專利名稱：：一種平面光源器件及其制備方法一種平面光源器件及其制備方法
技術領域：
：本發明涉及有機光電領域，特別是一種平面光源器件及其制備方法。
背景技術：
：平面光源被廣泛地應用于各個領域，例如，作為液晶顯示器的背光源。平面光源通常由線性光源如冷陰極熒光(CCFL)管與平面(二維)光引導/擴散層一起制成，以便在一個可以散射出光的平面內散射光。點光源，例如小型燈或者其它光源如發光二極管的二維陣列在一定程度上也被認為是平面光源，但成本較高；利用真空管內部的電子束激發熒光層的場致發射裝置(FED)也可以認為是一種平面光源的顯示器件，然而，對于場致發射裝置而言，需要具有高電子發光效率的優良電極和高真空，故此，場致發射裝置中的熒光體需要高效率地把電子轟擊能量轉換成可見光；由二維氣體放電和熒光層組成的真實平面光源，例如采用惰性氣體交叉放電，激發熒光體發光的平面介質阻擋放電的光源。現在引起較為廣泛關注的有機電致發光二極管(0LED)的平面光源具有諸多優點，例如少陰影，能耗低、工作電壓低，使用與維護安全，均勻發光、不閃爍等，但因為材料發光亮度較低而沒有得到廣泛的商業化應用。鑒于以上問題，實有必要針對以上技術進行改進，以利于廣泛應用。
發明內容本發明所要解決的技術問題是提供一種平面光源器件及其制備方法，其不但發光均勻而且亮度得到提高。為解決以上技術問題，本發明提供了一種平面光源器件的制備方法，包括以下步驟第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在7(TC-S(TC下恒溫攪拌2h-3h，配制成載體后，轉移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8ym，0.3g作為分散劑的BYK171，0.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及lg二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1Pm，放入盛有載體的研缽中共同研磨半小時，配成熒光粉漿料，備用；第三步取下玻璃基板，用洗潔精清洗干凈吹干后，在其上用絲網印刷方法印刷第二步中配成的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層；第四步A)將帶有銦錫氧化物的上玻璃基板，清洗干凈并吹干，將上玻璃基板的下表面封接框和印刷有熒光粉層的下玻璃基板的封接框內均勻地涂覆一層低玻粉；B)在燒結爐中37(TC脫氣15min;C)通入氮氣保護氣，在46(TC保溫20min，從而完成上玻璃基板和下玻璃基板的封接，待用；第五步在氮氣氛圍的手套箱中分別將聚(甲基-苯基硅烷)(PMPS)禾P2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-嗯二唑(BBD)溶解于甲苯溶液中，并在40°C-5(TC加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液和2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-嗯二唑聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉移到氮氣氛圍的手套箱中并固定在勻膠機上，用帶有濾頭的注射器將聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液涂滿整個上玻璃基板具有銦錫氧化物導電層的表面，使勻膠機以2500r/min旋轉60s，然后移轉到加熱臺上在8(TC加熱退火30min，從而，在銦錫氧化物導電層表面形成一層聚(甲基-苯基硅烷)薄膜，即PMPS層；第七步用帶有濾頭的注射器將2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-嗯二唑聚合物溶液涂滿整個PMPS層，使勻膠機以2000r/min旋轉60s，然后，移轉到加熱臺上在8(TC加熱退火30min，從而在PMPS層形成一層2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-嗯二唑薄膜，即BBD層(6);第八步將上述第七步中得到的器件轉移到真空鍍膜機的腔體中進行蒸鍍，即得到金屬陰極層。第九步將上玻璃基板的銦錫氧化物導電層和金屬陰極層分別連接直流電源的正極和負極引線，再在氮氣氛圍的手套箱中，用背板將陰極和由PMPS層和BBD層組成的有機功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。為實現上述目的，本發明進一步提供了一種平面光源器件，其采用上述制備方法制備。與現有技術相比，本發明平面光源器件及其制備方法至少具有以下優點由于本發明的熒光粉層中加入有氧化硅微粒，因此可以提高熒光粉與玻璃基板的粘結力和增加光散射，提高光源亮度。圖1是本發明第一實施例中的平面光源器件的結構示意圖；圖2是本發明第二實施例中的平面光源器件的結構示意圖。所述附圖中的標號與元件的對應關系如下<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>具體實施方式下面結合附圖詳細介紹本發明平面光源器件的制備方法實施例一，請參見圖l:第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在7(TC-8(TC下恒溫攪拌2-3h，配制成載體后，轉移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8ym，O.3g的BYK171分散劑，O.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及lg二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1Pm，放入盛有上述載體的研缽中共同研磨半小時，配成熒光粉漿料，備用；第三步將下玻璃基板2，本實施例中用的是超白玻璃，用洗潔精清洗干凈并吹干后，在其上用絲網印刷方法印刷第二步中配成的10m厚的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層3;第四步A)將帶有銦錫氧化物(ITO)的上玻璃基板l，在本實施例中用的是石英導電玻璃，其一個表面帶有ITO導電層4，清洗干凈并吹干，將上玻璃基板1的下表面封接框和印刷有熒光粉層3的下玻璃基板2的封接框內均勻地涂覆一層低玻粉9，低玻粉9的厚度在100-200iim;B)在燒結爐中370。C脫氣15min;C)通入氮氣保護氣，在460。C保溫20min，從而完成上玻璃基板1和下玻璃基板2的封接，待用；第五步在氮氣氛圍的手套箱中分別將20mg固態的聚(甲基_苯基硅烷)(PMPS)和20mg的2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-嗯二唑(BBD)溶解于1ml甲苯溶液中，并在40°C-S(TC加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的PMPS聚合物溶液和BBD聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉移到氮氣氛圍的手套箱中并固定在勻膠機上，用帶有濾頭的注射器將PMPS聚合物溶液涂滿整個上玻璃基板1的ITO導電層4表面，使勻膠機以2500r/min旋轉60s，然后移轉到加熱臺上在8(TC加熱退火30min，從而，在ITO導電層4表面形成一層lOOnm厚的PMPS薄膜，即PMPS層5;第七步用帶有濾頭的注射器將第六步的BBD聚合物溶液涂滿整個PMPS薄膜表面，使勻膠機以2000r/min旋轉60s，然后，移轉到加熱臺上在8(TC加熱退火30min，從而在PMPS薄膜表面形成一層60nm厚的BBD薄膜，即BBD層6;第八步將第七步中得到的器件轉移到真空鍍膜機的腔體中進行蒸鍍，其中，真空鍍膜機的下部放置有架在架子上的電阻絲，電阻絲上放置有金屬鋁，且電阻絲兩端加有電壓，第七步得到的器件放置于真空鍍膜機的上部，當腔體中真空度在高于2*10—4Pa時，金屬鋁蒸發，附在BBD層表面，從而形成厚度為150nm的金屬陰極層。第九步將ITO導電層4和金屬陰極層7分別連接直流電源的正極和負極引線，再在氮氣氛圍的手套箱中，用背板8將金屬陰極層7和由PMPS層5和BBD層6組成的有機功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。實施例二，請參閱圖2所示本實施例與實施例一的區別在于熒光粉層3制備在上玻璃基板1的下表面，即將帶有銦錫氧化物(ITO)的上玻璃基板1清洗干凈并吹干后在上玻璃基板1沒有ITO導電層的一面用絲網印刷方法印刷一層熒光粉漿料，從而，形成熒光粉層3，熒光粉層3的厚度為lOym。其他制作過程均相同，在此不做贅述。表1為本發明光源器件和傳統的光源器件的相關數據對比，其中，A1-A3為傳統光源，即平面介質阻擋放電光源，Bl-B3為本發明的平面光源表1<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>以上所述僅為本發明的一種實施方式，不是全部或唯一的實施方式，本領域普通技術人員通過閱讀本發明說明書而對本發明技術方案采取的任何等效的變換，均為本發明的權利要求所涵蓋。權利要求一種平面光源器件的制備方法，包括以下步驟第一步稱取5g乙基纖維素和45g松油醇，置于干凈的燒杯中，在70℃-80℃下恒溫攪拌2h-3h，配制成載體后，轉移到研缽中；第二步稱取50g的CCFL熒光粉，熒光粉顆粒粒徑為6.8μm，0.3g作為分散劑的BYK171，0.4g作為消泡劑的羥基二甲基硅氧烷，以及1g二氧化硅，其中，二氧化硅粒徑小于1μm，放入盛有載體的研缽中共同研磨半小時，配成熒光粉漿料，備用；第三步取下玻璃基板(2)，用洗潔精清洗干凈吹干后，在其上用絲網印刷方法印刷第二步中配成的熒光粉漿料，從而形成熒光粉層(3)；第四步A)將帶有銦錫氧化物的上玻璃基板(1)清洗干凈并吹干，將上玻璃基板(1)的下表面封接框和印刷有熒光粉層(3)的下玻璃基板(2)的封接框內均勻地涂覆一層低玻粉(9)；B)在燒結爐中370℃脫氣15min；C)通入氮氣保護氣，在460℃保溫20min，從而完成上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)的封接，待用；第五步在氮氣氛圍的手套箱中分別將聚(甲基-苯基硅烷)和2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-噁二唑溶解于甲苯溶液中，并在40℃-50℃加熱攪拌3h，從而得到攪拌均勻的聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液和2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-噁二唑聚合物溶液，以備后用；第六步將第四步中封接好的上玻璃基板和下玻璃基板轉移到氮氣氛圍的手套箱中并固定在勻膠機上，用帶有濾頭的注射器將聚(甲基-苯基硅烷)聚合物溶液涂滿整個上玻璃基板(1)上具有銦錫氧化物導電層的面，然后，使勻膠機以2500r/min旋轉60s，然后移轉到加熱臺上在80℃加熱退火30min，從而，在銦錫氧化物導電層表面形成一層聚(甲基-苯基硅烷)薄膜，即PMPS層(5)；第七步用帶有濾頭的注射器將2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-噁二唑聚合物溶液涂滿整個PMPS層，使勻膠機以2000r/min旋轉60s，然后，移轉到加熱臺上在80℃加熱退火30min，從而在PMPS層形成一層2，5-雙(4-聯苯)-1，3，4-噁二唑薄膜，即BBD層(6)；第八步將上述第七步中得到的器件轉移到真空鍍膜機的腔體中進行蒸鍍，即得到金屬陰極層(7)；第九步將上玻璃基板的ITO導電層和金屬陰極層(7)分別連接直流電源的正極和負極引線，再在氮氣氛圍的手套箱中，用背板(8)將陰極和由PMPS層和BBD層組成的有機功能層用紫外固化膠，在紫外燈下照射12min封裝起來，從而得到平面光源器件。2.—種平面光源器件，其特征在于包括上玻璃基板(1)、與上玻璃基板(1)相對的下玻璃基板(2)、置于上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)之間的熒光粉層(3)、依次置于上玻璃基板(1)上的聚(甲基-苯基硅烷)薄膜層(5)、聚2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層(6)，以及置于聚2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層(6)上的金屬陰極層(7)，其中，上玻璃基板(1)上表面設有ITO導電層(4)，所述金屬陰極層(7)和由聚(甲基-苯基硅烷)薄膜層和聚2，5-雙(4-聯苯)-l，3，4-噁二唑薄膜層組成的有機功能層被紫外固化膠用背板(8)封裝。全文摘要本發明公開了一種平面光源器件及其制備方法，其中，本發明制備方法由于在制備熒光粉漿料中，增加了二氧化硅微粒，如此，可以提高熒光粉與玻璃基板的粘結力，提高光源的亮度。文檔編號H01L51/52GK101794867SQ20101012428公開日2010年8月4日申請日期2010年3月15日優先權日2010年3月15日發明者王香申請人:彩虹集團公司