專利名稱：晶圓干燥設備及其形成方法
技術領域：
本發明涉及半導體制造技術領域，尤其涉及一種晶圓干燥設備及其形成方法。
背景技術：
在半導體器件的制造工藝中，清洗是其中最重要和最頻繁的步驟之一。而在晶圓清洗之后，為了避免晶圓上殘留的水分或殘留清洗液對后續工藝的影響，一般都會將晶圓放入干燥設備中進行干燥。請參考圖1，現有技術的干燥設備，通常為旋轉式干燥設備，包括干燥腔體100，位于干燥腔體100頂壁的開口 130，用于為晶圓放入干燥腔體100 提供通道；位于所述干燥腔體100側壁的旋轉頭110，工作狀態下，所述旋轉頭110高速旋轉；安裝于旋轉頭110上、用于夾持晶圓150的晶圓架120，所述晶圓架120隨旋轉頭110的旋轉而旋轉；與所述開口 130對應的擋板140，所述擋板140在晶圓150夾持到晶圓架120后關閉，使干燥腔體100封閉。現有技術的晶圓干燥設備的成本高，質量較差。更多關于晶圓干燥設備的相關描述，請參考公開號為“CN201100825Y”的中國專利。
發明內容
本發明解決的問題是提供一種成本低、質量好的晶圓干燥設備及其形成方法。為解決上述問題，本發明的實施例公開了一種晶圓干燥設備，包括干燥腔體，所述干燥腔體的頂壁具有開口，用于為取出或放入晶圓至干燥腔體提供通道；位于所述干燥腔體側壁的旋轉裝置，所述旋轉裝置用于夾持晶圓高速旋轉，以甩干晶圓表面的液滴；與所述開口對應的擋板，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，所述活動擋板在取出或放入晶圓至干燥腔體時開啟，并且在放入晶圓至干燥腔體后關閉，使干燥腔體封閉；其特征在于，靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。可選地，所述基材層的材料為不銹鋼、鋁合金或聚酰亞胺。可選地，所述抗腐蝕涂層的材料為具有不粘性和抗濕性的材料。可選地，所述抗腐蝕涂層的材料為聚四氟乙烯。可選地，所述基材層的厚度為4毫米-6毫米，所述抗腐蝕涂層的厚度為O. 2毫米-O. 6毫米。可選地，所述基材層的材料為聚酰亞胺，所述抗腐蝕涂層的材料為聚四氟乙烯。可選地，所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板與干燥腔體側壁的夾角為30度-50度。相應的，發明人還提供了一種上述晶圓干燥設備的形成方法，包括提供干燥腔體，所述干燥腔體的頂壁具有開口，用于為取出或放入晶圓至干燥腔體提供通道，所述干燥腔體側壁形成有旋轉裝置，所述旋轉裝置用于夾持晶圓高速旋轉，以甩干晶圓表面的液滴；
形成與所述開口對應的擋板，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，其中，所述活動擋板在取出或放入晶圓至干燥腔體時開啟，并且在放入晶圓至干燥腔體后關閉，使干燥腔體封閉，靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。可選地，所述抗腐蝕涂層的形成工藝為噴涂工藝。可選地，形成靠近旋轉裝置一側的固定擋板時，在形成抗腐蝕涂層前，還包括使用有機溶劑清潔所述基材層表面；對清潔后的基材層加熱使所述有機溶劑完全揮發；采用噴砂處理的機械方式清潔基材層并使其表面毛糙。可選地，所述有機溶劑為苯或戊烷，所述加熱時的溫度為350攝氏度-450攝氏度。與現有技術相比，本發明的技術方案具有以下優點本發明實施例的晶圓干燥設備，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，其中靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板在運送、安裝或拆卸的過程中不易損壞，降低了使用該設備的成本。并且所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板整個表面具有抗腐蝕涂層，有效避免了所述固定擋板被化學藥品腐蝕，所述晶圓干燥設備的成本低、質量好。進一步的，所述抗腐蝕涂層的材料選擇疏水性材料，干燥腔體內的蒸汽不易在所述固定擋板表面匯聚成液滴，避免了干燥晶圓過程中在晶圓表面形成水潰，保證了晶圓后續工藝的進行。更進一步的，所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板與干燥腔體側壁的夾角為30度-50度，靠近旋轉裝置一側的固定擋板對其表面匯聚的液滴的附著力更小，液滴即使附著在所述固定擋板表面，也會順著所述固定擋板表面向下流動。避免了液滴直接滴回晶圓表面，在晶圓表面形成水潰。干燥晶圓的效果更好。并且，形成抗腐蝕涂層的工藝為噴涂工藝，形成的抗腐蝕涂層的厚度均勻，后續形成的晶圓干燥設備的抗腐蝕性能好。
圖I是現有技術的晶圓干燥設備的剖面結構示意圖；圖2是本發明實施例的晶圓干燥設備的剖面結構示意圖。
具體實施方式
正如背景技術所述，現有技術的晶圓干燥設備的成本高，質量較差。經過研究，發明人發現，現有技術的晶圓干燥裝置，其擋板采用成本高、且較易破碎的石英玻璃制成，工人在運送、安裝或拆卸過程中，極易將擋板損壞影響晶圓干燥裝置的正常工作。如果將晶圓干燥裝置的擋板換為不易破碎的材料，則可以大大降低成本，保證晶圓干燥裝置的正常工作。經過進一步研究，發明人發現，放入晶圓干燥裝置的晶圓，通常剛從清洗裝置中取出，所述從清洗裝置中取出的晶圓表面還殘留有清洗液，所述清洗液中除了具有大量的水分外，通常還包括氫氟酸(HF)。將表面殘留有上述清洗液的晶圓放入晶圓干燥裝置中，在旋轉頭的帶動下，晶圓架夾持晶圓高速旋轉，晶圓表面殘留的清洗液在高速旋轉過程中，受離心力的影響被甩出，落到擋板表面。為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明
的具體實施方式
做詳細的說明。請參考圖2，圖2為本發明實施例的晶圓干燥設備的剖面結構示意圖，包括干燥腔體200，所述干燥腔體200的頂壁具有開口(未標示)，用于為取出或放入晶圓250至干燥腔體200提供通道；位于所述干燥腔體200側壁的旋轉裝置210，所述旋轉裝置210用于夾持晶圓250高速旋轉，以甩干晶圓250表面的液滴；與所述開口對應的擋板220，所述擋板220包括位于所述開口兩側的固定擋板221,223和位于兩個固定擋板221、223之間的活動擋板225，所述活動擋板225在取出或放入晶圓250至干燥腔體200時開啟，并且在放入晶圓250至干燥腔體200后關閉，使干燥腔體200封閉；靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221包括不易破碎的基材層221a和覆蓋所述基材層221a整個表面的抗腐蝕涂層221b。其中，所述干燥腔體200用于為晶圓干燥提供場所。所述干燥腔體200具有開口，用于為取出或放入晶圓250至干燥腔體200提供通道。本發明的實施例中，采用機械手(未圖示)夾持晶圓250至干燥腔體200內，為便于機械手的操作，給機械手留足活動的空間，所述干燥腔體200的開口位于所述干燥腔體200的頂壁。并且，所述干燥腔體200外還安裝有傳感器(未圖示)，用于探測晶圓250。所述旋轉裝置210用于夾持晶圓250高速旋轉，以甩干晶圓250表面的液滴。所述旋轉裝置210主要由兩部分構成位于干燥腔體200側壁的旋轉頭211和安裝于旋轉頭211上的晶圓架213。其中，所述旋轉頭211與驅動電機(未圖示)電連接，用于在驅動電機的驅動下發生旋轉；所述晶圓架213邊緣處具有多個夾具(未標示)，例如4-8個，用于放置晶圓250至晶圓架213后，將晶圓250固定于晶圓架213上，隨后，晶圓250和晶圓架213隨旋轉頭211的旋轉而旋轉。為達到較好的干燥效果，晶圓甩干過程中，所述旋轉頭的旋轉速度為1000轉/分鐘-3000轉/分鐘。本發明的實施例中，所述晶圓架213的形狀與晶圓250的形狀相同，均為圓盤狀，所述晶圓架213的直徑大于等于所述晶圓250的直徑，且所述晶圓架213的邊緣處具有均勻分布的5個夾具。并且，為節省晶圓干燥設備的空間，并使晶圓干燥設備的干燥效果好，所述晶圓架213的中心與所述旋轉頭211的中心重合，所述旋轉頭211的轉速為1800轉/分鐘。所述擋板220的位置與所述開口的位置對應，用于在取出或放入晶圓250至干燥腔體200內的晶圓架213時開啟，并在放入晶圓250至干燥腔體200內的晶圓架213后關閉，使干燥腔體200封閉，以利于晶圓干燥設備的工作。本發明的實施例中，將擋板220設計為包括位于所述開口兩側的固定擋板221、223和位于兩個固定擋板221、223之間的活動擋板225，通過活動擋板225開啟或關閉，為取出或放入晶圓250至干燥腔體200提供通道。其中，所述固定擋板223直接固定在干燥腔體的側壁上，所述活動擋板225的定位裝置與汽缸的連接桿相結合，可以做打開和關閉動作。具體的，初始狀態下，所述活動擋板225開啟。當晶圓250傳送至干燥腔體200時，傳感器探測到晶圓250，然后發送關閉信號給電磁閥，在電磁閥的控制下，汽缸帶動活動檔板225做關閉動作；當晶圓250根據機臺程序設置的時間做完甩干動作之后，電磁閥接收到來自晶圓250甩干設備的打開信號，在電磁閥的控制下，汽缸帶動活動檔板225做打開動·作。通過上述步驟，得以實現通道的開啟或關閉。需要說明的是，在本發明的其他實施例中，帶動活動擋板225開啟或關閉的氣缸可以是單作用氣缸，還可以是雙作用氣缸、或者其他的驅動機構，只要能夠帶動活動擋板225做打開和關閉動作，達到開啟或關閉通道的目的即可。考慮到晶圓干燥設備的特殊性，晶圓干燥設備中用于甩干的晶圓250，大多剛從晶圓清洗設備(未圖示)中清洗完畢，所述晶圓250的表面還殘留有清洗液，所述清洗液的成分主要為水和氫氟酸(HF)。其中，氫氟酸具有腐蝕性。并且，晶圓干燥設備在甩干晶圓250的過程中，為避免從晶圓250表面甩出的蒸汽等在擋板220表面匯聚成液滴，滴回晶圓250表面形成水潰，影響晶圓250的后續工藝。所述晶圓干燥設備表面的材料需要選擇不粘性和抗濕性材料，使得從晶圓250表面甩出的蒸汽在擋板220表面不易匯聚形成液滴，且擋板220表面不易受潮。所述擋板220的材料為不粘性、抗濕性和耐腐蝕性好的材料。石英玻璃經過硼砂處理后的表面不易形成液滴，且自身具有耐腐蝕性，被廣泛應用于晶圓干燥設備的擋板140 (如圖I所示)中。然而，由于石英玻璃的價格昂貴，并且易碎，使得由石英玻璃制成的晶圓干燥設備的成本高，而且，晶圓干燥設備的質量差，易在安裝、拆卸過程中損壞，影響晶圓150 (圖I所示)的干燥工藝受到影響。經過研究，發明人發現，本發明實施例中，在干燥腔體200內安裝、維修旋轉裝置210的旋轉頭211晶圓架213等其他裝置時，通常需要將靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221拆卸，所述靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221的拆卸頻率較高，破碎的風險較高。如果采用不易破碎的材料替代石英玻璃形成固定擋板221，則可以有效避免所述固定擋板221安裝或拆卸過程中破碎，影響晶圓干燥設備的工作。如果所述固定擋板221采用普通的不易破碎的材料，而不考慮到材料的耐腐蝕性能，則形成的固定擋板221的表面易被氫氟酸腐蝕，造成固定擋板221表面某些地方嚴重凹陷，甚至穿孔，造成固定擋板221的報廢。所述固定擋板221的材料為耐腐蝕性的材料。并且，為避免從晶圓250表面甩出的蒸汽在固定擋板220表面匯聚成液滴，滴回晶圓250表面形成水潰，影響晶圓250的后續工藝。所述固定擋板221表面的材料還需要選擇不粘性和抗濕性材料。
經過進一步研究，發明人發現，可以將所述固定擋板221設計為兩部分，至少包括不易破碎的基材層221a、和覆蓋所述基材層221a整個表面的抗腐蝕涂層221b。其中，所述基材層221a的材料為不銹鋼、鋁合金或聚酰亞胺，所述基材層221a在運送、安裝和拆卸過程中，不易破碎，并且所述基材層221a的成本低；所述抗腐蝕涂層221b直接與晶圓干燥設備甩出的蒸汽等接觸，所述抗腐蝕涂層221b的材料選擇具有不粘性和抗濕性材料。在本發明的實施例中，所述基材層221a的材料為聚酰亞胺，具有較好的耐腐蝕性能，成本低。所述抗腐蝕涂層221b的材料為聚四氟乙烯(Teflon),不易沾水,且耐腐蝕。采用本發明實施例的上述材料，有效解決了固定擋板221易破碎、成本高的問題。并且在本發明實施例的晶圓干燥設備中干燥的晶圓250表面沒 有水潰，干燥晶圓250的質量高。另夕卜，由于聚酰亞胺的耐腐蝕性能較好，即使抗腐蝕涂層221b的厚度較薄，氫氟酸滲入基材層221a表面，基材層221a也不會被腐蝕。進一步提高了所述固定擋板221的耐腐蝕性能，且固定擋板221的質量較輕，便于運送、拆卸和安裝。為保證固定擋板221具有一定的強度，滿足晶圓干燥設備在運送、拆卸、安裝以及工作時的受力，所述固定擋板221中基材層221a的厚度為4毫米-6毫米。并且，為使固定擋板221的耐腐蝕性能好，固定擋板221的基材層221a不易被氫氟酸腐蝕，所述抗腐蝕涂層221b的厚度為O. 2毫米-O. 6毫米。在本發明的實施例中，所述基材層221a的厚度為5毫米，所述抗腐蝕涂層221b的厚度為O. 3毫米。需要說明的是，為更好的防止從晶圓250上甩出去的液體化學藥品在擋板220表面聚集成液滴，滴回晶圓250表面形成水潰，影響晶圓250的后續工藝。并且，為增加抗腐蝕涂層221b和基材層221a之間的結合強度，所述基材層221a的表面毛糙。并且，發明人發現，靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221與干燥腔體200側壁的夾角α大小，會影響到固定擋板221表面液滴的流向。當固定擋板221與干燥腔體200側壁的夾角α較大(50度-70度)時，所述固定擋板221對形成的液滴的附著力較大，不易沿固定擋板221表面向下滑動，相反，當所述液滴匯聚較大后，受重力作用極易滴回至晶圓250表面；當固定擋板221與干燥腔體200側壁的夾角α較小時，所述固定擋板221對形成的液滴的附著力減小，液滴會沿著固定擋板221的表面向下流動，最終至排水口排出，而不會滴至晶圓250表面。本發明的實施例中，所述靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221與干燥腔體200側壁的夾角為40度,干燥的晶圓250表面不易形成水潰。需要說明的是，在本發明的其他實施例中，所述固定擋板223的結構和材料也可以如固定擋板221，所述活動擋板225的結構和材料也可以如固定擋板221，以進一步降低晶圓干燥設備的成本。具體請參考前文中有關固定擋板221的相關描述，在此不再贅述。需要說明的是，為使得晶圓干燥設備中的蒸汽和液滴排出，干燥腔體一側側壁底部還具有排氣口(未圖示)和排水孔，用于排出水汽和液滴。本發明實施例的晶圓干燥設備，由于靠近旋轉裝置一側的固定擋板采用不易破碎的材料形成，質量更好，即使經常安裝和拆卸也不易損壞。并且所述固定擋板耐腐蝕性強、不粘性和抗濕性好，不易被腐蝕，干燥晶圓的效果也好，不易在晶圓表面形成水潰。相應的，請繼續參考圖2，發明人還提供了一種上述晶圓干燥設備的形成方法，包括提供干燥腔體200，所述干燥腔體200的頂壁具有開口(未圖示)，用于為取出或放入晶圓250至干燥腔體200提供通道，所述干燥腔體200側壁形成有旋轉裝置210，所述旋轉裝置210用于夾持晶圓250高速旋轉，以甩干晶圓250表面的液滴；形成與所述開口對應的擋板220，所述擋板220包括位于所述開口兩側的固定擋板221、223和位于兩個固定擋板221、223之間的活動擋板225，其中，所述活動擋板225在取出或放入晶圓250至干燥腔體200時開啟，并且在放入晶圓250至干燥腔體200后關閉，使干燥腔體200封閉，靠近旋轉裝置210 —側的固定擋板221包括不易破碎的基材層221a和覆蓋所述基材層221a的抗腐蝕涂層221b。其中，所述基材層221a的材料為不易破碎的材料不銹鋼、鋁合金或聚酰亞胺。所述基材層221a的厚度為4毫米-6毫米。在本發明的實施例中，所述基材層221a的材料為不易被化學藥品腐蝕的聚酰亞胺，用于進一步提高所述固定擋板221的耐腐蝕性。所述抗腐蝕涂層221b的形成工藝為噴涂工藝，以形成厚度均勻的抗腐蝕涂層221b。形成的抗腐蝕涂層221b的厚度為O. 2毫米-O. 6毫米。所述抗腐蝕涂層221b的材 料為聚四氣乙火布。需要說明的是，在形成固定擋板221的基材層221a后，還包括對所述基材層221a進行粗糙處理，來改善抗腐蝕涂層221b同基材層221a表層的結合能力。具體地，在本發明的實施例中，在形成抗腐蝕涂層221b前，還包括使用有機溶劑清潔所述基材層221a表面；對清潔后的基材層221a加熱使所述有機溶劑完全揮發；采用噴砂處理的機械方式清潔基材層221a并使其表面毛糙。其中，所述有機溶劑為苯或戊烷，加熱的溫度為350攝氏度-450攝氏度。更多關于晶圓干燥設備的描述，請參考前文中晶圓干燥設備的相關描述，在此不再贅述。本發明實施例中，形成晶圓干燥設備的方法簡單，采用噴涂工藝形成的抗腐蝕涂層221b的厚度均勻，所述固定擋板221的抗腐蝕性能更好。綜上，本發明實施例的晶圓干燥設備，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，其中靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層表面的抗腐蝕涂層。所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板在運送、安裝或拆卸的過程中不易損壞，降低了設備成本。并且所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板表面具有抗腐蝕涂層，有效避免了所述固定擋板被化學藥品腐蝕，所述晶圓干燥設備的成本低、質量好。進一步的，所述抗腐蝕涂層的材料選擇疏水性材料，干燥腔體內的水蒸汽不易在所述固定擋板表面匯聚成液滴，避免了干燥晶圓過程中在晶圓表面形成水潰，保證了晶圓后續工藝的進行。更進一步的，所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板與干燥腔體側壁的夾角為30度-50度，靠近旋轉裝置一側的固定擋板對其表面匯聚的液滴的附著力更小，液滴不易附著在所述固定擋板表面，且即使液滴附著于其表面，也會順著所述固定擋板表面向下流動。避免了液滴直接滴回晶圓表面，在晶圓表面形成水潰。干燥晶圓的效果更好。并且，形成抗腐蝕涂層的工藝為噴涂工藝，形成的抗腐蝕涂層的厚度均勻，后續形成的晶圓干燥設備的抗腐蝕性能好。本發明雖然以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定權利要求，任何本領域技術人員在不脫離本發明的精神和范圍內，都可以做出可能的變動和修改，因此本發明的保護范圍應當以本發明權利要求所界定的范圍為準。`
權利要求
1.一種晶圓干燥設備，包括 干燥腔體，所述干燥腔體的頂壁具有開口，用于為取出或放入晶圓至干燥腔體提供通道； 位于所述干燥腔體側壁的旋轉裝置，所述旋轉裝置用于夾持晶圓高速旋轉，以甩干晶圓表面的液滴； 與所述開口對應的擋板，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，所述活動擋板在取出或放入晶圓至干燥腔體時開啟，并且在放入晶圓至干燥腔體后關閉，使干燥腔體封閉； 其特征在于，靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。
2.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述基材層的材料為不銹鋼、鋁合金或聚酰亞胺。
3.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述抗腐蝕涂層的材料為具有不粘性和抗濕性的材料。
4.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述抗腐蝕涂層的材料為聚四氟乙烯。
5.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述基材層的厚度為4毫米-6毫米，所述抗腐蝕涂層的厚度為O. 2毫米-O. 6毫米。
6.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述基材層的材料為聚酰亞胺，所述抗腐蝕涂層的材料為聚四氟乙烯。
7.如權利要求I所述的晶圓干燥設備，其特征在于，所述靠近旋轉裝置一側的固定擋板與干燥腔體側壁的夾角為30度-50度。
8.—種上述任一項權利要求中的晶圓干燥設備的形成方法，其特征在于，包括 提供干燥腔體，所述干燥腔體的頂壁具有開口，用于為取出或放入晶圓至干燥腔體提供通道，所述干燥腔體側壁形成有旋轉裝置，所述旋轉裝置用于夾持晶圓高速旋轉，以甩干晶圓表面的液滴； 形成與所述開口對應的擋板，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，其中，所述活動擋板在取出或放入晶圓至干燥腔體時開啟，并且在放入晶圓至干燥腔體后關閉，使干燥腔體封閉，靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。
9.如權利要求8所述的晶圓干燥設備的形成方法，其特征在于，所述抗腐蝕涂層的形成工藝為噴涂工藝。
10.如權利要求8所述的晶圓干燥設備的形成方法，其特征在于，形成靠近旋轉裝置一側的固定擋板時，在形成抗腐蝕涂層前，還包括使用有機溶劑清潔所述基材層表面；對清潔后的基材層加熱使所述有機溶劑完全揮發；采用噴砂處理的機械方式清潔基材層并使其表面毛糙。
11.如權利要求10所述的晶圓干燥設備的形成方法，其特征在于，所述有機溶劑為苯或戊烷，所述加熱時的溫度為350攝氏度-450攝氏度。
全文摘要
一種晶圓干燥設備及其形成方法，其中，所述晶圓干燥設備，包括干燥腔體，所述干燥腔體的頂壁具有開口，用于為取出或放入晶圓至干燥腔體提供通道；位于所述干燥腔體側壁的旋轉裝置，所述旋轉裝置用于夾持晶圓高速旋轉，以甩干晶圓表面的液滴；與所述開口對應的擋板，所述擋板包括位于所述開口兩側的固定擋板和位于兩個固定擋板之間的活動擋板，所述活動擋板在取出或放入晶圓至干燥腔體時開啟，并且在放入晶圓至干燥腔體后關閉，使干燥腔體封閉；靠近旋轉裝置一側的固定擋板包括不易破碎的基材層和覆蓋所述基材層整個表面的抗腐蝕涂層。本發明的晶圓干燥設備的成本低，質量好。
文檔編號H01L21/02GK102914139SQ201210402058
公開日2013年2月6日 申請日期2012年10月19日 優先權日2012年10月19日
發明者董呈龍 申請人:上海宏力半導體制造有限公司