制造薄膜層疊片的方法

專利名稱：制造薄膜層疊片的方法
技術領域：
本發明涉及用于制造薄膜層疊片的裝置，其中在使柔性基板的寬度方向呈縱向姿態的狀態下在橫向方向上傳送膜式柔性基板，并且在真空室內的氣氛中生成通過高頻電源的等離子體放電以形成薄膜，并且該裝置具有抑制局部褶皺(諸如，拉伸褶皺或壓縮褶皺)、且在傳送薄膜層疊片時松動的機構，以及在卷繞薄膜層疊片時抑制卷繞未對準的機構。
背景技術：
作為具有半導片薄膜等的薄膜層疊片的基板，通常使用具有高剛性的基板。同時， 從輕量、方便(諸如，易于處理)、以及通過批量生產來降低成本的角度，使用柔性基板(諸如，樹脂)作為用于例如太陽能電池等的光電轉換元件的基板。作為一種用于使用柔性基板來制造薄膜層疊片的裝置，已開發了沉積設備，其中條狀柔性基板穿過串聯排列的多個沉積室，在每個沉積室中停止的柔性基板上形成膜，重復執行操作以將柔性基板傳送到下一沉積室的位置，并且具有多個不同特性的薄膜層疊在柔性基板上。在該沉積設備中，可在于水平方向上維持條狀柔性基板的寬度方向的狀態中在水平方向上傳送柔性基板，并且可實現膜形成。替代地，可在于垂直方向上維持條狀柔性基板的寬度方向的狀態中在水平方向上傳送柔性基板，并且可實現膜形成。在后一情況下，與前一情況相比，優點在于，柔性基板的表面不容易受污染。然而，如果沉積室的數量增加，則由于柔性基板的重力或重量所引起的拉伸，褶皺在柔性基板的表面中出現，并且柔性基板在寬度方向上彎曲或向下下垂。為了解決這些問題，已提出了一種技術，其中中間室排列在多個處理室之中的兩個中央沉積室之間，并且邊緣位置控制(EPC)輥設置在中間室中以在寬度方向上跨柔性基板的整個表面與柔性基板的表面接觸。在日本專利申請特開No. 2009-46285(專利文獻1) 中描述了 EPC輥。然而，由于通常在相對較高的溫度下實現膜形成，因此如果由不銹鋼制成的EPC 輥排列在沉積室之間，則快速地冷卻柔性基板，從而引起褶皺等。為了防止卷繞輥的卷繞未對準，優選使用EPC輥，但是在EPC輥中，施加到柔性基板的張力的平衡被破壞，從而彎曲褶皺容易出現。通常，EPC輥比傳送輥貴。因此，已開發了一種沉積設備，其中多組夾持輥設置在多個沉積室之間以在垂直方向上夾住條狀柔性基板的上端，并且多組夾持輥被設置成每個輥的旋轉方向相對于條狀柔性基板的傳送方向向上傾斜(參見專利文獻2)。如上所述，至少一組夾持輥排列在多個沉積室之間以在垂直方向上夾住條狀柔性基板的上端，并且在上端的多組夾持輥在垂直方向上被設置成每個輥的旋轉方向相對于條狀柔性基板的傳送方向向上傾斜。由此，當在水平方向上傳送條狀柔性基板時，生成向上提升柔性基板的力。因此，即使當在多個沉積室之間長距離地傳送條狀柔性基板時，有可能防止柔性基板中的褶皺的出現，柔性基板在寬度方向上的彎曲，并且柔性基板向下的下垂。還有可能高精度地維持條狀柔性基板在垂直方向上的位置。引用列表專利文獻專利文獻1 日本專利申請特開No. 2009-46285專利文獻2 日本專利申請特開No. 2009-38276發明的公開內容本發明要解決的問題最終，當其上形成有薄膜的條狀柔性基板(即，薄膜層疊片)被卷繞輥卷繞時，由于卷繞輥具有很高的接合力，因此為了控制具有夾持輥的條狀柔性基板的高度，需要在卷繞輥和夾持輥之間存在一距離。然而，如果存在一距離，則在條狀柔性基板(即，薄膜層疊片)中出現松動。如果薄膜層疊片的位置降低，則在薄膜層疊片卷繞卷繞輥時出現未對準， 從而未實現均勻的卷繞。本發明的目的在于，提供一種用于制造薄膜層疊片的裝置，該裝置能夠防止在傳送時條狀柔性基板松動或在卷繞時條狀柔性基板相對于卷繞輥未對準。用于解決問題的手段為了解決上述問題，本發明提供了一種用于制造薄膜層疊片的裝置中，其中在使卷繞成輥狀的條狀柔性基板的寬度方向呈縱向姿態的狀態下在橫向方向上傳送條狀柔性基板，在條狀柔性基板的傳送方向上設置沉積室，條狀柔性基板傳送到沉積室，通過設置在沉積室中的沉積設備在條狀柔性基板上形成薄膜，并且薄膜層疊片被卷繞成輥狀，在用于將薄膜層疊片卷繞成輥狀的卷繞設備的前面設置調節輥，以防止在卷繞時條狀柔性基板在夾持輥和卷繞設備之間出現松動，并且抑制因卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響，以及一對夾持輥排列在調節輥的前面以在維持給定高度的同時夾住薄膜層疊片的上端來傳送薄膜層疊片。檢測設備可被設置成檢測薄膜層疊片相對于調節輥的進入角，并且可在檢測設備的檢測數據的基礎上控制夾持輥的傾斜角和壓縮力。其位置在條狀柔性基板的寬度方向上可移動的LPC輥用于卷繞輥。本發明還提供了一種用于制造薄膜層疊片的裝置，其中在上下方向上傳送卷繞成輥狀的條狀柔性基板，在條狀柔性基板的傳送方向上設置沉積室，或者基板處理部分被設置成用作在條狀柔性基板上形成圖案的處理室，條狀柔性基板傳送到基板處理部分，在基板處理部分的至少一部分中，設置其中通過設置在沉積室中的沉積設備形成的薄膜或通過設置在處理室中的圖案形成設備在條狀柔性基板上形成圖案的上下傳送系統，并且薄膜層疊片卷繞成輥狀以使條狀柔性基板的寬度方向呈橫向姿態或縱向姿態，在用于將薄膜層疊片卷繞成輥狀的卷繞設備的前面設置調節輥，以防止在卷繞時條狀柔性基板在夾持輥和卷繞設備之間出現松動，并且抑制因卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響，以及一對夾持輥排列在調節輥的前面以在寬度方向上夾住薄膜層疊片的至少一端的方式傳送薄膜層疊片。檢測設備可被設置成檢測薄膜層疊片相對于調節輥的進入角，并且在檢測設備的檢測數據的基礎上控制夾持輥的傾斜角和壓縮力。
其部分在條狀柔性基板的寬度方向上可移動的LPC輥可用作卷繞輥。本發明的效果根據權利要求1，由于在卷繞設備的前方設置調節輥，因此有可能防止在卷繞時條狀柔性基板在夾持輥和卷繞設備之間出現松動，并且抑制因卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響。在組合夾持輥和調節輥的情況下，可制成EPC輥的替代結構。由于制成不如EPC輥貴的結構，因此比現有技術更節約成本。根據權利要求2，有可能減小薄膜層疊片的進入角以在基準位置維持薄膜層疊片。根據權利要求3，由于LPC輥用作卷繞輥，因此有可能消除在卷繞薄膜層疊片中涉及的未對準。根據權利要求4，由于在卷繞設備的前面設置調節輥，因此有可能防止在卷繞時條狀柔性基板在夾持輥和卷繞設備之間出現松動，并且抑制因卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響。在組合夾持輥和調節輥的情況下，可制成EPC輥的替代結構。由于制成不如EPC輥貴的結構，因此比現有技術更節約成本。根據權利要求5，有可能減小薄膜層疊片的進入角以在基準位置維持薄膜層疊片。根據如權利要求6，由于LPC輥用作卷繞輥，因此有可能消除在卷繞薄膜層疊片中涉及的未對準。附圖簡述

圖1示出用于制造根據本發明的實施例的薄膜層疊片的裝置，并且(a)是前視圖、 而(b)是沿圖1(a)的線B-B所取的截面圖。圖2(a)是圖1(a)的局部放大圖，而(b)是圖2(a)的平面圖。圖3示出本發明的另一實施例，并且(a)是前視圖、而(b)是圖3(a)的前視圖。圖4示出用于制造根據本發明的另一實施例的薄膜層疊片的裝置，其中在上下方向上傳送薄膜層疊片，并且(a)是前視圖、而(b)是沿圖4(a)的線C-C所取的截面圖。圖5(a)是圖4(a)的局部放大圖，而(b)是圖5(a)的左側視圖。用于實現本發明的最佳模式在下文中，將參考附圖詳細地描述用于制造根據本發明的實施例的薄膜層疊片的
直ο圖1(a)和(b)示出用于制造薄膜層疊片的裝置的實施例。圖2(a)和(b)以放大比例示出圖1(a)的卷繞設備。圖1 (a)示出其中條狀柔性基板1卷繞成輥狀的退繞輥2，其中在條狀柔性基板1 上實現膜形成的沉積室3，以及向其傳送在沉積室3中進行膜形成的薄膜層疊片IA且在維持在給定高度的同時卷繞薄膜層疊片IA的卷繞輥4。在圖1和2中，在水平方向上從退繞輥2傳送條狀柔性基板1，其中在條狀柔性基板1的寬度方向呈垂直方向的狀態中條狀柔性基板1卷繞成輥狀，并且退繞輥2通過在氣氛中在沉積室3中的等離子體放電進行膜形成。所得薄膜層疊片IA順序地被用作卷繞設備的卷繞輥4卷繞。沉積室3通常被配置成高頻電極5和嵌有加熱器的接地電極6相對排列。在沉積室3處于真空的狀態中在氣氛中生成等離子體放電，并且在排列于電極5和6 兩者之間的柔性基板1上實現膜形成。驅動卷繞輥4繞垂直軸旋轉，并且輥的直徑隨著薄膜層疊片IA卷繞逐漸增大。在卷繞輥4的上游側，設置數對上夾持輥和下夾持輥7和8。夾持輥7和8在夾住薄膜層疊片 IA的上端和下端的同時傳送薄膜層疊片1A。如在本實施例中，當在使柔性基板的寬度方向呈縱向姿態的狀態下傳送柔性基板時，可傳送薄膜層疊片1A，同時只有薄膜層疊片IA的上端夾在上夾持輥7的中間。具有給定直徑的調節輥9設置在卷繞輥4的前面，即，設置在卷繞輥4與夾持輥7 和8之間。調節輥9向薄膜層疊片IA施加張力，同時薄膜層疊片IA以卷繞角(包圍角) 與其接觸。調節輥9沿著給定軌跡在向薄膜層疊片IA施加張力的同時將薄膜層疊片IA饋送到卷繞輥4。具體而言，如圖2(b)所示，薄膜層疊片IA以卷繞角(包圍角)與調節輥9 接觸，從而改變到卷繞輥4的傳送方向并且由卷繞輥4生成張力。夾持輥7和8包括引導薄膜層疊片IA在薄膜層疊片IA的寬度方向是垂直方向的狀態中傳送、同時夾住上側(即，薄膜層疊片IA的一側)的兩邊的一對上夾持輥7，以及引導薄膜層疊片1A、同時夾住下側(即，薄膜層疊片IA的另一側)的兩個表面的一對下夾持輥8。驅動一對上夾持輥7，從而使其繞其垂直軸反向旋轉以傳送薄膜層疊片1A、同時以給定壓力夾住薄膜層疊片1的上側(即，薄膜層疊片IA的一側)的兩個表面。類似于上夾持輥7，驅動一對下夾持輥8，從而使其繞其垂直軸反向旋轉以傳送薄膜層疊片1A、同時以給定壓力夾住薄膜層疊片1的下側(即，薄膜層疊片IA的另一側)的兩個表面。檢測位置的傳感器10和11分別設置在調節輥9的前面和后面。傳感器10和11 是例如光學傳感器等。傳感器10檢測薄膜層疊片IA相對于調節輥9的進入角，并且傳感器11檢測薄膜層疊片IA相對于卷繞輥4的進入角。在進入角的檢測結果的基礎上調節夾持輥7和8的壓縮力。傳感器10和11檢測例如其相對于薄膜層疊片IA的位置，由此在位置差異的基礎上檢測薄膜層疊片IA的進入角。夾持輥7和8的壓縮力由控制設備12控制。控制設備12在來自傳感器10和11 的檢測結果的基礎上計算必需的壓縮力。根據上述實施例，在條狀柔性基板1的寬度方向是垂直方向的狀態中傳送的條狀柔性基板1通過沉積室3中的等離子體放電進行膜形成，并且作為薄膜層疊片IA來饋送、 同時夾在夾持輥7和8中間。薄膜層疊片IA穿過調節輥9，并且卷繞卷繞輥4。此時，相對于調節輥9的進入角由傳感器10和11檢測，并且將檢測結果發送到控制設備12，從而調節設置在調節輥9的前面的夾持輥7和8的壓縮力。以此方式，防止薄膜層疊片IA的松動或下垂，并且薄膜層疊片IA以給定高度卷繞卷繞輥4。圖3(a)和(b)是示出本發明的另一實施例的概念圖。與圖2(a)和(b)中的部件相同的部件由相同的附圖標記表示，并且其描述將不再贅述。在此情況下，由于LPC輥用于卷繞輥13，因此其他設備的配置和動作與圖2 (a)和(b)中的配置和動作相同。在此情況下，由于LPC輥用于卷繞輥13，因此有可能在卷繞時通過向上和向下移動卷繞輥13來改變卷繞輥13，如附圖的雙點劃線所指示的。由此，根據已傳送薄膜層疊片 IA的高度來調節卷繞輥13的高度，由此防止卷繞輥13中的薄膜層疊片IA的卷繞未對準。 薄膜層疊片IA的高度由夾持輥7和8控制，由此控制薄膜層疊片IA相對于調節輥9的進入角的出現。卷繞輥13可通過設置在調節輥9和卷繞輥13之間的傳感器11來改變其位置以與薄膜層疊片IA的高度相對應。夾持輥7和8不能抑制的、薄膜層疊片IA的高度根據薄膜層疊片IA相對于調節輥9的進入角的改變可由傳感器10測量，并且可調節卷繞輥13的高度。以此方式，同時執行對薄膜層疊片IA相對于調節輥9的進入角的控制和對卷繞輥13中的卷繞高度的調節，由此進一步改進卷繞輥13的卷繞精度。在使用LPC輥作為卷繞輥13的情況下，成本增加，但是比使用EPC輥的情況低。圖4(a)和(b)示出用于制造薄膜層疊片的裝置的另一實施例，其中在上下方向上傳送薄膜層疊片。與圖1(a)和(b)中的部件相同的部件由相同的附圖標記表示。圖5(a) 和(b)以放大比例示出圖4(a)的卷繞設備。圖4(a)示出其中條狀柔性基板21卷繞成輥狀、從而在上下方向上傳送條狀柔性基板21的退繞輥22，用作其中在條狀柔性基板21上實現膜形成的沉積室或其中在條狀柔性基板21上形成圖案的處理室的基板處理部分23，以及向其傳送在基板處理部分23中通過膜形成的薄膜沉積室21A且卷繞薄膜層疊片21A的卷繞輥M。在圖4和5中，其中條狀柔性基板21卷繞成輥狀的退繞輥22被安排成在傳送進程的至少一部分中，在上下方向上從頂部向底部或從底部向頂部傳送條狀柔性基板21。例如，基板處理部分23排列在從頂部向底部傳送的條狀柔性基板21的一半位置處，并且通過在氣氛中在沉積室中的等離子體放電或通過激光圖案形成設備在條狀柔性基板21上形成圖案而在條狀柔性基板21上實現膜形成。通過等離子體放電或激光圖案形成進行膜形成的薄膜層疊片21A順序地被用作排列在底部側的卷繞設備的卷繞輥M卷繞。如在上述實施例中，沉積室在沉積室23處于真空的狀態中生成等離子體放電，并且在排列在電極25和沈之間的柔性基板21上實現膜形成。驅動卷繞輥M以在寬度方向上繞薄膜層疊片21A的軸旋轉，并且輥的直徑隨著薄膜層疊片21A卷繞而逐漸增大。在卷繞輥對的上游側，在寬度方向上設置數對夾持輥27 和觀。夾持輥27和觀在夾住薄膜層疊片21A的上端和下端的同時傳送薄膜層疊片21A。 具有給定直徑的調節輥四設置在卷繞輥M的前面，即，設置在卷繞輥M與夾持輥27和觀之間。由于在卷繞時卷繞輥的直徑的增大，調節輥四可防止夾持輥和卷繞設備之間的條狀柔性基板出現松動，并且可抑制包圍角的改變和對條狀柔性基板的傳送軌跡的影響。調節輥四沿著給定軌跡將薄膜層疊片21A饋送到卷繞輥24，同時向薄膜層疊片21A施加張力。雖然在本實施例中，退繞輥22和卷繞輥M被排列成條狀柔性基板21和薄膜層疊片2IA的寬度方向相對于底部是水平方向，但是本發明并不限于此。退繞輥22和卷繞輥M 可被排列成條狀柔性基板21和薄膜層疊片21A的寬度方向呈縱向姿態，并且在上下方向上傳送基板處理部分23。當條狀柔性基板21和薄膜層疊片21A的傳送姿態是縱向姿態時，排列至少上夾持輥27應該足夠了。當傳送方向是上下方向時，需要條狀柔性基板21和薄膜層疊片21A的兩側在寬度方向上夾在夾持輥27和28中間。夾持輥27和觀包括一對一側夾持輥27，其引導在寬度方向是橫向方向的狀態中在上下方向上傳送、同時在寬度方向上夾住薄膜層疊片21A的一側上的兩個表面的薄膜層疊片21A的，以及一對另一側夾持輥觀，其引導薄膜層疊片21A、同時在寬度方向上夾住薄膜層疊片21A的另一側的兩個表面。驅動一對一側夾持輥27以在寬度方向上繞薄膜層疊片21A的軸(即，橫向方向上的軸)反向旋轉，從而在以給定壓力夾住薄膜層疊片21A的一側的兩個表面的同時傳送薄膜層疊片21。類似于一側夾持輥27，驅動一對另一側夾持輥 28以在寬度方向上繞薄膜層疊片21A的軸反向旋轉，從而在以給定壓力在寬度方向上夾住薄膜層疊片21A的另一側的兩個表面的同時傳送薄膜層疊片21。如在圖1的實施例中，檢測位置的傳感器10和11分別位于調節輥四的前面和后面。傳感器10和11是例如光學傳感器等，并且檢測薄膜層疊片21A相對于調節輥四的進入角。在進入角的檢測結果的基礎上調節夾持輥27和觀的壓縮力。傳感器10和11檢測例如其相對于薄膜層疊片21A的位置，由此在位置差異的基礎上檢測相對于薄膜層疊片 2IA的進入角。夾持輥27和28的壓縮力由控制設備12控制。控制設備12在來自傳感器10和 11的檢測結果的基礎上計算必需的壓縮力。根據上述實施例，在上下方向上從頂部向底部從其中條狀柔性基板21卷繞成輥狀的退繞輥22傳送條狀柔性基板21。從頂部向底部傳送的條狀柔性基板21通過在基板處理部分23中的等離子體放電進行膜形成，并且作為薄膜層疊片21A來饋送、同時夾在夾持輥27和觀中間。薄膜層疊片21A穿過調節輥四，并且卷繞卷繞輥M。此時，相對于調節輥四的進入角由傳感器10和11檢測，并且將檢測結果發送到控制設備12，從而調節設置在調節輥四的前面的夾持輥27和觀的壓縮力。以此方式，防止薄膜層疊片21A的松動或下垂，并且薄膜層疊片21A卷繞卷繞輥24。在上述實施例中，在圖3的實施例中已描述的LPC輥可用作卷繞輥M。在此情況下，在使用LPC輥作為卷繞輥M的情況下，有可能在卷繞時通過向上和向下移動卷繞輥來改變卷繞輥的位置，如附圖的雙點劃線所指示的。因此，有可能調節薄膜層疊片21A在寬度方向上的位置以防止薄膜層疊片21A的卷繞未對準。本發明不限于上述各實施例。例如，雖然在圖1的實施例中，調節夾持輥7和8的壓縮力來控制薄膜層疊片IA的高度，但是可傾斜數對上夾持輥和下夾持輥7和8的旋轉軸以調節傾斜角，由此控制薄膜層疊片IA的高度。在此情況下，一對上夾持輥7的傾斜角被調節成通常向上引導薄膜層疊片1A，由此維持薄膜層疊片IA的高度。傾斜一對下夾持輥8 以相對于上夾持輥7向下拉伸，從而在薄膜層疊片IA中未出現褶皺。因此，當薄膜層疊片 IA仍然降低時，夾持輥8的傾斜角可被設置成使一對下夾持輥8被水平地維持。針對夾持輥7和8，可一起進行對壓縮力的調節和對傾斜角的調節。雖然在上述實施例中，進入角由傳感器10和11檢測，但是進入角可通過其他方法來檢測。雖然在上述實施例中，已描述了單向傳送，但是本發明可應用于雙向傳送。在此情況下，當在退繞輥2或22中設置調節輥9或四以及夾持輥7和8或27和28時，可獲得相同的效果。傳感器10和11可排列成將調節輥9或四夾在中間。應當注意，可作出各種改變，而不背離本發明的要旨。
權利要求
1.一種用于制造薄膜層疊片的裝置，其特征在于，在使卷繞成輥狀的條狀柔性基板的寬度方向呈縱向姿態的狀態下在橫向方向上傳送所述條狀柔性基板，在所述條狀柔性基板的傳送方向上設置沉積室，所述條狀柔性基板傳送到所述沉積室，通過設置在所述沉積室中的沉積設備在所述條狀柔性基板上形成薄膜，并且薄膜層疊片被卷繞成輥狀，在用于將所述薄膜層疊片卷繞成輥狀的卷繞設備的前面設置調節輥，以防止在卷繞時所述條狀柔性基板在夾持輥和所述卷繞設備之間出現松動，并且抑制因所述卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及所述條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響，以及一對夾持輥排列在所述調節輥的前面以在維持給定高度的同時夾住所述薄膜層疊片的上端來傳送所述薄膜層疊片。
2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，檢測設備被設置成檢測所述薄膜層疊片相對于所述調節輥的進入角，并且在所述檢測設備的檢測數據的基礎上控制所述夾持輥的傾斜角和壓縮力的至少之一。
3.如權利要求2所述的裝置，其特征在于，其位置在所述條狀柔性基板的寬度方向上可移動的LPC輥用于所述卷繞輥。
4.一種用于制造薄膜層疊片的裝置，其特征在于， 在上下方向上傳送卷繞成輥狀的條狀柔性基板，在所述條狀柔性基板的傳送方向上設置沉積室，或者基板處理部分被設置成用作在所述條狀柔性基板上形成圖案的處理室，所述條狀柔性基板被傳送到所述基板處理部分，設置上下傳送系統，在所述上下傳送系統中，通過設置在所述沉積室中的沉積設備形成薄膜或通過設置在所述處理室中的圖案形成設備在所述條狀柔性基板上形成圖案的上下傳送系統，并且薄膜層疊片卷繞成輥狀以使所述條狀柔性基板的寬度方向呈橫向姿態或縱向姿態，在用于將所述薄膜層疊片卷繞成輥狀的卷繞設備的前面設置調節輥，以防止在卷繞時所述條狀柔性基板在夾持輥和所述卷繞設備之間出現松動，并且抑制因所述卷繞輥的直徑增大而導致包圍角產生變化以及所述條狀柔性基板的傳送軌跡受到影響，以及一對夾持輥排列在所述調節輥的前面以以在所述寬度方向上夾住所述薄膜層疊片的至少一端的方式傳送所述薄膜層疊片。
5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，檢測設備被設置成檢測所述薄膜層疊片相對于所述調節輥的進入角，并且在所述檢測設備的檢測數據的基礎上控制所述夾持輥的傾斜角和壓縮力的至少之一。
6.如權利要求5所述的裝置，其特征在于，其位置在所述條狀柔性基板的寬度方向上可移動的LPC輥用于所述卷繞輥。
全文摘要
公開了一種用于制造薄膜層疊片的裝置，該裝置能夠防止在傳送時條狀柔性基板松動或在卷繞時條狀柔性基板相對于卷繞輥未對準。在用于制造薄膜層疊片的裝置中，在使卷繞成輥狀的條狀柔性基板的寬度方向呈縱向姿態的狀態下在橫向方向上傳送條狀柔性基板，在條狀柔性基板的傳送方向上設置沉積室，條狀柔性基板傳送到沉積室，通過設置在沉積室中的沉積設備在條狀柔性基板上形成薄膜，并且薄膜層疊片被卷繞成輥狀。調節輥9設置在將薄膜層疊片1A卷繞成輥狀的卷繞設備4的前面，并且一對夾持輥7和8排列在調節輥9的前面以在維持給定高度的同時夾住薄膜層疊片1A的至少上端來傳送薄膜層疊片1A。
文檔編號H01L31/04GK102471881SQ20108002873
公開日2012年5月23日 申請日期2010年8月4日 優先權日2009年8月6日
發明者山田隆典, 橫山勝治, 西澤正紀 申請人:富士電機株式會社