圖案形成方法及其計算機可讀介質的制作方法

專利名稱：圖案形成方法及其計算機可讀介質的制作方法
技術領域：
本發明涉及圖案直接形成裝置(不使用掩模而執行圖案形成的裝置)中的圖案形成方法及其計算機可讀介質，該圖案直接形成裝置通過使用多個空間光調制元件使對象物(圖案形成目標)的表面曝光來在該對象物的表面上形成所希望的圖案，該空間光調制元件安裝并分配給沿對象物的相對移動方向限定的各個曝光區域。
背景技術：
利用例如數字微反射鏡器件(DMD)等空間光調制元件曝光對象的圖案直接形成裝置，即無掩模曝光裝置為了連續曝光具有較大圖案形成區域的對象基板(對象物)，通過以均勻的傳送速度相對于圖案形成裝置沿一個方向相對移動對象基板，同時根據相對移動改變從空間光調制元件輸出的圖案，來執行曝光過程，以在對象基板的表面上形成圖案(例如參見供參考的JP-A-2005-300805)。在這種情況下，限制了以下區域，在該區域上，一個空間光調制元件可以沿與對象基板的相對移動方向(傳送方向)垂直的方向執行圖案形成一次。這樣，多個空間光調制元件沿與對象基板的傳送方向垂直的方向排列，使得圖案直接形成裝置可以沿此方向在對象物上均勻地執行圖案形成。
當直接曝光在對象基板上形成的抗蝕劑時，使用數字微反射鏡器件的無掩模曝光裝置生成與用于曝光的圖案對應的圖案數據，將圖案數據輸入到數字微反射鏡器件，并根據圖像數據以傾斜方式移動數字微反射鏡器件中多個微反射鏡的每一個。如此，無掩模曝光裝置通過適當地改變通過將光投射到數字微反射鏡器件上而獲得的來自每一微反射鏡的反射光的方向以及使對象基板上的抗蝕劑曝光，來形成與圖案數據對應的曝光圖案(例如參見供參考的JP-A-10-112579)。
數字微反射鏡器件的微反射鏡二維排列，使得每一列的排列方向與每一行的排列方向垂直(例如參見供參考的JP-A-2004-009595)。可以通過使安裝在圖案形成頭(patterninghead)上的數字微反射鏡器件的微反射鏡行(或列)相對于對象基板的相對移動方向(即其上安裝對象基板的工作臺的掃描方向)傾斜預定角度，來以比數字微反射鏡器件的微反射鏡之間的間距更細微的分辨率執行曝光過程。在這種情況下，適當地確定數字微反射鏡器件的微反射鏡的傾斜角度，以便使得對象基板的表面上的一個點通過以大致均勻的間隔彼此隔開定位在掃描線上的多個微反射鏡曝光多次。可以利用多個微反射鏡的多次曝光抑制數字微反射鏡器件中的不均勻照度和不同數字微反射鏡器件之間的不均勻照度。
在圖案直接形成裝置中，由數字微反射鏡器件形成的圖像由于安裝在具有數字微反射鏡器件的圖案形成頭上的光學系統的透鏡像差和組裝透鏡過程中的誤差而失真，因而在多次曝光時出現光點的位置偏移。
圖18A至18D是說明在多次曝光時可能出現在使用數字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置中的光點的位置偏移的示意圖。在圖18A至18D中，每一白色圓點表示由每一微反射鏡在對象基板上形成的相應照射點。如圖18A所示，在這樣的理想情況下，即不存在安裝在圖案直接形成裝置的圖案形成頭上的光學系統的透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等，失真不會出現在對象基板的表面上的圖像中，并且照射點通過微反射鏡以均勻的間隔形成于相同掃描線L上。然而，如上所述，透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等實際上出現在光學系統中。從而，如圖18B至18D所示，在對象基板的表面上的圖像中出現失真，因而發生由微反射鏡形成的照射點的位置偏移。同樣，由于由微反射鏡形成的照射點的位置偏移，所以由微反射鏡形成的相同掃描線L上的照射點之間的間隔變得不均勻。由于光學系統單獨安裝在每一圖案形成頭上，所以由微反射鏡形成的照射點的位置偏移對于每個圖案形成頭，即每個數字微反射鏡器件是不同的。從而，如圖18B至18D所示，通過利用多個微反射鏡的多次曝光獲得的一個照射點中的曝光量(即光照射的累積量)對于每個數字微反射鏡器件是不同的。
圖19是說明利用圖案直接形成裝置中的數字微反射鏡器件的光的照度分布的一個實例的簡圖。如圖所示，三個數字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點和黑色圓點各代表數字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡。各個數字微反射鏡器件D1、D2和D3安裝在圖案直接形成裝置的每一圖案形成頭上，使得二維排列的微反射鏡行(或列)相對于對象基板的相對移動方向傾斜預定角度。
圖19所示黑色圓點表示位于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的微反射鏡排列平面的接合部分(以下稱為“接縫部分(stitchportion)”)附近的微反射鏡。與數字微反射鏡器件的中心附近相比，數字微反射鏡器件的接縫部分處的光的照度由于通過參照圖18B至18D所述的透鏡像差、組裝透鏡過程中的誤差等而減小。由于光的照度分布的不均勻性而在對象基板上出現曝光不均勻性。
圖20是說明使用數字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置的曝光不均勻性和析像不良(defective resolution)之間關系的簡圖。如圖所示，三個數字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板P的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點和黑色圓點分別代表數字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡，并且黑色圓點特別表示存在于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分附近的微反射鏡。
將說明以下情況作為一個實例，即將要成為半導體封裝件的小塊Q1至Q8安裝在對象基板P的表面上，并且配線圖案形成于每一小塊上。另外，在各個小塊Q1至Q8上存在形成高密度配線圖案的區域(圖中用點劃線表示)。特別地，在下文中，形成高密度配線圖案的區域稱為“細微圖案區域”。
在數字微反射鏡器件D1、D2和D3曝光以圖20所示位置關系相對于數字微反射鏡器件D1、D2和D3相對移動的對象基板P時，位于數字微反射鏡器件的中心附近的每一微反射鏡曝光對象基板P上的區域R1、R2和R3，并且位于數字微反射鏡器件的接縫部分附近的每一微反射鏡曝光區域T1和T2。當引起曝光不均勻性的位于數字微反射鏡器件的接縫部分附近的微反射鏡曝光細微圖案區域(用陰影區域表示)(區域T1和T2)時，在相應區域中出現析像不良。
為了去除引起析像不良的曝光不均勻性，可以考慮使用較高精度的光學系統或者以較高精度精細調整圖案形成頭的安裝位置。然而，在組裝或調整圖案直接形成裝置的工作中需要大量時間、勞動和成本。

發明內容
鑒于以上情況做出本發明，本發明提供圖案直接形成裝置中的圖案形成方法及其計算機可讀介質，該圖案直接形成裝置利用多個空間光調制元件使對象物的表面曝光以在該對象物的表面上形成所希望的圖案，該空間光調制元件沿與該對象物的相對移動方向垂直的方向安裝，從而不會在該對象物的表面上出現析像不良。
在某些實施方式中，提供本發明的一種用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成方法，所述圖案形成方法包括確定所述對象物關于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數目的多個預定區域位于穩定曝光區域中，所述預定區域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩定曝光區域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區域的中心部分，所述曝光區域沿所述對象物的所述相對移動方向限定；以及在所確定的布置可用范圍內設定所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的設置位置，以通過分別分配給所述曝光區域的多個空間光調制元件使位于所述穩定曝光區域中的所述預定區域曝光。
也就是說，根據本發明的以上方面，在對象物沿與相對移動方向垂直的方向移動，使得該對象物的表面上本來位于曝光區域的邊界附近的預定區域位于空間光調制元件的曝光區域的中心部分附近之后，所述預定區域由與曝光區域對應的空間光調制元件曝光。
該圖案形成方法可以通過由例如計算機等算術處理單元執行的計算機程序實現。用于執行圖案形成方法的裝置或允許計算機執行該圖案形成方法的計算機程序可以由能夠理解下列說明的所屬領域的技術人員來實現。另外，允許計算機執行圖案形成方法的計算機程序可以存儲在存儲裝置上這一事實已為所屬領域的技術人員所知。
在某些實施方式中，提供本發明的一種具有程序的計算機可讀介質，所述程序包括允許計算機執行用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成處理的指令，所述指令包括確定所述對象物關于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數目的多個預定區域位于穩定曝光區域中，所述預定區域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩定曝光區域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區域的中心部分，所述曝光區域沿所述對象物的所述相對移動方向限定；以及在所確定的布置可用范圍內設定所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的設置位置，以通過分別分配給所述曝光區域的多個空間光調制元件使位于所述穩定曝光區域中的所述預定區域曝光。


圖1是說明根據本發明實施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的第一示例性簡圖。
圖2是說明根據本發明實施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的第二示例性簡圖。
圖3是說明根據本發明實施例的圖案直接形成裝置中的圖案形成方法的操作的流程圖。
圖4是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第一示例性簡圖。
圖5是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第二示例性簡圖。
圖6A和6B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第三示例性簡圖。
圖7A和7B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第四示例性簡圖。
圖8A和8B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第五示例性簡圖。
圖9A和9B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第六示例性簡圖。
圖10A和10B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第七示例性簡圖。
圖11A和11B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第八示例性簡圖。
圖12A和12B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第九示例性簡圖。
圖13A和13B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第十示例性簡圖。
圖14A和14B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第十一示例性簡圖。
圖15A和15B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第十二示例性簡圖。
圖16A和16B是說明根據本發明實施例確定對象基板的設置位置的具體實例的第十三示例性簡圖。
圖17是說明由存儲在計算機可讀介質中的計算機程序執行的根據本發明實施例的圖案形成處理的框圖。
圖18A至18D是說明在通過微反射鏡多次曝光時可能出現在使用數字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置中的光點的位置偏移的示意圖。
圖19是說明利用圖案直接形成裝置中的數字微反射鏡器件的光照度分布的一個實例的簡圖。
圖20是說明使用數字微反射鏡器件的圖案直接形成裝置的曝光不均勻性和析像不良之間關系的簡圖。
具體實施例方式
圖1和圖2是示出根據本發明實施例的圖案直接形成裝置的操作原理的簡圖。在本實施例中，三個數字微反射鏡器件D1、D2和D3沿幾乎與對象基板P的相對移動方向(在圖中用粗箭頭表示)垂直的方向排列。在圖中，白色圓點和黑色圓點分別代表數字微反射鏡器件中二維排列的微反射鏡。特別地，黑色圓點表示存在于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分附近的微反射鏡。在本實施例中，例如將要成為半導體封裝件的小塊Q1至Q8安裝在對象基板P的表面上，并且配線圖案形成于每個小塊上。在每一小塊Q1至Q8上存在細微圖案區域(圖中用點劃線表示)，在該區域中，以較高密度形成配線圖案，達到曝光不均勻性影響析像的程度。另外，數字微反射鏡器件的數目和安裝在對象基板上的小塊的數目不局限于本發明的實施例，而是可以使用其它數目。
利用數字微反射鏡器件D1、D2和D3的曝光區域劃分成兩種區域，即穩定曝光區域R1、R2和R3以及區域T1和T2，穩定曝光區域R1、R2和R3位于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的中心附近，在區域T1和T2中，可能由于存在于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的接縫部分中的微反射鏡而出現曝光不均勻性。
各個小塊Q1、Q3、Q5和Q7沿與相對移動方向垂直的方向排列在對象基板P的表面上。圖1中示出了這樣的狀態，即小塊Q1、Q3、Q5和Q7中最大數目的細微圖案區域存在于數字微反射鏡器件D1、D2和D3的穩定曝光區域R1、R2和R3中。如圖所示，小塊Q1中的細微圖案區域位于數字微反射鏡器件D1的穩定曝光區域R1中，并且小塊Q7中的細微圖案區域位于數字微反射鏡器件D3的穩定曝光區域R3中。當使小塊Q1和Q7中位于穩定曝光區域R1和R3中的細微圖案區域曝光時，對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的位置確定為該對象在與相對移動方向垂直的方向上的設置位置。在本實施例中，通過以圖1所示位置關系使用數字微反射鏡器件D1和D3照射光來使小塊Q1和Q7曝光。同樣，通過在圖1所示位置關系下使用數字微反射鏡器件D1和D3照射光來使分別相對于小塊Q1和Q7沿對象基板的相對移動方向定位的小塊Q2和Q8曝光。
同時，在圖1所示位置關系下，小塊Q3中的細微圖案區域不位于任何穩定曝光區域中，而是位于由處于數字微反射鏡器件D1和D2之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區域T1中。同樣，在圖1所示位置關系下，小塊Q5中的細微圖案區域不位于任何穩定曝光區域中，而是位于由處于數字微反射鏡器件D2和D3之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區域T2中。當細微圖案區域由引起曝光不均勻性的位于接縫部分中的微反射鏡曝光時，可能出現析像不良。從而，在本實施例中，至于小塊Q3和Q5中的細微圖案區域，未在圖1所示位置關系下照射光，因此未使小塊Q3和Q5中的細微圖案區域曝光。
在圖1所示位置關系下，沿與相對移動方向垂直的方向移動對象基板P，以便使得如圖2所示，小塊Q3和Q5中位于數字微反射鏡器件之間的接縫部分附近的細微圖案區域位于數字微反射鏡器件的穩定曝光區域中。也就是說，移動對象基板P，使得小塊Q3中的細微圖案區域位于數字微反射鏡器件D2的穩定曝光區域R2中，并且小塊Q5中的細微圖案區域位于數字微反射鏡器件D3的穩定曝光區域R3中。當使小塊Q3和Q5中位于穩定曝光區域R2和R3中的細微圖案區域曝光時，對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的位置確定為該對象物在與相對移動方向垂直的方向上的設置位置。也就是說，通過在圖2所示位置關系下使用數字微反射鏡器件D2和D3照射光來使小塊Q3和Q5中的細微圖案區域曝光。同樣，通過在圖2所示位置關系下使用數字微反射鏡器件D2和D3照射光來使分別相對于小塊Q3和Q5沿對象基板的相對移動方向定位的小塊Q4和Q6曝光。
圖3是說明確定根據本發明實施例的對象基板的設置位置的操作的流程圖。另外，圖4至16B是說明用于確定對象基板的設置位置的一個具體實例的簡圖。
在該具體實例中，將參考以下情況進行說明，即通過使用圖4所示三個數字微反射鏡器件D1、D2和D3來使圖5所示對象基板P曝光。
在圖4中，粗箭頭表示數字微反射鏡器件D1、D2和D3的相對移動方向，并且白色圓點表示數字微反射鏡器件D1、D2和D3中二維排列的微反射鏡。在本實施例中，為了做出清楚的說明，沿與相對移動方向垂直的方向設置圖中所示坐標軸。在具體實例中，將數字微反射鏡器件D1、D2和D3的中心附近的各個穩定曝光區域在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設為“60”。另外，將穩定曝光區域R1和R2之間的距離和穩定曝光區域R2和R3之間的距離設為“30”。也就是說，沿著與相對移動方向垂直的方向，將數字微反射鏡器件D1的中心附近的穩定曝光區域R1定位在“0到60”范圍內，將數字微反射鏡器件D2的中心附近的穩定曝光區域R2定位在“90到150”范圍內，并將數字微反射鏡器件D3的中心附近的穩定曝光區域R3定位在“180到240”范圍內。
在本實施例中，如圖5所示，不應該由位于數字微反射鏡器件之間的接縫部分中的微反射鏡曝光的區域F1至F8(稱為“分配目標區域”)沿與相對移動方向垂直的方向以均勻的間隔排列在對象基板P上。在具體實例中，分配目標區域F1至F8就是上述細微圖案區域。在具體實例中，還在對象基板P的表面上除分配目標區域F1至F8之外的區域形成配線圖案。然而，假定即使當位于數字微反射鏡器件之間的接縫部分中的微反射鏡用于曝光時，也可以在不引起析像不良的情況下使這些配線圖案曝光。
在具體實例中，將對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設為“210”。為方便起見，對象基板P的最左端稱為PL，其最右端稱為PR。只要未特別提及，對象基板P的位置就表示為“對象基板P的最左端PL的坐標”。各個分配目標區域F1至F8在與相對移動方向垂直的方向上的寬度設為“15”，并且分配目標區域F1至F8之間均勻間隔的距離設為“10”。對象基板P的最左端PL和分配目標區域F1的最左側之間的距離設為“10”，并且對象基板P的最右端PR和分配目標區域F8的最右側之間的距離也設為“10”。
首先，在圖3所示步驟S100中，判斷是否存在尚未分配的分配目標區域，這在下面說明。
在圖3所示步驟S101中，將沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標區域中位于最左端的分配目標區域分配給最左邊的穩定曝光區域。也就是說，如圖6A所示，在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標區域F1至F8中，位于對象基板P的最左端的分配目標區域F1分配給位于最左端的穩定曝光區域R1。之后，沿與對象基板P的相對移動方向垂直的方向從一側按順序，即如下所述按照本實施例中的分配目標區域F1、F2、F3、F4、F5、F6、F7和F8的順序執行計算對象基板P的臨時布置范圍的處理(即圖3中步驟S102的處理)，在該范圍內，分配目標區域F1至F8可以位于穩定曝光區域中。另外，本發明不局限于本實施例中的計算處理的順序，而是可以按照本實施例的相反順序，即F8、F7、F6、F5、F4、F3、F2和F1的順序執行該處理。在這種情況下，在圖3的步驟S101中，可以在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P的表面上的分配目標區域F1至F8中位于對象基板P的最右端的分配目標區域F8分配給穩定曝光區域R3之后執行該處理。
首先，如參照圖6A和6B所述，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，在該范圍內，分配目標區域F1可以位于穩定曝光區域中。當對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖6A所示最左端PL位于穩定曝光區域R1的最左端的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“0”)和如圖6B所示最右端PR位于穩定曝光區域R3的最右端的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“30”)之間時，分配目標區域F1位于穩定曝光區域R1中，并且對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標區域F1可以位于穩定曝光區域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到30”。
繼而，參考圖7A和7B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F1相鄰的分配目標區域F2可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F2可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即圖6A和6B中所述的分配目標區域F1位于穩定曝光區域R1中。從而，在以上已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到30”范圍內計算該臨時布置范圍。也就是說，當對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖7A所示最左端PL位于穩定曝光區域R1的最左側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“0”)和如圖7B所示分配目標區域F2的最右端位于穩定曝光區域R1的最右側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“10”)之間時，分配目標區域F2位于穩定曝光區域R1中，并且分配目標區域F1可以位于穩定曝光區域R1中。另外，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。從而，即使當對象基板P的臨時布置范圍是“0到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標區域F2可以位于穩定曝光區域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到10”。
繼而，參考圖8A和8B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F2相鄰的分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A和7B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中。從而，在以上已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到10”范圍內計算該臨時布置范圍。在這種情況下，如圖8A和8B所示，即使當對象基板P臨時設置在作為臨時布置范圍的“0到10”范圍內時，分配目標區域F3的最左端的坐標也僅僅位于“60到70”范圍內，無法位于任何穩定曝光區域中。從而，不在這一步中計算分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也不給分配目標區域F3分配任何穩定曝光區域。
繼而，參考圖9A和9B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F3相鄰的分配目標區域F4可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F4可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A和7B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中。從而，在已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“0到10”范圍內計算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標區域F3無法位于任何穩定曝光區域中。從而，當計算分配目標區域F4可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標區域F3排除在計算之外。也就是說，當對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖9A所示分配目標區域F4的最左側位于穩定曝光區域R2的最左側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“5”)和如圖9B所示分配目標區域F2的最右側位于穩定曝光區域R1的最右側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“10”)之間時，分配目標區域F4位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F1和F2可以位于穩定曝光區域R1中。另外，如已經參照圖6A和6B所述，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。從而，即使當對象基板P的臨時布置范圍是“5到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標區域F4可以位于穩定曝光區域R2中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
繼而，參考圖10A和10B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F4相鄰的分配目標區域F5可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F5可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A和9B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中，并且分配目標區域F4也位于穩定曝光區域R2中。從而，在已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內計算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標區域F3無法位于任何穩定曝光區域中。從而，當計算分配目標區域F5可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標區域F3排除在計算之外。也就是說，當對象基板P位于以下兩個位置之間，即如圖10A所示分配目標區域F4的最左側位于穩定曝光區域R2的最左側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“5”)和如圖10B所示分配目標區域F2的最右側位于穩定曝光區域R1的最右側的位置(即對象基板P的最左端PL的坐標是“10”)之間時，分配目標區域F5可以位于穩定曝光區域R2中，分配目標區域F4可以位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F1和F2可以位于穩定曝光區域R1中。另外，如已經參照圖6A和6B所述，在對象基板P的臨時布置范圍是“0到30”的條件下，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。從而，即使當對象基板P的臨時布置范圍是“5到10”時，對象基板P的最左端PL附近和最右端PR附近也可以分別位于穩定曝光區域R1和R3中。因此，對象基板P的滿足分配目標區域F5可以位于穩定曝光區域R2中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
繼而，參考圖11A和11B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F5相鄰的分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中并且分配目標區域F4和F5也位于穩定曝光區域R2中。從而，在已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內計算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A和8B所述，分配目標區域F3無法位于任何穩定曝光區域中。從而，當計算分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標區域F3排除在計算之外。在這種情況下，如圖11A和11B所示，即使當對象基板P臨時設置在“5到10”的臨時布置范圍內時，分配目標區域F6的最左端的坐標也只是位于“140到145”范圍內，而分配目標區域F6無法位于任何穩定曝光區域中。從而，不在這一步中計算分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也不給分配目標區域F6分配任何穩定曝光區域。
繼而，參考圖12A和12B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F6相鄰的分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即參考圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中并且分配目標區域F4和F5也位于穩定曝光區域R2中。從而，在已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內計算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A、8B、11A和11B所述，分配目標區域F3和F6無法位于任何穩定曝光區域中。從而，當計算分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標區域F3和F6排除在計算之外。在這種情況下，如圖12A和12B所示，即使當對象基板P臨時設置在“5到10”的臨時布置范圍內時，分配目標區域F7的最左端的坐標也只是位于“165到170”范圍內，而分配目標區域F7不位于任何穩定曝光區域中。從而，不在這一步中計算分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍，并且也給分配目標區域F7分配任何穩定曝光區域。
接下來，參考圖13A和13B所示，計算對象基板P在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F7相鄰的分配目標區域F8可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F8可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖6A、6B、7A、7B、9A、9B、10A和10B所述，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中并且分配目標區域F4和F5也位于穩定曝光區域R2中。從而，在已經計算作為對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內計算該臨時布置范圍。此外，如參照圖8A、8B、11A、11B、12A和12B所述，分配目標區域F3、F6和F7無法位于任何穩定曝光區域中。從而，當計算分配目標區域F8可以位于穩定曝光區域中的對象基板P的臨時布置范圍時，把分配目標區域F3、F6和F7排除在計算之外。在這種情況下，如圖13A和13B所示，當對象基板P處于作為所計算出的對象基板P的臨時布置范圍的“5到10”范圍內時，分配目標區域F8可以位于穩定曝光區域R3中。另外，分配目標區域F4和F5可以位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F1和F2可以位于穩定曝光區域R1中。因此，對象基板P的滿足分配目標區域F8可以位于穩定曝光區域R3中這一條件的臨時布置范圍是“5到10”。
如上所述，對于分配目標區域F1、F2、F3、F4、F5、F6、F7和F8完成了圖3中步驟S102中的計算處理。因此，由于對象基板P的最終臨時布置范圍計算為“5到10”，所以在圖3中的步驟S103中，將“5到10”的范圍確定為在與對象基板P的相對移動方向垂直的方向上的布置可用范圍。當對象基板P安裝在“5到10”的布置可用范圍內時，分配目標區域F1和F2位于穩定曝光區域R1中，分配目標區域F4和F5位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F8位于穩定曝光區域R3中。從而，當對象基板P安裝在“5到10”的布置可用范圍內時，使位于穩定曝光區域中的分配目標區域F1、F2、F4、F5和F8曝光。反之，由于尚未分配的分配目標區域F3、F6和F7不位于任何穩定曝光區域中，所以不在這一步中執行曝光過程。
至于尚未分配的分配目標區域F3、F6和F7，在沿與相對移動方向垂直的方向移動曝光目標基板P之后，再次執行圖3中的步驟S102中的計算處理。也就是說，在圖3中的步驟S100中判斷存在尚未分配的分配目標區域之后，再次執行步驟S101至S103的每一處理。另外，將圖6A至13B所示對象基板P重新定義為對象基板P′，其中，如圖14A和14B所示，分配目標區域F3的最左側設置為對象基板的最左端PL′，并且分配目標區域F7的最右側設置為對象基板的最右端PR′。之后，執行計算處理。
在圖3所示步驟S101中，在沿與相對移動方向垂直的方向布置在對象基板P′的表面上的尚未分配的分配目標區域F3、F6和F7中，位于最左端的分配目標區域F3分配給最左邊的穩定曝光區域R1。之后，沿與對象基板P′的相對移動方向垂直的方向從一側按順序，即按照分配目標區域F3、F6和F7的順序執行計算對象基板P′的臨時布置范圍的處理(即圖3中步驟S102的處理)，在該范圍內，分配目標區域F3、F6和F7可以位于穩定曝光區域中。
首先，在圖14A和14B中，計算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域中。當對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖14A所示分配目標區域F3的最左側位于穩定曝光區域R1的最左側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“0”)和如圖14B所示分配目標區域F3的最右側位于穩定曝光區域R1的最右側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“45”)之間時，分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域R1中。因此，對象基板P′的滿足分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域R1中這一條件的臨時布置范圍是“0到45”。
繼而，參考圖15A和15B所示，計算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F3相鄰的分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域中的對象基板P′的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖14A和14B所述，分配目標區域F3位于穩定曝光區域R1中。從而，在已經計算作為對象基板P′的臨時布置范圍的“0到45”范圍內計算該臨時布置范圍。當對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖15A所示分配目標區域F6的最左側位于穩定曝光區域R2的最左側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“15”)和如圖15B所示分配目標區域F3的最右側位于穩定曝光區域R1的最右側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“45”)之間時，分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F3可以位于穩定曝光區域R1中。因此，對象基板P′的滿足分配目標區域F6可以位于穩定曝光區域R2中這一條件的臨時布置范圍是“15到45”。
繼而，參考圖16A和16B所示，計算對象基板P′在與相對移動方向垂直的方向上的臨時布置范圍，以便使得沿與相對移動方向垂直的方向與分配目標區域F6相鄰的分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中。分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域中的對象基板P′的臨時布置范圍需要滿足這樣的條件，即如圖14A、14B、15A和15B所述，分配目標區域F3和F6分別位于穩定曝光區域R1和R2中。從而，在已經計算作為對象基板P′的臨時布置范圍的“15到45”范圍內計算該臨時布置范圍。也就是說，當對象基板P′位于以下兩個位置之間，即如圖16A所示分配目標區域F6的最左側位于穩定曝光區域R2的最左側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“15”)和如圖16B所示分配目標區域F7的最右側位于穩定曝光區域R2的最右側的位置(即對象基板P′的最左端PL′的坐標是“35”)之間時，分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域R2中，并且分配目標區域F3和F6可以分別位于穩定曝光區域R1和R2中。因此，對象基板P′的滿足分配目標區域F7可以位于穩定曝光區域R2中這一條件的臨時布置范圍是“15到35”。
如上所述，對于分配目標區域F3、F6和F7完成了圖3中步驟S102中的計算處理。因此，由于對象基板P′的最終臨時布置范圍計算為“15到35”，所以在圖3中的步驟S103中，將“15到35”的范圍確定為在與對象基板P′的相對移動方向垂直的方向上的布置可用范圍。當對象基板P′安裝在“5到10”的布置可用范圍內時，分配目標區域F3位于穩定曝光區域R1中，并且分配目標區域F6和F7位于穩定曝光區域R2中。從而，當對象基板P′安裝在“15到35”的布置可用范圍內時，使位于穩定曝光區域中的分配目標區域F3、F6和F7曝光。
在這一步中，在存在任何尚未分配的分配目標區域的情況下，盡管該情況不適用于本實施例，但是由于尚未分配的分配目標區域不位于任何穩定曝光區域中，所以不在這一步中執行曝光過程。至于尚未分配的分配目標區域，沿與相對移動方向垂直的方向再次移動曝光對象基板P′。之后，再次執行圖3中的步驟S102中的計算處理。也就是說，在圖3的步驟S100中，在判斷存在尚未分配的分配目標區域之后，再次執行步驟S101至S103的每一處理。
通過執行上述步驟S100至S103直到不存在尚未分配的分配目標區域，確定分配目標區域全部位于穩定曝光區域中的對象基板的設置位置。當與對象基板的設置位置對應的分配目標區域在這樣確定的設置位置曝光時，不會在對象基板的表面上出現析像不良。另外，需要根據對象基板的設置位置預先校正圖案形成處理中所需的圖案數據。通過經圖案直接形成裝置的控制單元向每一數字微反射鏡器件提供經校正的圖案數據，執行圖案形成處理。另外，可以在對于所有分配目標區域通過計算處理計算對象基板的設置位置之后，共同執行圖案形成處理。或者，無論何時對于每個分配目標區域通過計算處理計算對象基板的設置位置，都可以單獨執行圖案形成處理。
在本實施例的上述具體實例中，在上面對以下情況進行了說明，即多個例如半導體封裝件等小塊安裝在對象基板的表面上，并且曝光不均勻性影響析像的細微圖案包括在小塊的一部分中。然而，本發明也可以適用于包含不同于細微圖案的特定區域的小塊。除使用數字微反射鏡器件(DMD)的圖案直接形成裝置之外，本發明還可以適用于使用例如LCD陣列等空間光調制元件的圖案形成裝置。
通過使用圖案直接形成裝置本身和例如用于控制圖案直接形成裝置的計算機等算術處理裝置來實現根據本發明實施例的圖案形成處理。圖17是說明基于存儲在計算機可讀介質中的計算機程序執行的根據本發明實施例的圖案形成處理的原理的框圖。
如圖17所示，用于使計算機執行根據本發明實施例的圖案形成處理的計算機程序存儲在計算機可讀介質110(例如軟盤和CD-ROM等外部存儲介質)中，并加載在計算機上，該計算機具有例如下述結構，以便用作圖案直接形成裝置的控制單元。
CPU 111控制圖案直接形成裝置的整個控制單元。ROM 113、RAM114、HD(硬盤裝置)115、例如鼠標或鍵盤等輸入裝置116、外部存儲介質驅動裝置117以及例如LCD、CRT、等離子顯示器和有機EL等顯示裝置118通過總線112與CPU 111連接。CPU 111的控制程序存儲在ROM 113中。
用于使計算機執行根據本發明實施例的圖案形成處理的程序(圖案形成處理程序)從計算機可讀介質110安裝(存儲)到HD 115。在RAM 114中，保證CPU 111執行圖案形成處理的工作空間或存儲執行圖案形成處理的程序的一部分的空間。輸入數據、最終數據、OS(操作系統)等預先存儲在HD 115中。
首先，當計算機開啟時，CPU 111從ROM 113讀取控制程序，并進一步從HD 115讀取OS以啟動OS。這樣計算機準備好從計算機可讀介質110安裝圖案形成處理程序。
接下來，計算機可讀介質110安裝在外部存儲介質驅動裝置117中，控制命令從輸入裝置116輸入到CPU 111，然后存儲在計算機可讀介質110中的圖案形成處理程序被讀取而存儲在HD 115等中。這樣，圖案形成處理程序安裝在計算機中。
繼而，當圖案形成處理程序啟動時，計算機用作圖案直接形成裝置的控制單元。操作人員可以通過利用例如顯示裝置118上顯示的交互方法根據工作的內容和規程操作輸入裝置116來執行上述圖案形成處理。作為該處理的結果而獲得的“每個分配目標區域的關于對象基板在與相對移動方向垂直的方向上的設置位置的數據”存儲在例如HD 115中，以便以后使用或在顯示裝置118上直觀地顯示處理結果。
另外，如圖17所示，存儲在計算機可讀介質110中的程序安裝在計算機中的HD 115中。然而，本發明不局限于本實施例。在本發明中，程序可以通過例如LAN等信息傳輸介質安裝到計算機上，或者程序可以預先安裝在包含在計算機中的HD 115中。
本發明可適用于圖案形成裝置，即，使用例如數字微反射鏡器件(DMD)和LCD陣列等空間光調制元件來執行曝光的曝光裝置，其中在圖案形成目標區域較大的對象基板(對象)上直接形成圖案。例如，本發明可適用于在依次傳送例如金屬板、金屬環帶材料、配線基板或撓性基板等板形對象基板的同時執行圖案形成處理的圖案直接形成裝置。
根據本發明，通過使用多個空間光調制元件，可以以較低成本執行直接圖案形成處理，該多個空間光調制元件布置為在對象物連續地相對移動的同時，在該對象物的表面上執行直接圖案形成處理，通過該直接圖案形成處理，不會在對象基板上出現析像不良，并且該處理具有較高的圖案形成精度。另外，不會在圖案形成的成品中出現例如電路圖案短路或接觸不良等嚴重缺陷。
根據本發明的以上方面，通過使用沿對象物的相對移動方向安裝的多個空間光調制元件使該對象物的表面曝光而在該對象物的表面上形成所希望的圖案的圖案直接形成裝置可以以較低成本實現圖案形成處理，其中不會在該對象物的表面上出現析像不良。
根據本發明的以上方面，沒有必要設計以較高精度安裝在圖案形成頭上的光學系統。此外，可以減少組裝或調整直接曝光裝置的工作中的勞動、時間和成本。此外，本發明可以適用于現有技術的圖案直接形成裝置。例如，僅僅通過將實現根據本發明的以上方面的圖案形成方法的計算機程序加載到用于控制圖案直接形成裝置的計算機程序上，就可以容易地防止在對象物的表面上出現析像不良。
對所屬領域的技術人員來說，顯然，在未背離本發明的要旨或保護范圍的情況下，可以對本發明的所述優選實施例做出各種修改和變型。這樣，本發明意在涵蓋與所附權利要求書及其等同內容所限定的保護范圍一致的本發明的所有修改和變型。
本申請基于2006年6月20日提交的日本專利申請No.2006-170507并要求該申請的外國優先權，該申請的全部內容在此以引用的方式并入本文中。
權利要求
1.一種用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成方法，包括確定步驟，其確定所述對象物關于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數目的多個預定區域位于穩定曝光區域中，所述預定區域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩定曝光區域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區域的中心部分，沿所述對象物的所述相對移動方向限定所述曝光區域；以及設定步驟，其在所確定的布置可用范圍內設定所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的設置位置，以通過分別分配給所述曝光區域的多個空間光調制元件使位于所述穩定曝光區域中的所述預定區域曝光。
2.根據權利要求1所述的圖案形成方法，還包括沿與所述相對移動方向垂直的方向從一側依次對于所述各個預定區域執行計算處理，其中，在所述計算處理中，在對于沿與所述相對移動方向垂直的方向與正在計算中的所述預定區域相鄰的另一預定區域在前的計算處理中計算出的臨時布置范圍內計算所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的下述臨時布置范圍在所述臨時布置范圍內，正在計算中的所述預定區域位于所述穩定曝光區域中，并且將下述預定范圍排除在對于接下來將要計算的所述臨時布置范圍的計算處理之外，當所述對象物臨時設置于在前的計算處理中計算出的所述臨時布置范圍內時，所述預定范圍不位于所述穩定曝光區域中，并且其中，將下述臨時布置范圍確定為所述對象物的所述布置可用范圍所述臨時布置范圍是通過對于沿與所述相對移動方向垂直的方向排列在所述對象物的表面上的所有一系列預定范圍執行所述計算處理而最終計算得出的。
3.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其中，在所述對象物沿與所述相對移動方向垂直的方向移動的狀態下，對于下述預定區域再次執行所述確定步驟當所述對象物放置在所述設置位置時，所述預定區域不位于所述穩定曝光區域中，并且在所確定的布置可用范圍內重新設定所述對象物的用于使所述預定區域曝光的所述設置位置。
4.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述預定區域存在于安裝在所述對象物的表面上的各個小塊中，并且所述預定區域中的圖案以比相同小塊中除所述預定區域之外的區域的密度高的密度形成。
5.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述預定區域沿與所述相對移動方向垂直的方向以大致均勻的間隔排列在所述對象物的表面上。
6.根據權利要求1所述的圖案形成方法，其中，所述穩定曝光區域由來自所述空間光調制元件的光穩定地曝光，所述光能夠以高密度形成圖案。
7.一種具有程序的計算機可讀介質，所述程序包括允許計算機執行用于在對象物的表面上形成圖案的圖案形成處理的指令，所述指令包括確定步驟，其確定所述對象物關于與所述對象物的相對移動方向垂直的方向的布置可用范圍，以使最大數目的多個預定區域位于穩定曝光區域中，所述預定區域在所述對象物的表面上并沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向排列，各個所述穩定曝光區域沿與所述對象物的所述相對移動方向垂直的方向位于各個曝光區域的中心部分，沿所述對象物的所述相對移動方向限定所述曝光區域；以及設定步驟，其在所確定的布置可用范圍內設定所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的設置位置，以通過分別分配給所述曝光區域的多個空間光調制元件使位于所述穩定曝光區域中的所述預定區域曝光。
8.根據權利要求7所述的計算機可讀介質，所述指令還包括沿與所述相對移動方向垂直的方向從一側依次對于所述各個預定區域執行計算處理，其中，在所述計算處理中，在對于沿與所述相對移動方向垂直的方向與正在計算中的所述預定區域相鄰的另一預定區域在前的計算處理中計算出的臨時布置范圍內計算所述對象物關于與所述相對移動方向垂直的方向的下述臨時布置范圍在所述臨時布置范圍內，正在計算中的所述預定區域位于所述穩定曝光區域中，并且將下述預定范圍排除在對于接下來將要計算的所述臨時布置范圍的計算處理之外，當所述對象物臨時設置于在前的計算處理中計算出的所述臨時布置范圍內時，所述預定范圍不位于所述穩定曝光區域中，并且其中，將下述臨時布置范圍確定為所述對象物的所述布置可用范圍所述臨時布置范圍是通過對于沿與所述相對移動方向垂直的方向排列在所述對象物的表面上的所有一系列預定范圍執行所述計算處理而最終計算得出的。
9.根據權利要求7所述的計算機可讀介質，其中，在所述對象物沿與所述相對移動方向垂直的方向移動的狀態下，對于下述預定區域再次執行所述確定步驟當所述對象物放置在所述設置位置時，所述預定區域不位于所述穩定曝光區域中，并且在所確定的布置可用范圍內重新設定所述對象物的用于使所述預定區域曝光的所述設置位置。
10.根據權利要求7所述的計算機可讀介質，其中，所述預定區域存在于安裝在所述對象物的表面上的各個小塊中，并且所述預定區域中的圖案以比相同小塊中除所述預定區域之外的區域的密度高的密度形成。
11.根據權利要求7所述的計算機可讀介質，其中，所述預定區域沿與所述相對移動方向垂直的方向以大致均勻的間隔排列在所述對象物的表面上。
12.根據權利要求7所述的計算機可讀介質，其中，所述穩定曝光區域由來自所述空間光調制元件的光穩定地曝光，所述光能夠以高密度形成圖案。
全文摘要
本發明公開一種圖案形成方法及其計算機可讀介質，在利用分配給沿對象物的相對移動方向限定的各個曝光區域的多個空間光調制元件使該對象物的表面曝光以在該對象物的表面上形成所希望的圖案的圖案形成裝置中，在該對象物沿與相對移動方向垂直的方向移動，使得該對象物的表面上位于各個曝光區域的邊界附近的預定區域位于由空間光調制元件曝光的曝光區域的中心部分附近之后，所述預定區域由與曝光區域對應的空間光調制元件曝光。
文檔編號H01L21/027GK101093361SQ20071010677
公開日2007年12月26日 申請日期2007年6月20日 優先權日2006年6月20日
發明者吉澤惠資, 小山利德, 赤川雅俊 申請人:新光電氣工業株式會社