專利名稱：一種薄膜太陽能電池的鍍膜涂裝用屏蔽、及使用該屏蔽的方法及系統的制作方法
技術領域：
本發明關于 一 種芯片鍍膜系統，特別是關于 一 種薄膜太陽 能電池的芯片鍍膜系統。
背景技術：
工業革命的展開，促使人類生活方式發生改變，地球上各項資源 因被大量開釆而急遽減少，有部分資源經轉化后，卻產生種種污染問 題，形成地球環境無形的殺手，甚而引發種種氣候異常現象，因此， 各種減少使用后污染的替代性能源便應運發展。
太陽能因其用之不盡、取之不竭的特性，而成為注目的替代性能
源來源，太陽能電池的發展可回溯至1954年，當時由貝爾實驗室所發 展的太陽能電池系統希望能提供偏遠地區供電系統所需的能源，但當 時的太陽能電池卻只有6%的光電效率；目前太陽能電池的研發大致可 分為l.單晶硅、2.多晶硅、3.非晶硅、4.銅銦鎵二硒(Copper Indium Gallium Diselenide Solar Cells )、 5.鎘碲(Cadmium Telluride Solar Cells )， 隨著集成電路的蓬勃發展，硅晶圓太陽能電池一躍成為市場主流，目 前實驗室規模所制造的硅晶圓單一系統電池已可達25%的光電效率。
目前硅晶太陽能電池制造廠商亦稱太陽能電池為芯片(cell)，因太 陽能電池由多個芯片焊上箔條導線(焊帶)，再將許多焊好的芯片用箔條 串聯成組，再和乙烯-乙酸乙酯共聚物(Ethylene vinly acetate copolymer, EVA)、聚氟乙烯薄膜(Tedlar)與低鐵質強化壓紋玻璃(白玻璃)層層疊疊， 同放入層壓機(Laminate)的機臺上做真空封裝，制成一太陽能模塊(亦 稱太陽能板)，將若干太陽能板組成方陣(array),接配上過充放保護控 制器(controller)及深(循環)放電蓄電池(鉛鈣)以及逆轉變流器即成為太 陽能電力系統。
現行太陽能電池的制成由純化的二氧化硅在拉晶爐長成晶柱后，經修角成為四方柱形，該晶柱以切片機切割成厚度0.4-0.5毫米的薄片， 該薄片再以化學方法或光成為約0.3毫米的薄片，以清水洗凈該薄片 后，以擴散爐將該薄片兩面分別鍍膜形成n型及p型，并印刷以電路 路線，即可成為一商業用芯片，此外亦可以光刻及坩鍋蒸鍍式制造抗 反射層與表面的輸出導線取代前述的電路印刷方法，并加以其它特殊 技術，便可提高太陽能電池的能量轉換功率。
中國臺灣第465120專利公告號，專利名稱r太陽能薄膜電池制造 方法」，其中提供了 一種太陽能電池Cu oc (InxGal-x) P (SeySl-y) y薄膜 的制造方法，簡化了一般薄膜生成的程序，并可提供高品質的薄膜芯 片，但是此類芯片為提高供電效率，往往會在芯片的電極層進行切割 形成一條狀串接模式，但所使用的切割法多為利用不同波長雷射進行 不同層面切割，或是利用機械力將鍍膜層劃破，不但手續繁雜，也容 易產生微細粉塵影響芯片良率。
綜上所述，目前采用的習知方式都仍有待改善之處，本發明的發 明人有鑒于上述習知芯片鍍膜涂裝方法的各項缺失，乃亟思改良而創 作出一種制成步驟簡單且易于操作的芯片鍍膜涂裝方法。
發明內容
本發明的主要目的是提供一種薄膜太陽能電池的鍍膜涂裝系統， 可簡化現有芯片鍍膜、蝕刻的時程；包括 一屏蔽，由一中空框架及 復數個遮蔽件所組成；及一基板鍍膜涂裝裝置；當在太陽能電池芯片 (cell)鍍膜涂裝時，藉由在欲進行鍍膜的一基板上設立該屏蔽以簡化薄 膜太陽能電池芯片制程中鍍膜及蝕刻的程序，該程序包括下列步驟 步驟A:設置一基板；步驟B:在該基板上加設一遮蔽物；步驟C:進 行該基板的鍍膜涂裝；及步驟D:移除該遮蔽物，形成一具有復數個 相鄰鍍膜區的基板。
本發明的另 一 目的為提供一種可應用于全真空制程的芯片鍍膜涂 裝用屏蔽，即于真空中分離開屏蔽與基板，便能使基板不破真空而繼 續進行下一道真空制程，該屏蔽包括一中空框架；及裝設于該框架中空區域上的復數個遮蔽件。
其中，該框架可為四邊形。
其中，該遮蔽件可為一金屬細弦。
其中，該遮蔽件可為一垂直版金的薄金屬片。
其中，該遮蔽件可為一水平版金的薄金屬片。
其中，該遮蔽件可為長條狀。
其中，該遮蔽件可為網狀。
其中，該遮蔽件的切面可為一圓形。
其中，該遮蔽件可為非直線狀。
本發明的又一目的為提供一種薄膜太陽能電池的鍍膜涂裝方法， 該方法在芯片鍍膜涂裝時，藉由在欲進行鍍膜的 一基板上設立該屏蔽 以筒化薄膜太陽能電池芯片制程中鍍膜及蝕刻的程序，該程序包括下
列步驟
步驟A:設置一基板；
步驟B:在該基板上加設該遮罩；
步驟C:進行該基板的鍍膜涂裝；及
步驟D:移除該遮蔽物，形成一具有復數個相鄰鍍膜區的基板。 藉由本發明可簡化太陽能電池芯片制作中的鍍膜及蝕刻步驟，大 大簡化了現有的刻劃設備的支出與全程制造的時程，為使熟悉該項技 藝人士了解本創作的目的、特征及功效，茲藉由下述具體實施例，并 配合所附的圖式，對本創作詳加說明，說明如后。
圖1為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的實施方式立體
圖2為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施
例平面圖3為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施 例狀態示意圖；圖4為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施 例完成圖5為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第二較佳實施 例圖；及
圖6為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第三較佳實施 例圖。
圖號說明
l屏蔽 11框架
12遮蔽件 2基板拖盤
A基板 B薄膜
具體實施例方式
以下將參照相關圖標，說明依本發明的較佳實施例，說明中提及 的符號參照圖標符號，為便于理解，相同的組件將以相同的參照符號 力口以i兌明。
圖1為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的實施方式立體 圖，本發明包括一屏蔽1及一基板鍍膜涂裝裝置，其中該屏蔽1由一 中空框架11及復數個遮蔽件12所組成，該框架11由一平板挖空內部 所組成，該挖空處可為一四邊形，并架設該遮蔽件12,該遮蔽件12可 為一金屬細弦，利用張力調整組裝且相互平行排列。
本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝實施方式利用該屏蔽1調整一 基板A上鍍膜的區域，當鍍膜過程進行時，先將該基板A放置于一基 板托盤2上，再將該屏蔽l固定于該基板A上方，使該基板A上受到 該遮蔽件12遮擋的區域，便不會產生薄膜，鍍膜完成后該基板A的薄 膜具有如蝕刻效果般的區隔，因而使該基板A上具有復數個相鄰的鍍 膜區。
本發明有別于以往先將一整塊基板鍍膜后，再利用雷射或機械方 法刻畫不同鍍膜層的繁瑣程序，本發明的太陽能電池鍍膜涂裝的統可 將鍍膜及蝕刻程序于同一步驟同時進行，且該屏蔽1體積與該基板A近似，具有輕巧的優點，可使整體程序于全真空狀態下完成，不需另
行搬移破真空，可減少大氣粉塵附著于該基板A的機率。
圖2為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施 例平面圖，本發明的實施方式先將一屏蔽1固定于一欲鍍膜涂裝的基 板A上，該屏蔽1為一四邊形平板狀裝置，中心挖空成為與該基板A 近似的大小區域，該屏蔽1的外圍則形成一框架11,該框架可鑲設復 凄t個遮蔽件12，該遮蔽件12為長條狀，另外，該遮蔽件12亦可為非 直線形或網狀(未圖標)。
本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝實施方式利用該屏蔽1調整一 基板A上鍍膜的區域，當鍍膜過程進行時，先將該基板A放置于一基 板托盤2上，再將該屏蔽l固定于該基板A上方，使該基板A上受到 該遮蔽件12遮擋的區域，便不會產生薄膜，鍍膜完成后該基板A的薄 膜具有如蝕刻效果般的區隔，因而使該基板A上具有復數個相鄰的鍍 膜區。
圖3為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施 例狀態示意圖，本發明利用一遮蔽件12在欲鍍膜的該基板A上形成一 阻擋空間，使鍍膜時，該薄膜B會生長于該遮蔽件12表面及未受該遮 蔽件12遮文件的區域，本發明所使用的該遮蔽件12可為一長條狀金 屬細弦，具有一圓形切面，相互平行排列，使該基板A上會產生復數 個相鄰的鍍膜區。
圖4為本發明的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第一較佳實施 例完成圖，利用本發明的太陽能電池鍍膜涂裝裝置為一屏蔽l，該屏蔽 1具有一方形框架11及復數個遮蔽件12,該遮蔽件12為一直條狀金 屬細弦，以張力調整組裝于該框架12，鍍膜時該屏蔽l固定于該基板 A上方，完成鍍膜后的該基板A受到該遮蔽件12遮擋的區域薄膜無法 生成，未受到該遮蔽件12遮擋的區域則可產生薄膜B，使該基板A上 具有復數個相鄰的鍍膜區。
此外，本發明的屏蔽1由一中空框架11及復數個遮蔽件12所組 成，其中，如圖5所示，說明薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第二較佳實施例圖，該遮蔽件12可為一垂直版金的薄金屬片，另，請參考 圖6,說明薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽的第三較佳實施例圖，其中， 該遮蔽件12為一水平版金的薄金屬片。
藉由以上較佳具體實施例的詳述，希望能更加清楚描述本創作的 特征與精神，而并非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本創作的范 疇加以限制。相反地，其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安 排于本創作所欲申請的專利范圍的范疇內。
權利要求
1、一種薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統，包括一屏蔽，由一中空框架及復數個遮蔽件所組成及一基板鍍膜涂裝裝置在芯片鍍膜涂裝時，藉由在欲進行鍍膜的一基板上設立該屏蔽以簡化薄膜太陽能電池芯片制程中鍍膜及蝕刻的程序，該程序包括下列步驟步驟A設置一基板；步驟B在該基板上加設一遮蔽物；步驟C進行該基板的鍍膜涂裝；及步驟D移除該遮蔽物，形成一具有復數個相鄰鍍膜區的基板。
2、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該屏蔽可使用于全真空狀態。
3、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該框架可為四邊形。
4、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件可為 一 金屬細弦。
5、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件可為一垂直版金的薄金屬片。
6、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件可為一水平版金的薄金屬片。
7、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件可為長條狀。
8、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件可為網狀。
9、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統， 其中該遮蔽件的切面可為 一 圓形。
10、 如權利要求1所述的薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統，所述的屏蔽 所述的屏蔽 所述的屏蔽其中該框架可為四邊 其中該遮蔽件可為一 其中該遮蔽件可為一 其中該遮蔽件可為一所述的屏蔽，其中該遮蔽件可為長其中該遮蔽件可為非直線狀。
11、 一種薄膜太陽能電池鍍膜涂裝用屏蔽，包括一框架，為一中空框架；及 復數個遮蔽件，裝設于該框架中空區域上。
12、 如權利要求11所述的屏蔽形。
13、 如權利要求11 金屬細弦。
14、 如權利要求11 垂直版金的薄金屬片。
15、 如權利要求11 水平版金的薄金屬片。
16、 如權利要求11 條狀。
17、 如權利要求11狀。
18、 如權利要求11 可為一圓形。
19、 如權利要求11 直線狀。
20、 一種薄膜太陽能電池鍍膜涂裝方法，其特征為藉由 在欲進行鍍膜的 一基板上設立 一屏蔽以簡化芯片制程中鍍 膜及蝕刻的程序，包括下列步驟步驟A:設置一基板； 步驟B:在該基板上加設該遮罩； 步驟C:進行該基板的鍍膜涂裝；及 步驟D:移除該屏蔽，形成一具有復數個相鄰鍍膜區的 基板。所述的屏蔽 所述的屏蔽其中該遮蔽件可為網其中該遮蔽件的切面所述的屏蔽，其中該遮蔽件可為非
全文摘要
本發明一種薄膜太陽能電池鍍膜涂裝系統，包括一屏蔽，由一中空框架及復數個遮蔽件所組成；及一基板鍍膜涂裝裝置在芯片鍍膜涂裝時，藉由在欲進行鍍膜的一基板上設立該屏蔽以簡化薄膜太陽能電池芯片制程中鍍膜及蝕刻的程序，該程序包括下列步驟步驟A設置一基板；步驟B在該基板上加設一遮蔽物；步驟C進行該基板的鍍膜涂裝；及步驟D移除該遮蔽物，形成一具有復數個相鄰鍍膜區的基板。
文檔編號H01L31/18GK101315956SQ20071010606
公開日2008年12月3日 申請日期2007年5月31日 優先權日2007年5月31日
發明者彭光中 申請人:鈺衡科技股份有限公司