用于制造平板顯示器的設備的制作方法

專利名稱：用于制造平板顯示器的設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于制造平板顯示器的設備，并且更特別地，涉及一種有機薄膜可以淀積在用于有機發光顯示器的平板上的用于制造平板顯示器的設備。
背景技術：
在制造平板顯示器(FPD)的工藝中，多次重復進行諸如用于在基板上淀積薄膜的淀積工藝的基板處理工藝；光刻工藝；蝕刻工藝；用于去除在所述工藝中產生的殘余物的洗漆、干燥等清潔工藝；各種表面處理工藝；等等。每個工藝在處理室(processchamber, PM)中進行。這種處理室與傳遞室一起構成群集(cluster)。在一般群集中，多個處理室連接到一個傳遞室。就是說，該群集通常包括:處理室，在該處理室中進行基板處理工藝；和傳遞室，通過該傳遞室從處理室傳遞已處理的基板。同時,存在一種用于有機發光顯示(organic light emitting display, 0LED)器的平板，該平板作為可以制造成具有前述結構的常規群集的其中一種平板。有機發光顯示器是使用以下原理的自發光顯示器:當電流在熒光或磷光有機薄膜中流動時，在電子和空穴在有機層中結合時發出光線。隨著最近智能電話的廣泛傳播，用于以低功率操作的有機發光顯示器的平板的使用已經增加。因此，提高用于有機發光顯示器的平板的生產率的需求增加。在制造用于有機發光顯示器的平板時，在基板上淀積有機薄膜的淀積工藝是必要的。為進行淀積工藝，必須預先進行基板傳遞到處理室中的工藝、掩模與基板對齊的工藝等等。然而，常規制造設備不可能在傳遞基板和對齊掩模時進行該淀積工藝。換句話說，由于淀積工藝與傳遞基板的工藝和對齊掩模的工藝分別進行，存在整個工藝時間增加的問題。

發明內容
因此，本發明用于解決前述問題，并且本發明的一方面提供一種用于制造平板顯示器的設備，其中一個處理室容納兩個基板，因此在另一個基板進行淀積工藝時一個基板被傳遞且對齊，從而最小化在基板上淀積有機薄膜的總工藝時間。根據本發明的一方面，提供一種用于制造平板顯示器的設備，該設備包括:多個形成有內部空間的處理室，在所述內部空間中處理至少兩個基板；傳遞室，該傳遞室沿第一方向布置在所述多個處理室之間，并且所述傳遞室包括傳遞機器人，該傳遞機器人在沿垂直于所述第一方向的第二方向直線往復運動時將未處理的基板供給所述處理室或者從所述處理室運出已處理的基板；加載室，該加載室連接到所述傳遞室的一側并且容納將要供給所述傳遞室的基板；以及卸載室，該卸載室連接到所述傳遞室的另一側并且容納從所述傳遞室運出的基板，所述傳遞機器人在沿所述第二方向直線往復運動時控制所述基板順序地供給所述處理室或者從所述處理室運出，并且在所述處理室中，一個基板受到處理氣體的淀積，并且同時沿所述第二方向被傳遞且對齊另一個基板。
處理室可以包括:本體構件，該本體構件具有內部空間，該內部空間包括第一區域和鄰近所述第一區域的第二區域，并且所述本體構件在一側打開以與所述傳遞室連通；支撐單元，該支撐單元分別安裝在所述第一區域和所述第二區域中，以支撐和對齊傳遞到所述本體構件的基板；淀積源，該淀積源布置在所述本體構件的內部空間中并且將處理氣體噴射到基板上；驅動單元，該驅動單元驅動所述淀積源沿所述第二方向直線往復運動；以及控制器，該控制器控制所述驅動單元，以驅動所述淀積源在所述第一區域和所述第二區域之間往復運動。所述控制器可以控制所述驅動單元，以重復在所述第一區域內沿所述第二方向從所述第一區域的初始位置移動所述淀積源時處理一個基板的工藝以及在所述第二區域內沿所述第二方向朝向所述第二區域移動所述淀積源并返回所述初始位置時處理另一個基板的工藝，以及在所述第一區域的基板和所述第二區域的基板都被處理之后，所述傳遞機器人可以從所述第一區域和所述第二區域運出已處理的基板，并且將新的基板供給所述第一區域和所述第二區域。所述控制器可以控制所述驅動單元，以重復在所述淀積源沿所述第二方向順序地移動到所述第一區域和所述第二區域時處理所述第一區域中的基板和所述第二區域中的基板的工藝以及在所述淀積源沿所述第二方向順序地移動到所述第二區域和所述第一區域時處理所述第二區域中的基板和所述第一區域中的基板的工藝，以及在處理所述第一區域中的基板之后并且正在處理所述第二區域中的基板時，所述傳遞機器人可以從所述第一區域運出已處理的基板并且將新的基板供給所述第一區域，然后在處理所述第二區域中的基板之后并且正在處理所述第一區域中的基板時，所述傳遞機器人可以從所述第二區域運出已處理的基板并且將新的基板供給所述第二區域。所述傳遞機器人可以通過所述傳遞室將基板從所述加載室供給所述多個處理室中的第一處理室，通過所述傳遞室將在所述第一處理室中完成處理的基板從所述第一處理室運出且供給所述多個處理室中的第二處理室，并且通過所述傳遞室將在所述第二處理室中完成處理的基板從所述第二處理室運出到所述卸載室。所述淀積源可以包括分別對應于將同時淀積的一種或者多種材料的一個或者多個蒸發源。所述淀積源可以布置為多個并且沿所述第二方向間隔開。所述多個處理室可以彼此間隔開并且沿所述第二方向布置在所述傳遞室的橫向側。所述傳遞室可以包括兩個傳遞機器人，并且所述傳遞機器人可以沿第一方向彼此間隔開并且布置成沿第二方向直線往復運動。


結合附圖從下面對示例性實施例的描述，本發明的上述和/或其它方面將變得顯而易見且更容易理解，其中:圖1是示意性地示出根據示例性實施例的用于制造平板顯示器的設備的平面圖；圖2是示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的內部的側視圖；圖3示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的外部；
圖4a_圖4g示出在用于制造圖1的平板顯示器的設備中處理基板的同時傳遞基板的順序進行的工藝；圖5示意性地示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的另一個例子；圖6是示意性地示出根據本發明的另一個示例性實施例的用于制造平板顯示器的設備的平面圖；以及圖7是示意性地示出根據本發明的示例性實施例的用于制造平板顯示器的設備的平面圖。
具體實施例方式下面，將參考附圖詳細描述根據本發明的用于制造平板顯示器的設備的示例性實施例。圖1是示意性地示出根據示例性實施例的用于制造平板顯示器的設備的平面圖，圖2是示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的內部的側視圖，圖3示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的外部，圖4a-圖4g示出在用于制造圖1的平板顯示器的設備中處理基板的同時傳遞基板的順序進行的工藝，以及圖5示意性地示出用于制造圖1的平板顯示器的設備中的處理室的另一個例子。參考圖1-圖5，根據實施例的用于制造平板的設備100包括處理室110、傳遞室120、加載室130和卸載室140，對于用于有機發光顯示器的平板在其中可以執行有機薄膜的淀積處理。處理室110形成有用于處理至少兩個基板10的內部空間，從而處理基板10。在處理室110中，用于制造有機發光顯示器所需的有機薄膜淀積在基板10上。傳遞室120與多個處理室110連接且沿第一方向LI放置在多個處理室110之間。傳遞室120包括傳遞機器人123,該傳遞機器人沿垂直于第一方向LI的第二方向L2往復運動，同時將未處理的基板10供給處理室110或從處理室110運出已處理的基板10。傳遞室120可以保持為真空。下面將描述這個傳遞室120。加載室130連接到傳遞室120的一側且容納將供給傳遞室120的未處理的基板
10。加載室130的內部空間容納多個基板10，將在處理室110中進行的處理工藝還未施加于該多個基板10，并且該多個基板10在加載室130中處于準備狀態。卸載室140連接到傳遞室120的另一側且容納完成處理且從傳遞室120中運出的基板10。卸載室140的內部空間容納多個基板10，該多個基板在卸載室140中處于準備狀態，以便在前一個處理室110中處理后在后一個處理室110中處理。根據本發明的實施例，用于制造平板顯示器的設備100的處理室110對至少兩個基板10進行處理。而且，處理室110設置為沿第一方向LI供給和運出至少兩個基板10，使得處理氣體可以淀積在一個基板10上，同時可以沿垂直于第一方向LI的第二方向L2傳遞和對齊另一個基板10。為此目的，處理室110貫穿形成有至少兩個開口 115，每個開口 115大到基板10可以穿過。參考圖2和3，處理室110包括本體構件111、支撐單元112、淀積源113、驅動單元114和控制器(未示出)。本體構件111形成有內部空間。內部空間包括第一區域A和鄰近第一區域A的第二區域B。這里，第一區域A和第二區域B可以分別對應于當本體構件11的內部空間精確地豎直分成兩半時的空間。如上面描述的，本體構件111可以在一側形成有至少兩個開口115。開口 115可以平行地布置在離本體構件111的底部的相同高度。通過開口 115，基板10可以進入和離開傳遞室120。支撐單元112支撐和對齊傳遞到本體構件111中的基板10。這里，一個支撐單元112放置在第一區域A中，并且另一個支撐單元112放置在第二區域B中。兩個支撐單元112可以沿第二方向L2布置成盡可能彼此靠近。這將通過減小支撐單元112占據的空間最小化處理室110的尺寸，并且通過最小化驅動單元114運行的行程而允許驅動單元114(將在后面描述)快速地傳遞，將淀積源113從第一區域A移動到第二區域B。如果在支撐單元112之間存在許多空間或者如果存在淀積源113停留一定時間段的空間，由于處理室110的尺寸增加到與該空間一樣大的空間，則生產成本可能增加，并且由于基板的處理延遲與驅動單元114驅動淀積源113穿過該空間的時間一樣長的時間，處理基板花費的時間可能增加。相反，根據本發明的示例性實施例，用于制造平板顯示器的設備100的處理室110在支撐單元112之間沒有浪費的空間，使得淀積源113可以在第一區域A和第二區域B之間快速移動，因此快速實現處理氣體的淀積處理。淀積源113放置在本體構件111的內部空間中并且將處理氣體噴射在基板10上。例如，淀積源113可以是線性淀積源113。在這個示例性實施例中，從淀積源113噴射出的處理氣體是用于制造有機發光顯示器的有機材料。參考圖2，單個淀積源113放置在本體構件111的內部空間中，但不限于此。替代地，如圖5中所示，多個淀積源113可以放置在處理室110’中并且沿第二方向L2間隔開。相應的淀積源113在相同時間噴射處理氣體，因此增加噴射在處理室110’中的處理氣體的量，從而縮短淀積處理花費的時間。而且,每個淀積源113可以包括一個或多個蒸發源(evaporation sources) 113a,該一個或多個蒸發源113a分別容納一種或多種材料，以便在處理室110’中將一種或多種材料同時淀積在基板10上。從相應的蒸發源113a噴射的材料混合以構成處理氣體。驅動單元114驅動淀積源113沿第二方向L2直線往復運動。例如，驅動單元114可以包括線性電機和直線運動引導件。線性電機提供驅動力以使淀積源113直線往復運動，并且淀積源113接收驅動力并且沿直線運動弓I導件在第二方向L2上直線往復運動。這種構造對于本領域技術人員來說是熟知的，并且省略其詳細描述。控制器控制驅動單元114，以驅動淀積源113在第一區域A和第二區域B之間往復運動。控制器控制驅動單元114，以在一個基板10在第一區域A中通過淀積源113處理之后，沒有停留地將淀積源113移動到第二區域B，并且在另一個基板10在第二區域B中通過淀積源113處理之后，沒有停留地將淀積源113返回到第一區域A。因此，控制器可以快速地處理兩個基板10，而在淀積源113通過驅動單元114在第一區域A和第二區域B之間移動時沒有延遲時間。參考圖1，傳遞室120包括傳遞機器人123，該傳遞機器人123沿第二方向直線往復運動并且傳遞基板10，并且傳遞機器人123包括傳遞單元121和機器人手臂122。傳遞單元121沿第二方向L2直線往復運動。傳遞單元121在加載室130和卸載室140之間直線往復運動。
機器人手臂122在傳遞單元121上可旋轉地連接到傳遞單元121，并且沿第一方向LI將基板10供給處理室110或沿第一方向LI從處理室110運出基板10。在基板10安置在機器人手臂122的頂部上的狀態中，機器人手臂122滑動運動，以將基板10供給處理室110或從處理室110運出基板10。通過具有這種構造的傳遞室120，基板10可以在處理室110中同時處理、供給和運出。傳遞機器人123在沿第二方向L2直線往復運動時，允許基板10順序地供給處理室110或從處理室110運出。傳遞機器人123通過處理室110的一個開口 115傳遞已處理的基板10和未處理的基板10，沿第二方向L2直線往復運動以改變在傳遞室120中的位置，并且通過另一個開口 115傳遞已處理的基板10和未處理的基板10。就是說，傳遞機器人123在傳遞室120內重復地直線往復運動并且與處理室110交換基板10。下面將描述通過控制器和傳遞機器人123處理基板10的方法。根據示例性實施例，控制器控制驅動單元114，以重復在第一區域A內沿第二方向L2從第一區域A的初始位置移動淀積源113時處理一個基板10的工藝以及在第二區域B內沿第二方向L2朝向第二區域B移動淀積源113并返回初始位置時處理另一個基板10的工藝。這里，第一區域A的初始位置指的是第一區域A中的鄰近處理室110的側壁的位置，以作為在第一區域A內開始基板10的淀積的位置。這時，在第一區域A的基板和第二區域B的基板都被處理之后，傳遞機器人123從第一區域A和第二區域B運出已處理的基板10，并且將新的基板供給第一區域A和第二區域B。在完成所有基板10的處理之后，順序進行已處理的基板10的運出和新的基板10的供給。根據另一個示例性實施例，控制器控制驅動單元114，以重復在淀積源113沿第二方向L2順序地移動到第一區域A和第二區域B時處理第一區域A中的基板和第二區域B中的基板的工藝以及在淀積源113沿第二方向L2順序地移動到第二區域B和第一區域A時處理第二區域B中的基板和第一區域A中的基板的工藝。這時，傳遞機器人123在處理第一區域A中的基板之后，從第一區域A運出已處理的基板10并且將新的基板10供給第一區域A，同時處理第二區域B中的基板，然后在處理第二區域B中的基板之后，從第二區域B運出已處理的基板10并且將新的基板10供給第二區域B，同時處理第一區域A中的基板。以如下方式同時進行基板的處理和傳遞，即一個基板10完成處理并且在處理另一個基板10時供給新的基板10，使得每單位時間處理的基板的數量可以多于設置在用于制造平板顯示器的傳統設備中的處理室處理的基板的數量，從而提高生產率。通過這種構造，將參考圖1-圖5描述根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備100的操作。如果處理室110的第一區域A中的基板IOb如圖4a中所示通過淀積源113完成處理，則放置在加載室130中的未處理的基板IOa如圖4b中所示通過傳遞機器人123傳遞到處理室110。在第一區域A中完成處理的基板IOb通過傳遞機器人123向外運出，并且將被處理的基板IOa被安置在第一區域A的支撐單元112中。支撐單元112與掩模對齊，使得從淀積源113噴射出的處理氣體可以均勻地淀積在基板10上。同時，淀積源113通過驅動單元114快速移動到第二區域B并且當在第二區域B內直線往復運動時噴射將要淀積在基板10上的處理氣體。此外，如圖4c和圖4d中所示，傳遞機器人123將基板10傳遞到卸載室140以便將其運出。如圖4e到圖4g中所示，傳遞機器人123移動到加載室130并且當基板IOb在第二區域B中處理時將基板IOa傳遞到第二區域B，運出在第二區域B中完成處理的基板10b，以及將需要處理的基板IOa供給第二區域B。就是說，淀積源113在第一區域A和第二區域B之間往復運動時連續地處理基板10a，并且放置在加載室130中的基板IOa通過傳遞機器人123交替地供給處理室110的第一區域A和第二區域B。這些操作不斷地重復。在這個示例性實施例中，在處理室110中處理的基板10被傳遞到卸載室140，但不限于此。替代地，在一個處理室110中處理的基板10被傳遞到另一個處理室110并且在另一個處理室110中處理，然后被傳遞到卸載室140。就是說，基板10通過傳遞室120從加載室130供給多個處理室110中的第一處理室110(例如，放置在傳遞室的右側的處理室)，并且在第一處理室110中完成處理的基板10從第一處理室Iio運出并且通過傳遞室120供給多個處理室110中的第二處理室110 (例如，放置在傳遞室的左側的處理室)。然后，在第二處理室110中完成處理的基板10通過傳遞室120從第二處理室110運出到卸載室140。如上所述，在根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備100中，一旦對基板10完成處理，淀積源113就沒有延遲地從第一區域A移動到第二區域B，并且連續地處理第二區域B中的另一個基板10，從而縮短處理時間并且提高生產率。而且，如上所述，在根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備100中，兩個支撐單元112布置成在它們之間留下較小的空間，使得處理室110即使容納兩個基板10也可以最小化，因此減小處理室110的制造成本。同時，參考圖6，根據另一個示例性實施例的用于制造平板顯示器的設備200包括多個處理室110，該多個處理室110布置在傳遞室120的橫向側并且沿第二方向L2彼此間隔開。通過這種構造，單位時間內可以處理更多基板，因此生產率可以比用于制造平板顯示器的圖1的設備100的生產率進一步提高。在存在多個處理室IlOa的情況下，傳遞室120可以包括如圖7中所示的兩個傳遞機器人123，并且傳遞機器人123沿第一方向LI彼此間隔開并布置成沿第二方向L2直線往
復運動。一個傳遞機器人123將基板10供給連接到傳遞室120的一側的處理室IlOa或從處理室IlOa運出基板10，另一個傳遞機器人123將基板10供給連接到傳遞室120的另一側的處理室IlOb或從處理室IlOb運出基板10。通過這種構造，不僅可以提高從處理室110運出已處理的基板10的速度，而且可以提高將基板10供給處理室110的速度。在根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備中，同時進行基板的處理和傳遞，并且每單位時間可以處理更多基板，從而提高生產率。而且，在根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備中，處理室內的用于處理基板的兩個區域彼此鄰近，使得處理室的尺寸可以最小化，從而減小設備的總尺寸，并且傳遞淀積源的距離和時間可以減小，從而縮短總處理時間。此外，在根據本發明的實施例的用于制造平板顯示器的設備中，即使多個處理室成排布置，也能夠設置在處理室之間直線往復運動的傳遞機器人，使得處理室的數量和布置的各種組合可以根據工廠的內部情況構造。
雖然已經示出且描述了本發明的數個示例性實施例，本領域技術人員可以理解的是，在不偏離本發明的原理和精神的情況下，可以對這些實施例作出改變，本發明的范圍在所附權利要求和它們的等同物中限定。
權利要求
1.一種用于制造平板顯示器的設備，該設備包括: 多個形成有內部空間的處理室，在所述內部空間中處理至少兩個基板； 傳遞室，該傳遞室沿第一方向布置在所述多個處理室之間，并且所述傳遞室包括傳遞機器人，該傳遞機器人在沿垂直于所述第一方向的第二方向直線往復運動時將未處理的基板供給所述處理室或者從所述處理室運出已處理的基板； 加載室，該加載室連接到所述傳遞室的一側并且容納將要供給所述傳遞室的基板；以及 卸載室，該卸載室連 接到所述傳遞室的另一側并且容納從所述傳遞室運出的基板，所述傳遞機器人在沿所述第二方向直線往復運動時控制所述基板順序地供給所述處理室或者從所述處理室運出，并且 在所述處理室中，一個基板受到處理氣體的淀積，并且同時沿所述第二方向傳遞和對齊另一個基板。
2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述處理室包括: 本體構件，該本體構件具有內部空間，該內部空間包括第一區域和鄰近所述第一區域的第二區域，并且所述本體構件在一側打開以與所述傳遞室連通； 支撐單元，該支撐單元分別安裝在所述第一區域和所述第二區域中，以支撐和對齊傳遞到所述本體構件的基板； 淀積源，該淀積源布置在所述本體構件的所述內部空間中并且將處理氣體噴射到基板上； 驅動單元，該驅動單元驅動所述淀積源沿所述第二方向直線往復運動；以及控制器，該控制器控制所述驅動單元，以驅動所述淀積源在所述第一區域和所述第二區域之間往復運動。
3.根據權利要求2所述的設備，其中，所述控制器控制所述驅動單元，以重復在所述第一區域內沿所述第二方向從所述第一區域的初始位置移動所述淀積源時處理一個基板的工藝以及在所述第二區域內沿所述第二方向朝向所述第二區域移動所述淀積源并返回所述初始位置時處理另一個基板的工藝，以及 在所述第一區域的所述基板和所述第二區域的所述基板都被處理之后，所述傳遞機器人從所述第一區域和所述第二區域運出已處理的基板，并且將新的基板供給所述第一區域和所述第二區域。
4.根據權利要求2所述的設備，其中，所述控制器控制所述驅動單元，以重復在所述淀積源沿所述第二方向順序地移動到所述第一區域和所述第二區域時處理所述第一區域中的所述基板和所述第二區域中的所述基板的工藝以及在所述淀積源沿所述第二方向順序地移動到所述第二區域和所述第一區域時處理所述第二區域中的所述基板和所述第一區域中的所述基板的工藝，以及 在處理所述第一區域中的所述基板之后并且正在處理所述第二區域中的所述基板時，所述傳遞機器人從所述第一區域運出已處理的基板并且將新的基板供給所述第一區域，然后在處理所述第二區域中的所述基板之后并且正在處理所述第一區域中的所述基板時，所述傳遞機器人從所述第二區域運出已處理的基板并且將新的基板供給所述第二區域。
5.根據權利要求1所述的設備，其中，所述傳遞機器人通過所述傳遞室將基板從所述加載室供給所述多個處理室中的第一處理室，通過所述傳遞室將在所述第一處理室中完成處理的基板從所述第一處理室運出且供給所述多個處理室中的第二處理室，并且通過所述傳遞室將在所述第二處理室中完成處理的基板從所述第二處理室運出到所述卸載室。
6.根據權利要求2所述的設備，其中，所述淀積源包括分別對應于將同時淀積的一種或者多種材料的一個或者多個蒸發源。
7.根據權利要求6所述的設備，其中，所述淀積源布置為多個并且沿所述第二方向間隔開。
8.根據權利要求1所述的設備，其中，所述多個處理室彼此間隔開并且沿所述第二方向布置在所述傳遞室的橫向側。
9.根據權利要求8所述的設備，其中，所述傳遞室包括兩個傳遞機器人，并且 所述傳遞機器人沿所述第一方向彼此間隔開并且布置成沿所述第二方向直線往復運動。`
全文摘要
本發明公開了一種用于制造平板顯示器的設備，該設備包括多個處理室、傳遞室、加載室和卸載室。所述多個處理室均形成有內部空間，在該內部空間中處理至少兩個基板。所述傳遞室沿第一方向布置在多個處理室之間，并且所述傳遞室包括傳遞機器人，該傳遞機器人在沿垂直于第一方向的第二方向直線往復運動時將未處理的基板供給處理室或者從處理室運出已處理的基板。所述加載室連接到傳遞室的一側并且容納將要供給傳遞室的基板。所述卸載室連接到傳遞室的另一側并且容納從傳遞室運出的基板。所述傳遞機器人在沿第二方向直線往復運動時控制基板順序地供給處理室或者從處理室運出。
文檔編號H01L21/77GK103107132SQ20121044824
公開日2013年5月15日 申請日期2012年11月9日 優先權日2011年11月11日
發明者李亨培, 趙晃新, 安祐正, 宋基哲 申請人:Snu精密股份有限公司