專利名稱：真空處理裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種真空處理裝置，尤其涉及用于在基片上進行蝕刻處 理或噴鍍處理的真空處理裝置，例如用于液晶顯示屏(LCD)面板的玻璃 上，半導體晶片上，等等。
背景技術：
所述真空處理裝置是一種通過在真空狀態下使用物理或化學反應， 例如等離子體反應等在基片上進行蝕刻處理或噴鍍處理的裝置，例如用 于液晶顯示屏面板的玻璃上，半導體晶片上。
所述真空處理裝置包括一真空處理腔，用于在基片上進行蝕刻處理 或噴鍍處理；和一轉移腔，用于將基片從負載鎖定腔轉移到真空處理腔 以及將基片從真空處理腔轉移到負載鎖定腔。
同時，上述的腔室，特別是所述真空處理裝置的真空處理腔需要打 開進行保養或維修。
圖1是傳統的真空處理裝置的透視圖，其上蓋是可開啟的。
如圖l所示，在真空處理裝置中，作為主要處理小面積基片的半導
體處理裝置，上蓋3是從腔體1通過4交鏈5和氣缸7打開的。
但是，如圖1所示，其很難完全開啟上蓋3并在真空處理裝置的腔 體1中替換安裝的內部器件。
特別是，由于在半導體處理裝置中用于處理大面積基片所安裝的內 部器件十分沉重，要使用起重機替換內部器件。然而所迷的內部器件不 能懸掛在起重機上，因為圖1所示的半導體處理裝置的上蓋3不能翻轉。 盡管通過擴大半導體處理裝置，圖1中的半導體處理裝置上蓋能以 180°角翻轉，但缺陷是半導體處理裝置的門器件也被擴大，并且半導體 處理裝置的打開狀態不穩定。
圖2至圖4表示傳統真空處理裝置另一例子上蓋打開過程的透視圖。 圖2中的真空處理裝置，在韓國已公布專利文獻NO.10-2001-0067439 中公開，其通過提供一旋轉提升設備15提升上蓋13從腔體11到一預定 的高度。并且如圖3所示，通過使用一移動設備17將上蓋13移動到一 可旋轉位置。然后如圖4所示，通過使用旋轉提升設備15打開上蓋13。 在圖2至圖4中，移動設備17包括第一移動設備17a，和第二移動設備 17b。
同時，由于傳統真空處理裝置中旋轉提升設備和移動設備是組合而 成，很難安裝旋轉提升設備和移動設備。
另外，盡管對高度在確定范圍的傳統處理裝置安裝門設備沒有較大 困難，但在小高度的上蓋上直接安裝門設備卻非常困難。
發明內容
為了解決上述問題，本發明的目的是提供一真空處理裝置，其上蓋 可從下蓋分開而不需要提升上蓋，其通過上蓋和下蓋之間組成的空隙來 連接上蓋和下蓋，構成真空處理裝置。
為了實現上述目的，本發明也提供一真空處理裝置，包括一上蓋和 一下蓋，所述上蓋和下蓋;f皮此相互連接，用上蓋和下蓋之間形成的空隙
組成真空處理空間； 一腔體密封單元通過密封或解封空隙來密封和解封 真空處理單元；以及一空隙保持單元來維持空隙，空隙保持單元安裝在 上蓋和下蓋。
腔體密封單元包括，至少一垂直上蓋在上蓋側壁上安裝的連桿；和 一密封真空處理空間的密封臂，該密封臂和上述連桿的末端連接，并和 上蓋的內表面以及下蓋的內表面相接觸。該密封臂進一步由第一密封部 件和上蓋的內表面相接觸，以及第二密封部件和下蓋的內表面相接觸組 成。
密封臂接收單元根據密封臂的形狀形成一定形狀，其在上蓋的邊緣 形成，為了密封臂連接上蓋和密封真空處理空間。密封臂可有一錐形截 面，上蓋的內表面可有一與密封臂錐形截面相一致的傾斜表面。
腔體密封單元可包括，至少一垂直下蓋在下蓋側壁上安裝的連桿， 和一密封真空處理空間的密封臂，該密封臂和上述連桿的末端連接，并 和下蓋的內表面以及上蓋的內表面相接觸。
空隙保持單元可包括安裝在下蓋四周的第一支撐架，和上蓋連接的 第二支撐架，以及至少一支撐件其一末端通過第一支撐架支撐，另一末
端支撐并連接第二支撐架。
另外，空隙保持單元可包括水平移動單元，用于在水平方向移動上 蓋，和至少一支撐件，用于維持空隙。
水平移動單元可包括第一支撐架可旋轉的和上蓋連接，和第二支撐 架安裝在下蓋的外表面；并且支撐件和第二支撐架連接，沿著第二支撐 架移動，并支撐第一支撐架。
圖1是表示上蓋可打開的傳統真空處理裝置一實例的透視圖。
圖2至圖4是表示傳統真空處理裝置另一實例上蓋打開過程的透視圖。
圖5是表示根據本發明第 一實施例真空處理裝置的透視圖。 圖6是圖5中所示真空處理裝置的投影圖。 圖7是圖5中所示真空處理裝置的真空處理腔的側視圖。 圖8是圖5中所示真空處理裝置的真空處理腔的投影圖。 圖9至ll是圖5中所示真空處理腔打開過程的工作示意圖。 圖12是圖11中所示真空處理腔的透視圖。
圖13是根據本發明第二實施例真空處理裝置真空處理腔的透視圖。 圖14至17是圖13所示真空處理腔打開過程的工作示意圖。 圖18是才艮據本發明的真空處理裝置真空處理腔的剖面圖。 圖19是圖18所示真空處理裝置腔體密封單元的放大剖面圖。 圖20是圖18所示真空處理裝置調整后腔體密封單元的放大剖面圖。 圖21是圖18所示真空處理裝置另一調整后腔體密封單元的放大剖 面圖。
圖22是圖18所示真空處理裝置再另一調整后腔體密封單元的放大 剖面圖。
圖23是平行于圖18所示真空處理腔和傳輸腔連接方向的真空處理 腔的剖面圖。
具體實施例方式
在下文中，本發明所述的真空處理裝置將參照附圖進行詳細說明。 本發明所述真空處理裝置100由多個真空處理腔200構成，多腔類 型用于處理基片比如用于LCD，等離子顯示面板(PDP),有機發光顯示 屏(OLED)的玻璃，等等。這就是說，如圖5和6中所示的真空處理裝 置100,可能由多個傳輸腔120和負載鎖定腔130組成。
三個用于蝕刻或噴鍍的真空處理腔200圍繞傳輸腔120排列。閘門 閥102安裝在傳輸腔120和負載鎖定腔130之間，傳輸腔120和每個真 空處理腔200之間，和負載鎖定腔130的外側開口上。閘門閥102可以 是密閉的或是在各開口選擇性開啟的。
在負載鎖定腔130的外部有兩個盒式支撐單元104,在盒式支撐單 元104上安置有暗盒108。要進行真空處理的基片106被接收進一個暗盒 108中，真空處理完的基片106被接收進另一個暗盒108中。暗盒108可 以通過一升降裝置140提升或降低，并且只有一個暗盒108可以被安裝。 在只有一個暗盒108情況下，真空處理完的基片106被返回到同一個暗 盒108的空閑空間。
一用于傳輸基片106的傳輸裝置160被安裝在兩個暗盒108之間的 支撐單元104上。傳輸設備160由上下排列的臂161， 162和一支撐臂161、 162的基座163構成，所述臂161， 162在基座163上可完整的上升，降 落和旋轉。四個用于支撐基片106的凸體164排列在臂161、 162上。凸 體164由彈性材料比如高摩擦系數的合成橡膠制成，用以防止基片106 移位或掉落。
各個真空處理腔200可包括一上蓋210和一下蓋220,其可分離地 相互連接構成一真空處理空間，在真空處理空間降壓下對基片106進行 真空處理。用于真空處理空間降壓的泵等被安裝在真空處理腔200，為方 便起見省略對它們的詳細描述。
真空處理裝置的傳輸腔120在真空處理腔200降壓下被維持。 一傳 輸裝置121被安裝在傳輸腔120內。傳輸裝置121在負載鎖定腔130和
三個真空處理腔200之間傳輸基片106。傳輸裝置121可由延伸安裝在基 座122上的第一，第二和第三臂123， 124, 125構成。
第一臂123的一末端可旋轉地連接在基座122上，第二臂124的一 末端可旋轉地連接在第一臂123的另一末端上，第三臂125的一末端可 旋轉地連接在第二臂124的另一末端上。第三臂125構成象叉子的形狀 用來支撐基片106。
第一，第二和第三臂123, 124， 125通過一個安裝在基座122內部 的驅動設備(未顯示)驅動，并使第三臂125能夠傳送基片106。基座 122的構造使其可以上移、下移和旋轉。
負載鎖定腔130在真空處理腔200降壓下被維持。負載鎖定腔130 可被向上或向下分隔，待處理的基片106被送入負載鎖定腔130的上部， 處理后的基片106被送入負載鎖定腔130的下部。圖6中的查詢數字131 顯示一支撐基片106的支撐平臺。安排基片106位置的定位器132安裝 在負載鎖定腔130里。
同時，包括上蓋210和下蓋220的真空處理裝置的真空處理腔200 需要被拆開來維持或修理真空處理腔200。
本發明提供各種結構分拆上蓋210和下蓋220，分拆上蓋210和下 蓋220的各種結構將在下文中詳細描述。
圖7至12表示根據本發明第一實施例的真空處理裝置。
根據本發明第一實施例的真空處理腔200,如圖7和8所示，包括 一上蓋210和一下蓋220,上蓋210和下蓋220可分離地相互連接構成一 真空處理空間， 一對下部水平移動單元410,所述下部水平移動單元410 分別安裝在下蓋220的各側； 一對上部水平移動單元420，所述各個上部 水平移動單元420在各個下部水平移動單元410上可旋轉地和上蓋210 連接，并在水平方向上移動從下蓋220上分離的上蓋210;升降單元500
通過下部水平移動單元410支撐并安裝在其上，升降單元500將上蓋210 從下蓋220上分離或通過提升或降低上部水平移動單元420連接上蓋210 與下蓋220。
上蓋210和下蓋220可分離的相互連接，形成用于真空處理基片106 的真空處理空間。 一用于支撐下蓋220的支撐架可被安裝在下蓋220之 下，所述支撐架可由一系列支撐桿221組成。
同時，上蓋210和下蓋220可以有一種結構，例如內凹的容器，同 時上蓋210可以是一平坦的面板，即一蓋子。
一對下部水平移動單元410,如圖7和8所示，可包括安裝在下蓋 220各側的下部？ 1導單元411，和連接各自下部？ 1導單元411的下部水平 移動單元412，其沿著下部引導單元411水平移動。
一對上部水平移動單元420可包括安裝在上蓋210各側的上部引導 單元421，和連接各上部引導單元421的上部水平移動單元422,其沿著 上部引導單元421水平移動并與上蓋210可旋轉連接。
一對旋轉軸123安裝在上蓋210的各個末端，各自插入上部水平移 動單元422中通過其形成的通孔422a,并且至少有該對旋轉軸123之一 與驅動旋轉軸123旋轉的旋轉驅動單元450連接。所述旋轉驅動件450， 如圖5至7所示，可安裝在上部水平移動單元422中的一個上。此外， 旋轉軸123更適于^皮安裝在經過上蓋210重心線的某點上，以便更穩固 地支撐上蓋210。
下部水平移動單元410和上部水平移動單元420的結構可以是導軌 和滑塊構件或滾筒，架子和小齒輪的組合，鏈帶組合，線性運動導軌等 等。
至少下部水平移動單元410和上部水平移動單元420中的一個，如 圖5至8所示，配有驅動馬達430來移動下部水平移動單元412或上部
水平移動單元422。
同時，下部水平移動單元410和下蓋220的側壁連接，更優選的是 其和下蓋220分離，因而防止由于上蓋210的水平移動影響到下蓋220 所引起的振動等。
升降單元500,如圖7和8所示，至少一第一提升移動單元510，該 第一提升移動單元510 —末端和下部引導單元411相連接，該第一提升 移動單元510的另一末端和上部引導單元421相連接，該第一提升移動 單元510提升或降低上部引導單元421,以及至少一第二提升移動單元 520，該第二提升移動單元520的一末端和下部水平移動單元412相連接， 該第二才是升移動單元520的另一末端與上部水平移動單元422相連接， 該第二提升移動單元520提升或降低上部水平移動單元422。
第一提升移動單元510和第二提升移動單元520可以是能上下移動 的任何裝置，例如氣缸或起重螺旋等。
同時，下部引導單元411或下部水平移動單元412可進一步配有用 于支撐下部引導單元411或下部水平移動單元412的支撐件530,如圖7 所示，第一提升移動單元510和第二提升移動單元520可被安裝在支撐 件530上。
同時，本發明第一實施例中的真空處理腔200上蓋210的移動方向， 可垂直于上蓋210連接鄰近腔室的連接方向，例如傳輸腔120，如圖6中 箭頭所示。
在上蓋210在以垂直于上蓋210連接傳輸腔120的連接方向移動的 情況下，和上蓋210以平行于上蓋210連接方向移動的結構相比，真空 處理裝置節省了空間。
本發明的第 一 實施例中真空處理裝置真空處理腔的開啟過程，將參 照圖9至12進行詳細說明。首先，如圖9所示，上蓋210通過操作升降單元50(M皮提升并從下 蓋220上分離，該升降單元500包括第一提升移動單元510和第二提升 移動單元520。
并且如圖10所示，通過驅動驅動馬達430，從下蓋220分離的上蓋 210被水平移動。其中上蓋210被水平移動到遠大于上蓋210旋轉半徑的 位置，因而防止上蓋210的旋轉被干擾。
對上蓋210的水平移動將進行更詳細的描述。
驅動馬達43(^皮驅動用來移動與下部引導單元411相連接的下部水 平移動單元412。通過第二提升移動單元520支撐的上部水平移動單元 422依照下部引導單元411的移動一起移動。因此，和上部水平移動單元 422相連接的上蓋210被水平移動到某一位置。
同時，上蓋210被水平移動到某一位置，如圖11和12所示，通過 旋轉驅動單元450旋轉。其中上蓋210的旋轉方向，根據工人便于保養 和維修上蓋210,可以是順時針或逆時針，并且上蓋210的旋轉角度可以 是從O到180° 。
因為由于驅動馬達430等引起的振動等等，當移動上蓋210不直接 傳遞到下蓋220時，安裝在下蓋220中的內部裝置或其內部環境不會受 到振動等的影響。
本發明第一實施例中真空處理裝置的結構可以被筒化，因為用于旋 轉，升降和水平移動上蓋以及從下蓋分離上蓋的裝置并不作為一組合來 構成。
此外，安裝一個用來分離上蓋，尤其是一個小高度上蓋的設備并不 困難，因為用來從下蓋分離和升降上蓋的裝置是不安裝到上蓋的。
此外，本發明第 一實施例真空處理裝置的上蓋應用于旋轉軸的壓力， 可以被分散并且通過用一系列部件來支撐上蓋造成上蓋在某一方向上傾
斜所引起的危險也可以被阻止。
圖13至17表示本發明的第二實施例的真空裝置。
在下文中，將參照附圖，對本發明的第二實施例中的真空處理裝置 進行詳細描述。其中，與第一實施例類似的結構將被省略，并且與第一實 施例類似的結構將^1標以相同數字。
本發明的第二實施例中的真空處理腔200,如圖13所示，包括一上 蓋210和一下蓋220，上蓋210和下蓋220可分離地互相連接構成真空處 理空間， 一對水平移動單元710各自連接上蓋210的各邊，和一對引導 單元720，各引導單元720被安裝在下蓋220各邊，引導水平移動單元 710的水平移動使水平移動單元710能夠移動。
水平移動單元710與引導單元730相連接并能夠沿其滑動，并且可 包括一個支撐體可旋轉地支撐上蓋210。其中，該支撐體可與一可滑動連 接引導單元720的滑動件相連接。
引導單元720,如圖13所示，可包括安裝在真空處理腔200 —側的 第一引導單元721，例如下蓋220,和支撐水平移動單元710的第二引導 單元722，其可通過升降單元800提升到第一引導單元721的高度。
第一引導單元721固定在安裝到真空處理腔200 —側的第一支撐架 730上。其中，第一支撐架730可被固定在真空處理腔200的一側，或被 可移動地安裝。如果第一支撐架730是可移動地安裝的，真空處理裝置 100的安裝空間可以被有效利用。
第二引導單元722，如圖13所示，支撐與升降單元800的一對升降 移動單元810相連接的水平移動單元710。
同時，用于第一引導單元721和第二引導單元722和水平移動單元 710的連接和驅動可以是任何結構，用來沿著第一引導單元721和第二引 導單元722水平移動所述水平移動單元710,例如可以是導軌和滑塊部件
或軌道，架子和小齒輪的組合，鏈帶組合，線性運動導軌等等。
在另一用于移動水平移動單元710的機械裝置的例子中，用旋轉軸 213與上蓋210連接的水平移動單元710，可通過穿透上蓋210其中的導 向孔(未顯示)在上蓋210的水平方向上形成，滾珠螺旋軸(未顯示) 螺旋連接并插入導向孔(未顯示)中，以及用來旋轉滾珠螺旋軸的驅動 馬達，從而水平地移動上蓋210。
一個驅動單元(未顯示)可被安裝在水平移動單元710上，因此水 平移動單元710可以沿著第一引導單元721和第二引導單元722移動。
升降單元800,如圖13所示，可包括至少一升降移動單元810固定 到支撐和升降第一引導單元722的第二支撐架830上。
一升降移動單元810，如圖13所示，可優選的是一對， 一種可升高 或下降的裝置，例如氣缸，液壓缸或第一實施例中所述的用伺服馬達驅 動的起重螺旋。
同時，第二支撐架830可一起支撐下蓋220。
本發明的第二實施例中真空處理裝置的真空處理腔的開啟過程將進 行詳細描述。
首先，如圖14和15所示，第二引導單元722通過驅動升降單元800 被提升至第一引導單元721的高度。
如圖15所示，當第二引導單元722^皮提升至第一引導單元721的高 度，升降單元800停止驅動，如圖16所示，水平移動單元800被驅動， 上蓋210被從第二引導單元722移動到第一引導單元721。
如圖17所示，當上蓋210到第一引導單元72的移動結束，通過驅 動旋轉驅動單元450,上蓋210被旋轉。
同時，為了維護和修理真空處理裝置，用來從下蓋分離上蓋的分離 過程，包括提升上蓋，和在水平移動上蓋后旋轉上蓋。
然而待處理基片的趨勢是逐漸擴大，用于處理擴大的基片的真空處 理裝置需要被擴大，上蓋和下蓋形成的真空處理空間要被擴大，于是它 們的重量增加，結果導致將上蓋從下蓋分離變得困難。
本發明也提供一真空處理裝置，其上蓋可從下蓋分離而不用提升上。
也就是說，本發明中的真空處理腔，可包括一上蓋210和一下蓋220， 上蓋210和下蓋220相互連接，并在上蓋210和下蓋220之間形成一個 空隙來形成一真空處理空間； 一通過密封或開啟空隙來密封或開啟真空 處理空間的腔體密封單元310;和一用于維持空隙的空隙維護單元320, 空隙保持單元320被安裝到上蓋210和下蓋220上。
腔體密封單元310,如圖18所示，可包括至少一垂直于上蓋210在 上蓋210側壁安裝的連桿312;和一用于密封真空處理空間的密封臂313， 該密封臂313連接到連桿312 —末端并與上蓋210 —內表面和下蓋220 一內表面相接觸。
連桿312垂直上蓋210沿著上蓋210的側壁安裝，可通過一線性運 動裝置(未顯示)上下移動，例如氣缸或液壓缸。
優選的是，連桿312連接上蓋210來密封腔室，以防止真空壓力泄 漏和等離子體反應。連桿312可由絕緣材料制成來防止真空處理空間中 等離子體反應的影響，或者優選的是有絕緣材料涂層在連桿312的表面。
密封臂313根據連桿312的線性移動，通過緊密接觸上蓋210和下 蓋220的內表面來密封真空處理空間。
密封件313a， 313b可進一步連接密封臂313來增強密封效果，如圖 18所示，并且包括緊密接觸上蓋210內表面的第一密封部件313a，和緊 密接觸下蓋220內表面的第二密封部件313b。
同時，密封臂313可由絕緣材料制成以防止真空處理空間中等離子
體反應的影響或優選的是有絕緣材料涂層在密封臂313的表面。
同時， 一用于使連桿上下移動的導向凹槽211在上蓋210的內表面 形成。優選的是可在上蓋210的邊緣形成'L，形等的階梯部分。
也就是說， 一密封臂接受單元214根據密封臂313的形狀形成一定 形狀，其在上蓋210的邊緣形成，為了密封臂313與上蓋210接觸并密 封真空處理空間，如圖18所示。
圖18中的參考數字230表示一進口供來自傳輸腔的基片106傳送進 入，該入口 230在下蓋220上形成用來安裝連桿312。
同時，腔體密封單元310的連桿312和密封臂313被安裝在下蓋220 而不是上蓋210，如圖20所示。其中入口 230在上蓋210上形成。在圖 20和22中的參考數字221表示一導向凹槽用來使在下蓋220的連桿312 能夠上下移動，參考數字224表示一密封臂接受單元。
另外，如圖21和22所示，腔體密封單元310的密封臂313可以是 錐形形狀來加強密封效果。
特別地是，密封臂313面對上蓋210或下蓋220內表面，可優選地 有一錐形截面。
其中上蓋210或下蓋220的內表面有一與密封臂313的錐形截面相 一致的傾斜表面。
同時，如圖23所示，空隙保持單元320可包括圍繞下蓋220安裝的 第一支撐架321，與上蓋210相連接的第二支撐架322，和至少一支撐件 323,其一末端由第一支撐架321支撐，另一末端支撐并連接第二支撐架 322。
第一支撐架321包括從下蓋220分離，或與下蓋220的外表面連接 的分離架。
同時，空隙保持單元320與第一實施例中的上部水平移動單元，下
部水平移動單元和升降單元的結構，與第二具體實施例中的導向單元和
升降單元的結構，或與韓國專利已公布專利文獻No.lO-2001-0067439中 公開的結構，也如圖2至4所示，有相似的結構。
也就是說，第一支撐架321包括一對連接下蓋220外壁的導軌，第 二支撐架322可旋轉地支撐上蓋210。
支撐部件323可和一水平移動單元(未顯示)相連接，并通過該水 平移動單元沿第一支撐架311移動。
其中第 一 實施例和第二實施例中的升降單元500、 800并不需要任何 附加的升降功能來^^人下蓋220分離上蓋210。
也就是說，如圖19至22所示，當需要從下蓋220分離上蓋210來 維護和^f奮理真空處理腔時，密封臂313通過移動連桿312來解封上蓋210 和下蓋220。
當密封臂313解封上蓋210和下蓋220時，第一實施例和第二實施 例中的上蓋210可水平移動到某一確定位置，因為上蓋210和下蓋220 在分離狀態下維護的，在上蓋210和下蓋220之間有一空隙。
通過被旋轉驅動單元旋轉和被暴露到外側，水平移動的上蓋210被 維護和修理。
根據上文所述，在維護和修理時，本發明中的真空處理裝置使上蓋 移動而無需升降，防止了由于上蓋移動所帶來的損害，并且依照本發明 所述真空處理裝置的結構可以被簡化。
本發明中真空處理裝置結構可以被簡化，因為用于旋轉，升降和水 平移動上蓋以及從下蓋分離上蓋的裝置并不作為一組合來構成。
此外，安裝一個分離上蓋的裝置并不困難，特別是小高度的上蓋， 因為用來從下蓋分離和升降上蓋的裝置是不安裝到上蓋的。
此外，本發明真空處理裝置的上蓋應用到旋轉軸的壓力，可以被分
散并且通過用一系列部件來支撐上蓋造成上蓋在某一方向上傾斜所引起 的危險也可以纟皮阻止。
目前介紹和描述了各種優選實施例，但是在本發明所述精神和范疇 下通過理解所述技術可進行多種變化和修改，因此相應地，本發明范疇 并不僅僅局限于上文所描述的范圍，而要依照下列權利要求及其等同物。
權利要求
1.一真空處理裝置，該裝置包括一上蓋和一下蓋，該上蓋和下蓋彼此相互連接，用上蓋和下蓋之間形成的空隙組成真空處理空間；一腔體密封單元通過密封或解封空隙來密封和解封真空處理單元；以及一空隙保持單元用來維持空隙，該空隙保持單元安裝在上蓋和下蓋上。
2. 如權利要求l所述的真空處理裝置，其中腔體密封單元包括，至 少一垂直上蓋在上蓋側壁上安裝的連桿；和一密封真空處理空間的密封 臂，該密封臂和上述連桿的末端連接，并和上蓋的內表面以及下蓋的內 表面相^妄觸。
3. 如權利要求2所述的真空處理裝置，其中該密封臂進一步由第一 密封部件和上蓋的內表面相接觸，以及第二密封部件和下蓋的內表面相 4妄觸組成。
4. 權利要求2或3所述的真空處理裝置，其中密封臂接收單元根據 密封臂的形狀形成一定形狀，其在上蓋的邊緣形成，以使密封臂接觸到 上蓋以及密封真空處理空間。
5. 如權利要求2或3所述的真空處理裝置，其中密封臂可有一錐形 截面，上蓋的內表面可有一與密封臂錐形截面相一致的傾斜表面。
6. 如權利要求1所述的真空處理裝置，其中腔體密封單元包括，至 少一垂直于下蓋，在下蓋側壁上安裝的連桿；和一密封真空處理空間的 密封臂，該密封臂和上述連桿的末端連接，并和下蓋的內表面以及上蓋 的內表面相接觸。
7. 如權利要求l， 2或6所述的真空處理裝置，其中空隙保持單元 包括環繞下蓋安裝的第一支撐架，和上蓋連接的第二支撐架，以及至少 一支撐件其一末端通過第一支撐架支撐，另一末端支撐連接第二支撐架。
8. 如權利要求l, 2或6所述的真空處理裝置，其中空隙保持單元 包括水平移動單元，用于在水平方向移動上蓋，和至少一支撐件，用于 維持空隙。
9. 如權利要求8所述的真空處理裝置，其中水平移動單元包括第一 支撐架可旋轉地和上蓋連接，和第二支撐架安裝在下蓋的外表面；以及支撐部件和第二支撐架連接，沿著第二支撐架移動，并支撐第一支撐架。
全文摘要
本文公開了一種真空處理裝置，其用于在基片上進行蝕刻處理或噴鍍處理，例如用于液晶顯示屏(LCD)面板的玻璃上，半導體晶片上，等等，其包括一上蓋和一下蓋，該上蓋和下蓋彼此相互連接，用上蓋和下蓋之間形成的空隙組成真空處理空間，一腔體密封單元通過密封或解封空隙來密封和解封真空處理單元；以及一空隙保持單元用來維持空隙，該空隙保持單元安裝在上蓋和下蓋上。
文檔編號H01L21/00GK101174552SQ20071018836
公開日2008年5月7日 申請日期2006年1月17日 優先權日2005年2月25日
發明者嚴用鐸, 尹大根, 曹生賢, 李珠熙, 勛 車, 金亨俊, 韓在柄 申請人:Ips有限公司