
[0012]另外，覆蓋膜設置在有機層和電極之間，從而抑制在有機層的邊緣部分處發生非均勻發射。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]通過參照附圖對本發明的優選實施例進行詳細描述，本發明的以上和其它特征和優點將變得更清楚，在附圖中:
[0014]圖1是示意性示出根據本發明實施例的有機發光顯示裝置的平面圖；
[0015]圖2是沿圖1中的線1-1’截取的剖視圖；
[0016]圖3是示出圖2中示出的有機層及其周圍區域的放大剖視圖；
[0017]圖4是示出根據本發明另一實施例的有機發光顯示裝置的剖視圖；
[0018]圖5是示出圖4中示出的有機層及其周圍區域的放大剖視圖；
[0019]圖6是示出根據本發明另一實施例的有機層及其周圍區域的放大剖視圖；
[0020]圖7是示出根據本發明另一實施例的有機發光顯示裝置的平面圖；
[0021]圖8是沿圖7中的線11-11’截取的剖視圖；
[0022]圖9是示出根據本發明另一實施例的有機發光顯示裝置的剖視圖；
[0023]圖10至圖14是示出根據本發明的實施例的用于制造有機發光顯示裝置的方法的剖視圖。
【具體實施方式】
[0024]通過參考將參照附圖詳細描述的實施例，本發明的各個方面和特征以及用于實現各個方面和特征的方法將是清楚的。然而，本發明不限于在下文中公開的實施例，而是可以以各種各樣的形式來實現。說明書中限定的主題(諸如詳細的結構和元件)除了提供為有助于本領域的普通技術人員全面理解本發明之外并無他意，并且本發明僅限定在權利要求的范圍中。
[0025]用于指示元件位于另一元件上或者位于不同的元件或層上的術語“在…上”包括以下兩種情況，即，元件直接位于另一元件或層上的情況和元件經另一層或又一元件位于另一元件上的情況。在本發明的全部描述中，在各種附圖中，對于相同的元件使用相同的附圖標號。
[0026]盡管使用術語“第一、第二等”來描述各種組成元件，但是這些組成元件不受這些術語的限制。這些術語僅被用來將組成元件與其它組成元件區分開來。因此，在下面的描述中，第一組成元件可為第二組成元件。
[0027]現在在下文中將參照附圖更充分地描述本發明，在附圖中示出了本發明的示例性實施例。圖1是示意性示出根據本發明實施例的有機發光顯示裝置的平面圖，圖2是沿圖1中的線1-1’截取的剖視圖，圖3是示出圖2中示出的有機層及其周圍區域的放大剖視圖。
[0028]參照圖1和圖2,根據本發明實施例的有機發光顯不裝置100包括:基底10 ;第一電極41,位于基底10上；像素限定膜40,位于基底10上并暴露第一電極41的至少一部分；有機層50，位于第一電極41上；覆蓋膜30，位于像素限定膜40上并與像素限定膜40至少部分疊置。
[0029]基底10可為單位顯示基底，并且在它被切割之前可為母板，然后被劃分成多個單位顯示基底。基底10可為一片基底，但是可包括相互堆疊的多個基底。
[0030]基底10可包括絕緣基底。絕緣基底可由含有透明的S12作為主要成分的透明玻璃制成。
[0031]在一些實施例中，基底10可由不透明材料或塑料材料制成。此外，基底10可為可彎曲、可折疊或可卷繞(rollable)的柔性基底。
[0032]盡管未示出，但是基底10還可包括形成在絕緣基底上的另外結構。另外結構的示例可包括布線、電極、絕緣層等。如果根據本發明的有機發光顯示裝置100為有源型有機發光顯示裝置，則基底10可包括形成在基底10上的多個薄膜晶體管(未示出)。薄膜晶體管可包括柵極(未示出)、源極(未示出)和漏極(未示出)以及作為溝道區域的半導體層(未示出)。半導體層可由無定型硅、多晶硅或單晶硅制成。在另一實施例中，半導體層可包括氧化物半導體。多個薄膜晶體管中的至少一些的漏極可電連接到第一電極41。
[0033]第一電極41可位于基底10上。第一電極41可與基底10分隔開。第一電極41可為陽極電極或陰極電極。如果第一電極41為陽極電極，則第二電極53可為陰極電極。下面將基于該假設來描述實施例。然而，本發明不限于此，并且第一電極可為陰極電極且第二電極可為陽極電極。
[0034]如果第一電極41被用作陽極電極，則它可由具有高逸出功的導電材料制成。如果有機發光顯示裝置100為底部發射型顯示裝置，則第一電極41可由ΙΤΟ、IZO、ZnO或In2O3或它們的堆疊結構制成。如果有機發光顯示裝置100是前發射型顯示裝置，則第一電極41還可包括由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、Ir、Cr、Li或Ca制成的反射膜。
[0035]第一電極41可變型為包括具有兩種或多種不同材料的兩層或更多層的結構的各種結構。
[0036]像素限定膜40可形成在第一電極41上。像素限定膜40可暴露第一電極41的至少一部分。也就是說，在示例性實施例中，像素限定膜40可部分地暴露第一電極41或者可全部暴露第一電極41。當像素限定膜40全部暴露第一電極41時,第一電極41可與與其相鄰的像素限定膜40分隔開。像素限定膜40可包括從由苯并環丁烯(BCB)、聚酰亞胺(PI)、聚酰胺(PA)、丙烯酸樹脂和酚樹脂和無機材料(諸如氮化硅)組成的組中選擇的至少一個。像素限定膜40還可包括含有黑色顏料的光敏劑。在這種情況下，像素限定膜40可用作光屏蔽構件。
[0037]有機層21、22和23可位于第一電極41上。有機層21、22和23可包括有機發光顯示設備100中包括的有機材料層，即，有機發光層(EML)、空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子注入層(EIL)、電子傳輸層(ETL)等。有機層21、22和23可具有包括從有機材料層中選擇的一層的單層結構或者具有包括從有機材料層中選擇的兩層或更多層的多層結構。
[0038]有機層21、22和23中的每個有機層可包括中心部分和邊緣部分。將參照圖3詳細描述有機層的中心部分和邊緣部分。
[0039]參照圖3，有機發光顯示裝置100的有機層21、22和23可為平坦的。
[0040]在包括中心部分和邊緣部分的有機層21、22和23中的每個有機層中，邊緣部分可為與與其相鄰的像素限定膜疊置的區域(圖3中的區域el)，中心部分可為有機層中除了邊緣部分之外的區域(圖3中的區域Cl)。圖3示出了有機層21、22和23為平坦的，但是本發明并不將有機層21、22和23的形狀限于此。在示例性實施例中，邊緣部分和中心部分可具有不同的厚度。另外，邊緣部分的厚度和/或中心部分的厚度可為不均勻的。
[0041]有機層21、22和23中的每個有機層可包括發光區域。在有機層21、22和23中的每個有機層的發光區域中，第一電極41和第二電極60產生的空穴和電子可相互復合。也就是說，當空穴和電子在有機層21、22和23中的每個有機層的發光區域中相互復合時，可產生激子，并且當產生的激子的能級從激發態變成基態時，可發射與變化的能級對應的光。
[0042]發光區域可基本等于或小于第一電極41與有機層21、22和23中的每個有機層之間的疊置區域。也就是說。發光區域的寬度可等于或小于第一電極41與有機層21、22和23中的每個有機層之間的疊置區域的寬度(圖3中的dl)。在示例性實施例中，發光區域的寬度可基本等于或小于有機層中心部分的寬度(即，Cl)。
[0043]有機層21、22和23可包括多個層。多個有機層21、22和23可包括第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23。多個有機層21、22和23可包括不同的材料，但是本發明的各個方面不限于此。第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23中的至少兩個可包括相同的材料。另外，第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23可具有相同的堆疊結構，但是本發明的各個方面不限于此。也就是說，第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23中的至少一個可具有與其它層不同的堆疊結構。
[0044]在示例性實施例中，第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23可發射不同的顏色，但是本發明的各個方面不限于此。也就是說，第一有機層21、第二有機層22和第三有機層23中的至少兩個可發射相同的顏色。在圖1和圖2示出的示例性實施例中，第一有機層21可發射紅色，第二有機層22可發射綠色，第三有機層23可發射藍色。
[0045]覆蓋膜30可設置在有機層21、22和23中的每個有機層的邊緣部分上。也就是說，覆蓋膜30可設置成與邊緣部分至少部分疊置。也就是說，覆蓋膜30可部分地或全部地覆蓋邊緣部分，但是本發明的各個方面不限于此。在另一示例性實施例中，在覆蓋膜30覆蓋邊緣部分的狀態下，覆蓋膜30可朝向與其相鄰的像素限定膜40或有機層的中心部分延伸預定距離。
[0046]覆蓋膜30可由非導電材料制成。覆蓋膜30可包括無機材料，即，氧化硅和氮化硅中的至少一種，但是本發明的各個方面不限于此。也就是說，覆蓋膜30可包括有機材料或金屬材料。
[0047]包括在覆蓋膜30中的有機材料的示例可包括聚丙烯酸酯和聚酰亞胺。然而，本發明并不將覆蓋膜30的材料限于這里列出的材料，而是可使用任何材料作為覆蓋膜30，只要該材料具有10 Ω以下的電阻值。
[0048]覆蓋膜30的厚度可在丨0 Α--5μπι的范圍內，然而，提供這個范圍僅出于示出的目的。本發明并不將覆蓋膜30的厚度限于這里所列出的厚度。
[0049]可通過例如激光誘導熱成像(LITI)來形成覆蓋膜30，但不限于此。覆蓋膜30可通過各種方法形成。例如，覆蓋膜30可通過印刷或沉積來形成。將在后面詳細描述用于形成覆蓋膜30的方法。
[0050]第二電極60可形成在有機層21、22和23上。當第二電極60用作陰極電極時，它可由具有低逸出功的導電材料形成。在示例性實施例中，第二電極60可由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、Ir、Cr、Li 或 Ca 制成。
[0051]第二電極60可連續地位于基底10上。也就是說，第二電極60可完全覆蓋第二電極60下面的結構，例如，有機層21、22和23以及像素限定膜40。例如，位于有機層21、22和23上的第二電極60和位于像素限定膜40上的第二電極60可相互連接。在另一示例性實施例中，第二電極60可不連續地位于基底10的部分區域上。例如，位于有機層21、22和23上的第二電極60和位于像素限定膜40上的第二電極60可相互分隔開。
[0052]將參照圖1來描述根據本發明實施例的有機發光顯示裝置的平面圖。
[0053]按照圖1，根據本發明實施例的有機發光顯示裝置100可包括設置在基底10上的多個像素。
[0054]多個像素51、52和53可位于由像素限定膜40暴露的區域上。也就是說，多個像素51、52和53可位于像素限定膜40的開口上。也就是說，多個像素51、52和53可通過像素限定膜40相互分隔開。多個像素51、52和53中的每個像素可包括第一電極41、位于第一電極41上的第二電極60以及位于第一電極40和第二電極60上的有機層21、22和23。
[0055]多個像素51、52和53可包括第一像素51、第二像素52和第三像素53。
[0056]圖1示出了多個像素51、52和53是矩形的，但是本發明并不將每個像素的形狀限于這里示出的形狀。也就是說，像素可為圓形、橢圓形或多邊形。另外，第一像素51、第二像素52和第三像素53可具有相同的形狀，但是本發明的各個方面不限于此。多個像素51、52和53可具有不同的形狀。
[0057]第一像素51、第二像素52和第三像素53可發射不同的顏色，但是本發明的各個方面不限于此。第一像素51、第二像素52和第三像素53中的至少兩個可發射相同的顏色。在示例性實施例中，第一像素51可發射紅色，第二像素52可發射綠色，第三像素53可發射藍色。
[0058]多個像素51、52和53，即，第一像素51、第二像素52和第三像素53，可以以矩陣結構設置。多個像素51、52和53中的每個像素的第η列可包括多個第一像素51，與第η列相鄰的第(η+1)列包括多個第二像素52，與第(η+1)列相鄰的第(η+2)列可包括多個第三像素53。在示例性實施例中，第η列、第(η+1)列和第(η+2)列可相互平行，但是本發明的各個方面不限于此。多個像素51、52和53可布置成使得第η列、第(η+1)列和第(η+2)列按這個順序在行方向上重復布置。這里，η為自然數，即，大于O的整數，并且多個像素51、52和53中的每個像素可形成在行和列的交叉處。
[0059]第一像素51可在行方向上與第二像素52和第三像素53相鄰，并可在列方向上與另一第一像素51相鄰。第二像素52可在行方向上與第一像素51和第三像素53相鄰，并可在列方向上與另一第二像素52相鄰。第三像素53可在行方向上與第一像素51和第二像素52相鄰，并可在列方向上與另一第三像素53相鄰。
[0060]覆蓋膜30可沿每個像素的邊緣設置。更詳細地講，如上所述，覆蓋膜30可覆蓋有機層21、22和23的邊緣部分。在示例性實施例中，有機層21、22和23的各自的邊緣部分可沿像素51、52和53的邊緣部分設置，并且覆蓋膜30可覆蓋有機層21、22和23的沿像素51、52和53的邊緣設置的邊緣部分。換言之，覆蓋膜30可設置成與有機層21、22和23的沿像素51、52和53的邊緣設置的邊緣部分疊置。[0061 ] 另外，如上所述，覆蓋膜30可朝向與其相鄰的像素限定膜40延伸并至少覆蓋像素限定膜40的沿像素51、52和53的邊緣設置的部分。也就是說，覆蓋膜30可設置成與像素限定膜40的與有機層21、22和23的邊緣部分相鄰的至少一部分疊置。
[0062]當覆蓋膜30覆蓋有機層21、22和23的邊緣部分時，第一電極41和第二電極60之間產生的電短路可被抑制。
[0063]在下文中，將描述本發明的其它實施例。在下面的描述中，用先前實施例的相同標號來表示相同功能的組件，并將不再進行或將簡要地進行重復的解釋。
[0064]圖4是示出根據本發明的另一實施例的有機發光顯示裝置的剖視圖，圖5是示出圖4中示出的有機層及其周圍區域的放大剖視圖。
[0065]參照圖4和圖5，根據本實施例的有機發光顯示裝置101與根據圖2中示出的先前實施例的有機發光顯示裝置的不同之處在于有機層的形狀為向上凸出的碗狀物(parabola)。
[0066]形狀為向上凸出的碗狀物的有機層2la、22a和23a中的每個可包括中心部分和邊緣部分，其中，中心部分設置在邊緣部分之間。邊緣部分可包括與與其相鄰的像素限定膜40疊置的區域(圖5中的區域e2)。
[0067]也就是說，在示例性實施例中，有機層21a的與與其相鄰的像素限定膜40疊置的區域可為邊緣部分，并且有機層21a的從有機層21a除去邊緣部分之外的區域可為中心部分(圖5中的區域c2)。
[0068]中心部分的厚度可大于邊緣部分的厚度。貫穿本發明的說明書，中心部分或邊緣部分的厚度可指的是從基底10到有機層21a、22a和23a中的每個的頂表面范圍內的最短距離。如果有機層21a、22a和23a為凸出的形狀，則中心部分和邊緣部分的高度可為不均勻的。在這種情況下，中心部分的最小厚度(tmin)可等于或大于邊緣部分的最大厚度(tmax)。
[0069]覆蓋膜30可設置在有機層21a、22a和23a的邊緣部分上。也就是說，覆蓋膜30可設置成與邊緣部分至少部分疊置。也就是說，覆蓋膜30可部分或全部覆蓋邊緣部分，但是本發明的各個方面不限于此。在另一示例性實施例中，在邊緣部分被與其相鄰的像素限定膜40覆蓋的狀態下，覆蓋膜30可朝向有機層的中心部分延伸。
[0070]圖6是示出根據本發明的另一實施例的有機層及其周圍區域的放大剖視圖。
[0071]參照圖6，根據本實施例的有機發光顯示裝置102與根據圖2中示出的先前實施例的有機發光顯示裝置100的不同之處在于有機層的厚度不均勻。
[0072]如上所述，有機層21b的厚度可為不均勻的。圖6示出了有機層21b在其中心部分具有凹進的中心區域(圖6中的區域c3)并在其相對的側部具有凸出區域，而其邊緣部分(圖3中的區域e3)是凹進的，然而，這僅為示出的目的提供。本發明并不將有機層21b的形狀限制為這里示出的形狀。
[0073]如上所述，邊緣部分可包括有機層21b的與與其相鄰的像素限定膜40疊置的區域，并且中心部分可為從有機層21b除去邊緣部分的區域。
[0074]覆蓋膜30可設置在有機層21b的邊緣部分上。也就是說，覆蓋膜30可設置成與邊緣部分至少部分疊置。也就是說，覆蓋膜30可部分或全部覆蓋邊緣部分，但是本發明的各個方面不限于此。在另一示例性實施例中，在覆蓋膜30覆蓋邊緣部分的狀態下，覆蓋膜30可朝向有機層的中心部分或與其相鄰的像素限定膜40延伸預定距離。
[0075]圖7是示出根據本發明的另一實施例的有機發光顯示裝置的平面圖，并且圖8是沿圖7中的線11-11’截取的剖視圖。
[0076]參照圖7和圖8，根據本實施例的有機發光顯示裝置103與根據圖1中示出的先前實施例的有機發光顯示裝置100的不同之處在于除了有機層21、22和23的中心部分之外，覆蓋膜完全覆蓋有機層21、22和23。
[0077]如上所述，覆蓋有機層21、22和23的邊緣部分的覆蓋膜31可朝向與其相鄰的像素限定膜40延伸。如果覆蓋膜31連續延伸，則覆蓋膜31可連接到覆蓋設置在相鄰像素處的有機層2la、22a和23a的邊緣部分的覆蓋膜31。也就是說，如圖8中所示，第一像素51的覆蓋的一個邊緣部分可延伸達到基底10的一側。為了便于解釋，在圖8中，設置在有機層21、22和23中的每個有機層的左側的邊緣部分用一個邊緣部分表示，設置在有機層21、22和23中的每個有機層的右側的邊緣部分用用另一邊緣部分表示。另外，覆蓋第一像素51的另一邊緣部分的覆蓋膜31可連接到覆蓋第二像素52的一個邊緣部分的覆蓋膜31，從而完全覆蓋設置在第一像素51和第二像素52之間的像素限定膜40。同樣，覆蓋第二像素52的另一邊緣部分的覆蓋膜31可連接到覆蓋第三像素53的一個邊緣部分的覆蓋膜31，從而完全覆蓋設置在第二像素52和第三像素53之間的像素限定膜40。
[0078]換言之，覆蓋膜31可覆蓋在其上設置有多個像素51、52和53的基底10的整個區域，除了位于多個像素51、52和53上的有機層21、22和23的中心部分。
[0079]圖9是示出根據本發明另一實施例的有機發光顯示裝置的剖視圖。
[0080]參照圖9，根據本實施例的有機發光顯示裝置104與根據圖1中示出的先前實施例的有機發光顯示裝置100的不同之處在于像素限定膜40完全暴露第一電極42。
[0081]在示例性實施例中，像素限定膜40可完全暴露第一電極42。在這種情況下，第一電極42和像素限定膜40可相互分隔開預定距離。
[0082]如上所述，有機層24、25和26可設置在第一電極42上。在示例性實施例中，有機層24、25和26可完全覆蓋第一電極42。另外，完全覆蓋第一電極42的有機層24、25和26可與相鄰于第一電極42的像素限定膜40接觸。
[0083]如上所述，有機層24、25和26中的每個有機層可包括邊緣部分和中心部分。在根據本實施例的有機發光顯示裝置104中，中心部分(圖9中的區域c4)可為有機層24、25和26中的每個有機層的與與其相鄰的第一電極42疊置的區域，并且邊緣部分(圖9中的區域e4)可為從有機層24、25和26中的每個除去中心部分之外的區域。
[0084]覆蓋膜30可部分或全部覆蓋有機層24、25和26中的每個的邊緣部分。換言之，覆蓋膜30可設置成與有機層24、25和26的邊緣部分部分或全部疊置，但是本發明的各個方面不限于此。在覆蓋膜30覆蓋邊緣部分的狀態下，覆蓋膜30可朝向與其相鄰的像素限定膜40的中心部分延伸預定距離。
[0085]如上所述，有機層24、25和26中的每個有機層可包括發光區域。在示例性實施例中，有機層24、25和26中的每個有機層的發光區域可基本等于或小于有機層24、25和26中的每個有機層與第一電極42疊置的區域。換言之，從圖9的剖視圖看，發光區域的寬度可等于或小于有機層24、25和26中的每個有機層與第一電極42疊置的寬度。
[0086]在下文中，將參照圖10至圖14來描述根據本發明實施例的制造發光顯示裝置的方法。圖10至圖14是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法的剖視圖。具體地講，圖10是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中的準備基底10的步驟的剖視圖，基底10包括位于其上的第一電極41和位于第一電極41上并至少部分暴露第一電極41的像素限定膜40。圖11是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中的在第一電極41上圖案化有機層21、22和23的步驟的剖視圖，其中，有機層21、22和23均具有中心部分和邊緣部分。圖12是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中的使施主基底(donor substrate)200位于基底10上方的步驟的剖視圖。圖13是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中的在施主基底200上照射激光的步驟的剖視圖。圖14是示出根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中的將覆蓋膜30設置在基底10上的步驟的剖視圖。
[0087]根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法包括:準備基底10，基底10包括位于其上的第一電極41和位于第一電極41上并至少部分暴露第一電極41的像素限定膜40 ;在第一電極41上將有機層21、22和23圖案化，有機層21、22和23均具有中心部分和邊緣部分；將覆蓋膜30設置在基底10上且覆蓋膜30與有機層21、22和23中的每個有機層的邊緣部分至少部分疊置。
[0088]參照圖10，準備基底10，基底10包括位于其上的第一電極41和位于第一電極41上并至少部分暴露第一電極41的像素限定膜40。基底10、第一電極41和像素限定膜40可與以上描述的根據本發明的一些實施例的有機發光顯不裝置中的每個中的基底、第一電極和像素限定膜基本相同，將省略對它們的詳細描述。
[0089]參照圖11，均具有中心部分和邊緣部分的有機層21、22和23在第一電極41上被圖案化。在第一電極41上圖案化有機層21、22和23的方法不限于這里示出的方法。可以以各種方式在第一電極41上將有機層21、22和23圖案化。
[0090]均具有中心部分和邊緣部分的有機層21、22和23可與以上描述的根據本發明的一些實施例的有機發光顯示裝置中的每個的有機層基本相同，并將省略對它們的詳細描述。
[0091]接下來，可設置與有機層21、22和23中的每個有機層的邊緣部分至少部分疊置的覆蓋膜30。可通過激光誘導熱成像(LITI)形成覆蓋膜30，現將參照圖12至圖14對此進行詳細描述。
[0092]設置與有機層21、22和23中的每個有機層的邊緣部分至少部分疊置的覆蓋膜30可包括:使施主基底200位于基底10上方以面向基底10的第一電極41，施主基底200包括基層201、位于基層201上的光熱轉換層202以及位于光熱轉換層202上的轉印層203 ；通過將激光照射到施主基底200上將轉印層203轉印到基底10的像素限定膜40上。在根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中，可通過激光誘導熱成像(LITI)來形成覆蓋膜30。
[0093]參照圖12，在有機層21、22和23形成在基底10上之后，施主基底200可位于基底10上。圖9示出了施主基底200和基底10相互分隔開，但是本發明的各個方面不限于此。可選擇地，施主基底200和基底10可相互接觸，然后層疊。
[0094]施主基底200可包括基層201、光熱轉換層202和轉印層203。
[0095]基層201可由透明聚合物制成，并且透明聚合物的可使用示例可包括諸如聚對苯二甲酸乙二醇酯的聚酯、聚丙烯酸酯、聚環氧樹脂(polyepoxy)、聚乙烯或聚苯乙烯。具體地講，通常可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯膜作為透明聚合物。另外，可使用玻璃作為基層201。基層201應該具有作為支撐膜的光學性能和機械穩定性。基層201的厚度范圍可為10 μ m至 500 μ m。
[0096]基層201可對應于基底10成形。在不例性實施例中，基層201的一個表面的形狀和面積可與基底10的一個表面的形狀和面積相同。在另一示例性實施例中，基層201可大到足以覆蓋基底10。
[0097]光熱轉換層202可位于基層201上。光熱轉換層202是吸收紅外-可見光范圍內的光的層并將所述光中的一些轉換成熱。光熱轉換層202應該具有光學密度并包括吸光材料。光熱轉換層202的示例可包括含有氧化鋁或硫化鋁作為吸光材料的金屬層以及含有炭黑、石墨或紅外染料作為吸光材料的聚合有機層。這里，利用真空沉積、電子束沉積或濺射將有機層優選地形成為厚度范圍力100 A至5000 A。利用諸如輥涂法、凹面涂覆法、
擠壓涂覆法、旋涂法或刮涂法的通用膜涂覆方法將有機層優選地形成為厚度范圍為0.1 μ m至 10 μ m。
[0098]盡管未示出，但是施主基底200可包括第一中間層和第一緩沖層。
[0099]第一中間層可位于光熱轉換層202和轉印層203之間。第一中間層可防止包含在光熱轉換層202中的吸光材料(例如，炭黑)污染在后續工藝中形成的轉印層203。第一中間層可由丙烯酸樹脂或醇酸樹脂制成。可通過通用涂覆步驟(諸如，溶劑涂覆)和紫外(UV)固化步驟來執行第一中間層的形成。
[0100]當第一緩沖層形成在光熱轉換層202和轉印層203之間時，或者當設置第一中間層時，第一緩沖層可位于第一中間層和轉印層203之間。第一緩沖層可防止形成在轉印層203上的有機層被損壞。當第一緩沖層形成在光熱轉換層202和轉印層203之間時，或者當設置第一中間層時，第一緩沖層可有效地調整第一中間層和轉印層203之間的粘合。第一緩沖層可包括絕緣材料、金屬和金屬氧化物中的至少一種。
[0101]轉印層203可位于光熱轉換層202上。轉印層203可包括與有機層21、22和23的材料基本相同的材料，并且可具有與有機層21、22和23基本相同的堆置結構。
[0102]施主基底200可位于基底10上方以使轉印層203面向基底10的第一電極41。
[0103]參照圖13，在使施主基底200位于基底10上方之后，可朝向施主基底200照射激光。具體地講，激光可被照射到施主基底200的區域上，所述區域與有機層21、22和23的邊緣部分對應并垂直地位于與邊緣部分相鄰的像素限定膜40的上方，然而，這僅是出于示出的目的，而本發明并不將激光照射位置限制為這里示出的位置。也就是說，激光照射位置可根據設置的覆蓋膜30的位置而改變。
[0104]參照圖14，通過激光照射可在有機層21、22和23的邊緣部分和像素限定膜40上形成覆蓋膜30。圖14示出了覆蓋膜30形成在有機層21、22和23的邊緣部分和與有機層相鄰的像素限定膜40上。然而，本發明并不是將覆蓋膜30的形成位置限定為這里示出的位置。如以上關于根據本發明的一些實施例的有機發光顯示裝置所描述的，覆蓋膜30可朝向有機層21、22和23中的每個的中心部分或與有機層相鄰的像素限定膜40延伸。
[0105]在根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中，在形成覆蓋膜30的過程中使用基于LITI的轉印方法，但是本發明并不將形成覆蓋膜30的步驟限制為這里示出的步驟。也就是說，在根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中，除了基于LITI的轉印法之外，用于形成覆蓋膜30的轉印法可包括輻射誘導升華轉印(RIST)法和激光誘導圖案升華(LIPS, a laser induced pattern-wise sublimat1n)法。
[0106]在下文中，將描述根據本發明的另一實施例的制造有機發光顯示裝置的方法。
[0107]根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法與圖10至圖14中示出的根據先前實施例的制造有機發光顯示裝置的方法的不同之處在于將覆蓋膜30設置成與有機層
21、22和23的邊緣部分至少部分疊置的步驟包括在有機層21、22和23上印刷圖案。
[0108]在根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中，可以以各種印刷方法來執行覆蓋膜30的形成。印刷法的非限制性示例可包括噴墨印刷法、噴嘴印刷法、凸版印刷法等。然而，本發明并不將印刷法限于這里列出的方法。
[0109]在根據本發明實施例的制造有機發光顯示裝置的方法中，將覆蓋層30設置成與有機層21、22和23的邊緣部分至少部分疊置可包括利用沉積形成覆蓋膜30。
[0110]沉積的非限制性示例可包括真空沉積、電子束沉積和濺射。另外，在形成覆蓋膜30的過程中可使用精細金屬掩模(FMM)。此外，可通過小掩模掃描(SMS)來形成覆蓋膜30。
[0111]盡管已經參照本發明的示例性實施例具體地示出并描述了本發明，但是本領域的普通技術人員將理解的是，在不脫離如權利要求限定的本發明的精神和范圍的情況下，可在此在形式和細節上做出各種改變。因此，期望的是，當前實施例在所有方面被認為是示出性的而不是限制性的，是對權利要求進行解釋說明，而不是說以上描述表示本發明的范圍。
【權利要求】
1.一種有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置包括: 基底； 第一電極，位于基底上； 像素限定膜，位于基底上并至少部分暴露第一電極； 有機層，位于第一電極上并具有中心部分和邊緣部分；和 覆蓋膜，與有機層的邊緣部分至少部分疊置。
2.根據權利要求1所述的有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置還包括設置在有機層上的第二電極， 其中，覆蓋膜的至少一部分與相鄰于覆蓋膜的像素限定膜疊置并朝向像素限定膜延伸，所述中心部分包括發光區域。
3.根據權利要求1所述的有機發光顯示裝置，其中，有機層的中心部分和邊緣部分具有不均勻的厚度。
4.根據權利要求1所述的有機發光顯示裝置，其中，覆蓋膜由非導電材料制成。
5.根據權利要求1所述的有機發光顯示裝置，其中，覆蓋膜包括氧化硅和氮化硅中的至少一種。
6.一種有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置包括: 基底； 第一電極，位于基底上； 多個像素，暴露第一基底的至少部分； 有機層，位于所述多個像素中的每個像素上；和 覆蓋膜，沿所述多個像素的邊緣設置。
7.根據權利要求1所述的有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置還包括設置在有機層上的第二電極， 其中，有機層包括中心部分和邊緣部分，并且覆蓋膜覆蓋邊緣部分， 其中，中心部分包括發光區域。
8.根據權利要求6所述的有機發光顯示裝置，其中，所述多個像素以矩陣結構布置，并且覆蓋膜沿所述多個像素的邊緣設置。
9.根據權利要求6所述的有機發光顯示裝置，其中，覆蓋膜由非導電材料制成。
10.根據權利要求6所述的有機發光顯示裝置，其中，覆蓋膜包括氧化硅和氮化硅中的至少一種。
【文檔編號】H01L21/77GK104183617SQ201310655344
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2013年12月5日 優先權日:2013年5月28日
【發明者】辛慧媛 申請人:三星顯示有限公司