專利名稱：一種有機發光二極管器件的制造方法
技術領域：
本發明涉及一種有機發光二極管(OLED)器件的制造方法，尤其涉及一種利用噴墨印刷工藝的有機發光二極管(AMOLED)器件的制造方法。
背景技術：
有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode，縮寫為0LED)器件是一種新型的平板顯示器件。傳統的液晶顯示器(LCD)，自身不能發光，需要背光源。而有機發光二極管(OLED)器件本身具有發光功能，是一種自發光器件，因此，有機發光二極管(OLED)器件比LCD更能夠做得輕薄，而且更省電。另外，有機發光二極管(AMOLED)器件具有反應速度較快、對比度更高、視角較廣等特點。傳統的有機發光二極管(OLED)器件的制程中，因為需要以黃光制成制作擋墻，制作成本較高且同時存在渣滓殘留問題。在像素區內噴涂有機發光層時，需要重復操作多次， 有機發光層的均勻性不容易控制，會出現對位不準確，顏色間會混合模糊，有點部分沒有填滿，有點地方填得嫌多導致中凸等現象，由此會影響有機發光二極管(OLED)器件的成像質量。有鑒于此，如何設計一種有機發光二極管(OLED)器件的制造方法，既可以避免渣滓的殘留問題，又可以很好地控制有機發光層的均勻性，是業內人士亟需解決的問題。
發明內容
針對現有技術中制造的有機發光二極管(OLED)器件，渣滓的殘留問題和不容易控制有機發光層的均勻性而引起的混色、部分未填滿、中凸等問題，本發明提供了一種有機發光二極管(OLED)器件的制造方法。根據本發明的一個方面，提供了一種有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，包括下列步驟提供一絕緣基板，在基板上沉積無機層；采用構圖工藝對無機層進行構圖；繼續沉積ITO膜；在ITO膜上沉積平坦層，并采用構圖工藝對平坦層進行構圖，以形成第一凹陷與第二凹陷；依次沉積空穴注入層和空穴傳輸層；通過噴墨印刷工藝于第一凹陷內形成擋墻；通過噴墨印刷工藝于第二凹陷內形成發光層。優選地，在所述擋墻的制作材料為一種含氟涂料樹脂。優選地，空穴傳輸層與空穴注入層的制作材料為PED0T-PSS。優選地，無機層的制作材料為金屬鈦或鋁。優選地，平坦層的材料可以和擋墻相同。優選地，擋墻高于空穴傳輸層。優選地，第一凹陷對應于無機層。優選地，擋墻將發光層隔開。優選地，空穴傳輸層可以通過熱處理進行固化。本發明的優點是通過噴墨印刷工藝在空穴注入層(HIL)與空穴傳輸層(HTL)的上方制作擋墻，可以提高材料的利用率并避免渣滓的殘留問題，另外利用噴墨印刷工藝形成有機發光層時，可以很好地控制有機發光層的均勻性，避免了對位不準確、混色、部分為填滿、中凸等問題。
讀者在參照附圖閱讀了本發明的具體實施方式
以后，將會更清楚地了解本發明的各個方面。其中，圖1示出了以現有技術制造的有機發光二極管器件的剖面圖；圖2示出了依據本發明制造的有機發光二極管器件的剖面圖。
具體實施例方式下面參照附圖，對本發明的具體實施方式
作進一步的詳細描述。圖1示出了以現有技術制造的有機發光二極管器件的剖面圖。參照圖1，擋墻110 通過沉積和光刻的方式形成在基板100上，此過程是通過黃光制程制作，成本較高，另外因為制成擋墻110時刻蝕掉一部分材料，所以材料利用率較低，并且會有殘渣存留問題。然后通過噴嘴11在相鄰兩個擋墻Iio之間進行噴涂形成空穴注入層120和空穴傳輸層130。接著通過噴嘴11朝向空穴傳輸層130進行噴涂有機材料以形成有機發光層(未標示)。此種制造方式，在像素區內用噴嘴11噴射形成像素區時，因為需要反復噴射幾次，所以發光層的均勻性不容易控制，會出現對位不準確、混色、部分未填滿、中凸等現象。圖2示出了依據本發明制造的有機發光二極管器件的剖面圖。在以下的說明中， 本發明所提到的構圖工藝包括刻膠涂覆、掩膜、曝光、刻蝕等工藝。參照圖2，首先在絕緣基板200上沉積無機層210，并通過構圖工藝對無機層210進行構圖，形成圖2所示圖案。本實施例中，絕緣基板200是一玻璃基板。無機層210可以用金屬鈦、鋁或它們的組合制成。 然后在形成的圖形上沉積ITO膜220，此時會在相鄰無機層210之間形成一第一凹陷221。 接著在上述圖形上繼續沉積平坦層230，并利用構圖工藝對平坦層230進行刻蝕，保留有無機層210與ITO膜220相交接處對應的周圍的平坦層230，這樣與無機層210相對應的相鄰平坦層230之間形成第二凹陷231。繼續存在圖2，隨后依次在前面形成的圖形上沉積空穴注入層240與空穴傳輸層 250。然后藉由噴墨印刷工藝用噴嘴21于第二凹陷231內噴射含氟涂料樹脂，以形成擋墻 251，擋墻251填滿第二凹陷231并高出其周圍的空穴傳輸層250。因為空穴注入層240與空穴傳輸層250以共同層的狀態存在，且擋墻251利用噴墨印刷工藝噴射于第二凹陷231 內形成于空穴注入層240與空穴傳輸層250的上方，這樣就克服了因通過黃光刻蝕制成擋墻時材料利用率不高，且會產生渣滓殘留的問題。接著采用噴墨印刷工藝于第一凹陷221 內噴射有機材料以形成發光層(未標示)，發光層被擋墻251分割成多個像素區。因為發光層是藉由噴墨印刷工藝噴射于第一凹槽221內形成的，這樣就可以很好地控制發光層均勻性，避免了對位不準確、混色、部分未填滿、中凸等問題。采用本發明時，因為擋墻是采用噴墨印刷工藝形成于空穴注入層與空穴傳輸層上方的，這樣就克服了利用黃光制作時導致的eclipse利用率低以及渣滓殘留問題，并且利用噴墨印刷工藝將有機材料噴射于凹陷內，避免了噴射時對位不準確、混色、部分未填滿、中凸等問題，從而可以更好地控制有機發光層的均勻性。 上文中，參照附圖描述了本發明的具體實施方式
。但是，本領域中的普通技術人員能夠理解，在不偏離本發明的精神和范圍的情況下，還可以對本發明的具體實施方式
作各種變更和替換。這些變更和替換都落在本發明權利要求書所限定的范圍內。
權利要求
1.一種有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，包括下列步驟 a提供一絕緣基板，在所述基板上沉積無機層；b采用構圖工藝對所述無機層進行構圖； c繼續沉積ITO膜，同時形成第一凹陷；d在所述ITO膜上沉積平坦層，并采用構圖工藝對所述平坦層進行構圖，以形成第二凹陷；e依次沉積空穴注入層和空穴傳輸層； f通過噴墨印刷工藝于所述第二凹陷內形成擋墻；以及 g通過噴墨印刷工藝于所述第一凹陷內形成發光層。
2.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，在所述擋墻的制作材料為一種含氟涂料樹脂。
3.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述空穴傳輸層與所述空穴注入層的制作材料為PED0T-PSS。
4.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述無機層的制作材料為金屬鈦或鋁。
5.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述平坦層的材料可以和所述擋墻相同。
6.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述擋墻高于所述空穴傳輸層。
7.如權利要求1所述的有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述第二凹陷對應于所述無機層。
8.如權利要求1所述的有源矩陣型有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述擋墻將所述發光層隔開。
9.如權利要求1所述的有源矩陣型有機發光二極管器件的制造方法，其特征在于，所述空穴傳輸層可以通過熱處理進行固化。
全文摘要
本發明提供了一種有機發光二極管器件的制造方法，包括提供一絕緣基板，在基板上沉積無機層；采用構圖工藝對無機層進行構圖；繼續沉積ITO膜，同時形成第一凹陷；在ITO膜上沉積平坦層，并采用構圖工藝對平坦層進行構圖，以形成第二凹陷；依次沉積空穴注入層和空穴傳輸層；通過噴墨印刷工藝于第二凹陷內形成擋墻；通過噴墨印刷工藝于第一凹陷內形成發光層。采用本發明可以避免渣滓問題，并且可以很好地控制發光層的均勻性。
文檔編號H01L51/56GK102222779SQ20111015197
公開日2011年10月19日 申請日期2011年6月1日 優先權日2011年6月1日
發明者盧昶鳴, 蔡綸, 陳之磊, 陳鵬聿 申請人:友達光電股份有限公司