專利名稱：處理裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于對例如平板顯示器用的玻璃基板、半導體基板、印刷電路板等進行檢查、處理的處理裝置。
背景技術：
近年來，在玻璃基板、半導體基板、印刷電路板(以下稱作基板)等的制造中，具有用于對基板進行檢查等處理的處理裝置。處理裝置具有用于對基板進行檢查處理的處理部、以及用于自外部向處理部輸送基板或者自處理部向外部輸送基板的輸送部。輸送部包括浮起用板，其在用于輸送基板的輸送面上具有多個空氣孔，并用于通過自該空氣孔吹出空氣而使基板浮起；以及吸盤，其用于吸附基板，并能夠沿輸送方向移動。輸送部通過使吸附了利用浮起用板浮起的基板的吸盤移動，而進行基板的輸送。但是，若輸送到處理部的基板產生撓曲等，則有可能引起處理裝置的對基板的處理精度降低，因此至少在處理部中需要將基板的表面設置為平坦。該處理裝置調整處理部及輸送部的基板輸送面的平坦度，并且調整處理部和輸送部之間的連結部中的連結高度以使其變得平坦。作為上述處理裝置，公開有在檢查部上配置與輸送方向垂直方向的浮起用板(橫置浮起構件)且使處理部中的基板的表面平坦度提高的技術(例如參照專利文獻1)。在該處理裝置中，利用吸盤保持利用浮起用板而浮起的基板的下表面，從而進行基板的輸送。專利文獻專利文獻1 日本特開2009-256029號公報但是，專利文獻1所公開的處理裝置具有如下問題由于精密地限定了用于輸送基板的輸送面的平坦度，因此若在輸送中產生微小的振動等，則吸盤和基板之間的吸附狀態被解除，導致產生吸附失誤。
發明內容
本發明是鑒于上述情況而做成的，其目的在于提供一種能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤的處理裝置。為了解決上述問題并達到目的，本發明的處理裝置包括處理部，其用于對作為處理對象的基板實施規定的處理；以及輸送臺，其用于載置上述基板而輸送該基板；其特征在于，上述輸送臺包括支承部件，其具有在沿輸送上述基板的輸送方向觀看時端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的上述基板；保持構件，其用于以能夠沿與上述輸送方向平行地延伸的輸送軸移動的方式保持上述基板；以及驅動部，其用于使上述保持構件沿上述輸送軸移動；上述支承部件支承上述基板的支承高度在設置有上述處理部的處理部設置區域中與上述保持構件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述處理部設置區域以外的區域中低于上述保持高度。
關于本發明的處理裝置，通過傾斜地設置輸送臺，并水平地配置用于使吸盤移動的輸送軸，使輸送臺所形成的輸送面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對吸盤施加較大的自重，因此能夠起到防止基板和吸盤之間的吸附失誤的效果。
圖1是示意性地表示本發明的實施方式1的平板顯示器(FPD)檢查裝置的結構的俯視圖。圖2是示意性地表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的結構的側視圖。圖3是示意性地表示圖2所示的輸送臺的示意圖。圖4是表示圖1所示的FPD檢查裝置的A-A剖面的剖視圖。圖5是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例1的剖視圖。圖6是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例2的剖視圖。圖7是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例3的剖視圖。圖8是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖9是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖10是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的主要部分的結構的剖視圖。圖11是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例5的剖視圖。圖12是示意性地表示本發明的實施方式2的FPD檢查裝置的結構的俯視圖。圖13是表示圖12所示的FPD檢查裝置的B-B剖面的剖視圖。圖14是表示本發明的實施方式2的FPD檢查裝置的變形例的剖視圖。
具體實施例方式以下，結合附圖詳細地說明用于實施本發明的實施方式。另外，本發明不限于以下的實施方式。此外，在以下的說明中，所參照的各圖只是以能夠理解本發明的內容的程度概略地表示出形狀、大小、以及位置關系。即，本發明不限于在各圖中例示的形狀、大小、以及位置關系。(實施方式1)首先，參照附圖詳細地說明本發明的實施方式1的處理裝置。另外，在以下的說明中，以基板的檢查裝置為例進行說明。檢查裝置既可以是在線型，也可以是離線型。圖1是表示本實施方式1的平板顯示器(FPD)檢查裝置的概略結構的俯視圖。圖 2是示意性地表示本實施方式1的FPD檢查裝置的結構的側視圖。如圖1所示，FPD檢查裝置1包括龍門載物臺10，其用于保持檢查單元100 (處理部)，該檢查單元100用于檢測呈矩形的基板W的缺陷；以及輸送臺12、20、21，其用于輸送基板W。龍門載物臺10及輸送臺12、20、21固定于例如圖1、2表示那樣的架臺11上。架臺11由例如將塊狀的大理石、鋼材組合而成的框架等耐震性較高的構件構成。除此之外， 在架臺11和設置面(例如地板)之間設置例如由彈簧、液壓減震器等構成的振動吸收機構 13。由此進一步地防止輸送臺12、20、21及檢查單元100的振動。輸送臺12、20、21具有例如多個板狀構件沿與基板W的輸送方向D垂直的方向排列成簾子狀而成的構造。通過沿輸送方向D排列該輸送臺12、20、21而形成基板W的輸送路徑。在各輸送臺12、20、21的板狀構件上分別設置用于在上表面保持基板W并作為能夠向輸送方向D旋轉的支承部件的自由輥121、201、211。此外，在輸送臺20的與輸送方向D垂直的方向即寬度方向的中央設置用于向輸送方向D進行驅動并吸附輸送基板W的驅動機構 30。另外，優選自由輥121、201、211如拉格朗日點的間隔那樣以不會產生基板W的撓曲振動的這種間隔配置。此外，作為基板W的定位方法，可列舉使用升降銷(lift pin)及定位機構等的方法，該升降銷用于支承被輸入到輸送臺20上的基板W而將其載置于輸送臺20， 該定位機構用于使載置于輸送臺20的基板W定位。驅動機構30包括驅動部32，其在與輸送方向D的水平方向平行的輸送軸31上移動；支承構件33，其支承于驅動部32 ；以及吸盤34 (保持構件)，其支承于支承構件33，用于利用未圖示的泵的吸氣來吸附保持基板W。驅動機構30通過使用線性電動機引導件作為輸送軸31、并且使用線性電動機作為驅動部32來實現。另外，通過將驅動機構30設置于輸送臺的寬度方向的中央，能夠保持包含被輸入到輸送臺的基板W的重心位置的區域，從而能夠進行穩定的基板輸送。此外，只要能夠不損傷基板W地進行輸送，則驅動機構30的配設位置可以是任意的位置，也可以設置有多個驅動機構30。圖3是示意性地表示圖2所示的輸送臺的示意圖。如圖3所示，輸送臺20、21的鉛垂方向的高度(上表面)隨著遠離輸送臺12側的端部而變低。輸送臺20、21的高度利用例如螺釘的支承而被固定。另外，由于輸送臺20、21分別被懸臂梁狀的支承構件22、23 支承，因此當調整輸送臺20、21的高度時，也考慮由于輸送臺20、21的自重所引起的撓曲。 此外，只要能夠輸送基板W，則也能以使與水平面平行的上面的輸送臺20、21的上表面的高度低于輸送臺12的上表面的方式配設輸送臺。在這里，通過自由輥的上端的面L2的相對于水平面L3的沿鉛垂方向的最大高度差dl為數mm 數十mm左右，更優選是2mm 3mm左右。另外，吸盤34的用于吸附基板W 的吸附面利用驅動部32的驅動而在水平面L3上移動。此外，也可以在輸送臺20、21上設置驅動部，并設置成能夠根據基板等的種類、性質來改變傾斜的角度。該驅動部可列舉使用氣壓缸、電動馬達等。檢查單元100具有未圖示的攝像部，該攝像部設定在輸送臺12所形成的輸送路徑上，用于借助顯微鏡101來拍攝在與輸送臺12的寬度方向平行的檢查線Ll上通過的基板 W。通過解析由該檢查單元100獲得的圖像，能夠檢測基板W是否存在缺陷。另外，檢查單元100能夠沿檢查線LI移動。在本說明中，檢查單元100所設置的區域稱為檢查空間rai。 此外，檢查空間PRl以外的區域稱為輸送空間TR1、TR2。另外，檢查單元100也可替換成例如用于對基板W的缺陷部分進行激光照射修復、涂布修正等的修復單元、用于觀察、保存圖像的攝像單元、用于在規定的位置實施配線等的尺寸測量、膜厚測量、顏色測量等測量單元等的處理的其他處理單元。即，處理單元包含檢查單元、修復單元、攝像單元、曝光單元、測量單元等。此外，本實施方式的FPD檢查裝置也包含上述處理單元在用于載置基板W的臺上對基板進行各處理的結構。此外，由于FPD檢查裝置1只要包括用于包圍檢查空間PRl及輸送空間TRl、TR2 的外殼就能夠形成內部空間(無塵室)，故為優選。該無塵室是除了基板的輸入口、輸出口及下部的管道以外均被密閉的空間。外殼在檢查單元100的上方具有用于向內部空間送入潔凈的空氣(以下稱作潔凈空氣)的FFU。FFU用于送出已去除了例如微粒等粉塵的潔凈空氣。其結果，特別是使檢查單元 100附近及檢查線LI周邊(檢查空間rai)成為粉塵較少的潔凈的狀態。此外，當向檢查單元100附近及檢查線Ll周邊集中送出的潔凈的空氣在無塵室內形成下降流(down flow) 之后，自排氣口排出。圖4是表示圖1所示的FPD檢查裝置的A-A剖面的剖視圖。在圖4的剖視圖所示的位置處，由于在輸送臺的各板狀構件20A 20F的自由輥201的上端通過的面(支承高度)比吸盤34的用于吸附基板W的吸附面的高度(保持高度)低，因此，相比于自由輥 201，基板W的重量較大地施加到吸盤34上。因此，能夠更可靠地利用吸盤34吸附基板W。如上述實施方式1那樣，通過傾斜地設置輸送臺，并水平地配置用于使吸盤移動的輸送軸，使通過輸送臺的自由輥的上端的面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對吸盤施加較大的自重，從而能夠使吸盤更可靠地吸附基板。由此能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤。另外，關于檢查空間rai，由于通過輸送臺12的自由輥121的上端的面維持為水平，特別是基板W在檢查線Ll處的平面形成水平面，因此能夠以水平的狀態維持基板W而進行檢查等。(變形例)圖5是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例1的剖視圖。圖5與圖4所示的剖視圖對應。關于FPD檢查裝置la，外緣側的板狀構件20A、20B、20E、20F的自由輥 20 202d的上端側的傾斜度隨著靠近輸送臺的寬度方向的外緣側而逐級變大。此外，自由輥20 202d的上端的高度隨著靠近外緣側而變低，通過自由輥20 202d的上端的面呈弧狀(球面狀)。利用上述變形例1的結構，能夠進一步增大基板W向吸盤34施加的鉛垂下方的力，因此能夠實現更可靠的吸附。圖6是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例2的剖視圖。圖6與圖4所示的剖視圖對應。關于FPD檢查裝置lb，外緣側的板狀構件20A、20B、20E、20F的自由輥203 的直徑大于設置于內側的板狀構件20C、20D的自由輥201的直徑。由此，由于通過各自由輥201、203的上端的面不同，因此基板W在板狀構件20C、20D之間產生朝向下方的撓曲。因而，對吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負載，能夠實現更穩定的吸附。另外，也可以使用相同直徑的自由輥而以自由輥的上端的高度在外緣側和內側不同的方式配置。圖7是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例3的剖視圖。圖7與圖4所示的剖視圖對應。關于FPD檢查裝置lc，配設有驅動機構30的板狀構件20C、20D的自由輥 201之間的距離d2 (支承構件的間隔)大于未配設有驅動機構30的板狀構件20A、20B、20E、 20F的自由輥201之間的距離。由此，基板W在板狀構件20C、20D之間產生撓曲。此時，對吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負載，能夠在不設置復雜結構的情況下實現更可靠的吸附。另外，支承構件由板狀構件及自由輥構成。在這里，可以根據所使用的基板的厚度等改變支承構件的間隔。例如，由于基板的厚度較大的情況相比于基板的厚度較小的情況難以撓曲，因此擴大間隔。此時，由于基板的厚度也根據制造工序的不同而改變，因此優選改變成與其工序中的基板的厚度相對應的間隔。
圖8、圖9是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖10是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的主要部分的結構的剖視圖。如圖8、9所示， 關于FPD檢查裝置ld，驅動機構30包括與驅動部32連結并用于使吸盤34上下移動的升降構件35。升降構件35具有用于支承吸盤34并能夠升降驅動的升降部35a。圖8是輸送臺 20、21(輸送空間TR1、TR2)中的剖視圖(對應圖4)。如圖8所示，吸盤34的吸附面利用升降部35a的上升而高于通過自由輥201的上端的面。由此，由于基板W能夠對吸盤34施加更大的接觸載荷，因此能夠實現更可靠的吸附。此外，圖9是輸送臺12(檢查空間TOD中的與輸送方向垂直的方向的剖視圖。在檢查空間中，利用升降部3 進行調整，以使吸盤34的吸附面成為至少自由輥201所形成的輸送面以下的高度。由此，能夠以基板W的面在檢查時不產生撓曲等變形的方式進行檢查。另外，吸盤34和升降部3 設置成可拆裝，如圖10所示，當升降部3 下降了時， 吸盤34維持吸附基板W的狀態。在這種情況下，無需與升降部35a同步地對吸盤34進行泵等的控制，僅利用升降部35a的控制就能夠實現。另外，吸盤34和升降部3 為一體，也可以使吸盤34與升降部35a的下降連動而自基板W脫離。此時，雖然一個吸盤側的升降部自吸盤脫離，但由于利用另一個吸盤吸附基板W，因此基板W維持被支承在輸送臺上的狀態。圖11是表示本實施方式1的FPD檢查裝置的變形例5的剖視圖。圖11所示的FPD 檢查裝置Ie與圖4所示的剖視圖對應，包括2個驅動機構30A、30B，該驅動機構30A、30B分別具有輸送軸31A、31B、驅動部32A、32B以及吸盤34A、34B。在這里，各驅動機構30A、30B 分別配置在相對于輸送臺20的寬度方向的中心線L4對稱的位置。由此，基板W能夠以均勻的撓曲支承于吸盤34，并且對吸盤34的吸附面施加由基板W的撓曲所帶來的負載，從而能夠實現更可靠的吸附。(實施方式2)圖12是示意性地表示本發明的實施方式2的FPD檢查裝置2的結構的俯視圖。 圖13是表示圖12所示的FPD檢查裝置2的B-B剖面的剖視圖。在實施方式2中，利用作為支承部件的空氣使載置于浮起輸送臺40 42的基板W浮起，從而以消除與基板W的摩擦并防止基板的由摩擦引起的損傷的方式進行輸送。此外，與實施方式1相同，龍門載物臺 10等的檢查單元所設置的區域為檢查空間冊2，檢查空間PR2以外的區域為輸送空間TR3、 TR4。另外，對與圖1等所示的結構相同的結構標注相同的附圖標記。浮起輸送臺40 42包括呈大致板狀的多個浮起用板(支承構件)，該多個浮起用板沿輸送方向D延伸，用于在輸送面上使基板W浮起而進行載置。通過沿輸送方向D排列各浮起輸送臺40 42而形成基板W的輸送路徑。此外，浮起輸送臺41、42與圖3所示的輸送臺20、21相同，沿鉛垂方向的高度(上表面)隨著遠離浮起輸送臺40而變低。此時的鉛垂方向的最大的高度差為數mm 數十mm左右，更優選是2mm 3mm左右。例如，如圖13所示，浮起輸送臺41具有浮起用板41A 41F沿與輸送方向D垂直的方向排列成簾子狀而成的構造。在浮起用板41A 41F中設置用于利用來自空氣供給部 50的空氣供給而朝向鉛垂上方吹出空氣的多個吹出孔411。另外，在浮起輸送臺40、42中， 各浮起用板也具有吹出孔401、421。此外，在浮起輸送臺40 42的寬度方向的中央設置上述驅動機構30。與實施方式1相同，作為基板W的定位方法，可列舉使用升降銷及定位機構等的方法，該升降銷用于支承被輸入到輸送臺41上的基板W而使基板W載置于輸送臺41，該定位機構用于使載置于輸送臺41的基板W定位。此外，浮起輸送臺40支承于圖2所示的振動吸收機構13。在圖13中，由于浮起輸送臺41的支承在自浮起用板41A 41F的吹出孔411吹出的空氣的作用下而浮起的基板W的基板支承高度低于吸盤34的用于吸附基板W的吸附面的高度，因此向吸盤34的吸附面施加的基板W的重量變大。因此，能夠更可靠地利用吸盤34吸附基板W。如上述實施方式2那樣，通過傾斜地設置輸送臺，并水平地配置用于使吸盤移動的輸送軸，使輸送臺所形成的輸送面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對吸盤施加較大的自重，從而能夠使吸盤更穩定地吸附基板。另外，關于檢查空間冊2，由于浮起輸送臺40的各浮起用板的上表面以維持水平的方式設置，利用空氣而浮起的基板W維持為水平，特別是基板W在檢查線L5處的平面形成水平面，因此能夠以水平的狀態維持基板W而進行檢查等。(變形例)圖14是表示本實施方式2的FPD檢查裝置的變形例的剖視圖。圖14與圖13所示的剖視圖對應。關于FPD檢查裝置加，在輸送臺41的寬度方向上靠內側的浮起用板41C、 41D的上表面低于外緣側的浮起用板41A、41B、41E、41F的上表面。由于自浮起用板41A 41F吹出的空氣的壓力相等，因此利用浮起用板而浮起的基板W在板狀構件41C、41D之間產生朝向下方的撓曲。由此，對吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負載，能夠實現更穩定的吸附。此外，欲獲得與實施方式1的變形例1相同的效果，可以按照每個浮起用板來改變自浮起輸送臺41、42的吹出孔411、421吹出的空氣的壓力。例如，通過使自外緣側的浮起用板的吹出孔吹出的空氣的壓力低于自內側的浮起用板吹出的空氣的壓力，能夠產生如圖 5所示的那樣的基板W的撓曲。此外，如圖7所示的變形例3那樣，也可以適用于相對于其他浮起用板調整浮起用板41C、41D之間的間隔的結構。如上所述，本發明的處理裝置在可靠地保持而輸送檢查對象的基板這一點是有用的。附圖標記說明l、la le、2、FDP檢查裝置；10、龍門載物臺；11、架臺；12、20、21、輸送臺；13、振動吸收機構；20A 20F、板狀構件；22、23、33、支承構件；30、30A、30B、驅動機構；31、31A、 31B、輸送軸；32、32A、32B、驅動部；!34、34A、34B、吸盤；35、升降構件；:35a、升降部；40 42、 浮起輸送臺；41A 41F、浮起用板；100、檢查單元；101、顯微鏡；121、201、202a 202d、 203、211、自由輥；L1、L5、檢查線；I3Rl、冊2、檢查空間；TRl TR4、輸送空間；W、基板。
權利要求
1.一種處理裝置，其包括處理部，其用于對作為處理對象的基板實施規定的處理；以及輸送臺，其用于載置上述基板而輸送該基板；其特征在于，上述輸送臺包括支承部件，其具有在沿輸送上述基板的輸送方向觀看時端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的上述基板；保持構件，其用于以能夠沿與上述輸送方向平行地延伸的輸送軸移動的方式保持上述基板；以及驅動部，其用于使上述保持構件沿上述輸送軸移動；上述支承部件支承上述基板的支承高度在設置有上述處理部的處理部設置區域中與上述保持構件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述處理部設置區域以外的區域中低于上述保持高度。
2.根據權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述驅動部設置于上述輸送臺的寬度方向的中央，上述支承部件的支承上述基板的高度至少是上述寬度方向的外緣側的支承上述基板的高度與上述寬度方向的內側的支承上述基板的高度不同。
3.根據權利要求2所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件在上述外緣側支承上述基板的高度低于上述支承部件在上述內側支承上述基板的高度。
4.根據權利要求2所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件在上述外緣側支承上述基板的高度高于上述支承部件在上述內側支承上述基板的高度。
5.根據權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件沿與上述輸送方向垂直的方向排列有沿上述輸送方向延伸的多個支承構件，上述驅動部配設在相鄰的上述支承構件之間的隙間中的一部分隙間中，配設上述驅動部的上述支承構件之間的間隔大于未配設上述驅動部的上述支承構件之間的間隔。
6.根據權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件具有能夠向上述輸送方向旋轉的多個自由輥。
7.根據權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件具有多個吹出孔，該多個吹出孔用于利用來自空氣供給部的空氣供給而朝向上述輸送臺的上方吹出空氣。
8.根據權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述驅動部設置有多個，各驅動部配設在相對于上述輸送臺的寬度方向的中心線對稱的位置。
全文摘要
本發明提供一種能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤的處理裝置。該處理裝置包括處理部，其用于對處理對象的基板實施規定的處理；以及輸送臺，其用于載置基板而輸送該基板，其特征在于，輸送臺包括支承部件，其具有在沿輸送基板的輸送方向觀看時端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的基板；保持構件，其用于以能夠沿與輸送方向平行地延伸的輸送軸移動的方式保持基板；以及驅動部，其用于使保持構件沿輸送軸移動；支承部件支承基板的支承高度在設置有處理部的處理部設置區域中與保持構件保持基板的保持高度相同，支承部件支承基板的支承高度在處理部設置區域以外的區域中低于保持高度。
文檔編號H01L21/67GK102530554SQ201110339978
公開日2012年7月4日 申請日期2011年11月1日 優先權日2010年11月1日
發明者木內智一, 福田達史 申請人:奧林巴斯株式會社