專利名稱：用于基片旋轉涂布的裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種按權利1的前序部分所述的用于基片旋轉涂布的裝置。
背景技術：
在半導體技術中，也被稱為涂膠機的旋轉涂布機或自轉涂布機特別用于將光致抗蝕劑涂到基片例如晶片或者玻璃片上，但對于其它液體介質也已知以多種實施方式。
對于具有高生產率的可再生產的制造過程來說，即使在相對大的基片上也能夠將液體介質、比如一光致抗蝕劑涂布成盡可能均勻的涂層也是一個決定性的標準。
在一種實施方式中，一覆蓋組件用于“自轉過程”，該覆蓋組件下降到待涂布的基片上方。由此，在基片上或在被涂覆的液體介質上產生一溶劑墊，這在自轉過程中會導致一更均勻的涂層。假如沒有覆蓋，一在凈化腔中通常層流將導致待涂覆的液體介質的不希望的“干燥”。
發明內容
本發明的目的在于，提供一上述類型的用于旋轉涂布的裝置，該裝置允許液體介質更好地涂覆。
該目的通過權利要求1所述的特征實現。
在從屬權利要求中，描述了本發明有利的和適當的擴展結構。
本發明的出發點是一用于以液體介質旋轉涂布基片的裝置，該裝置包括一用于水平支承基片的可旋轉的基片支架(卡盤)和在通過基片支架的旋轉(自轉)分配液體介質過程中用于覆蓋基片的覆蓋組件。本發明的核心在于，基片支架能夠與覆蓋組件緊密地接合在一起，但設有沿圓周設置穿孔，通過這些穿孔由覆蓋組件和基片支架構成的涂布內腔始終與外部相連。
通過該措施，不僅會實現一“自轉(aufgespinnten)”的涂層相對好的均勻性，而且也實現借助穿孔同時有目的地將多余的介質排出的可能性。
特別是兩個效果對此有利首先，在自轉過程中出現離心力，它們將被涂布的介質徑向地向外分配或排擠到周圍區域中。穿孔例如孔優選地徑向設置，以便有助于將多余的噴射的介質運走。此外，在基片支架快速旋轉時，在穿孔中產生一種文丘里效應以及徑向地向外的流動，由于穿孔通過旋轉運動在旋轉運動時相對于周圍大氣進行相對運動，由此，從穿孔中向外部吸出介質和大氣，并造成在涂布內腔中形成負壓。
穿孔優選地設置在一圓周壁例如基片支架的區域內。穿孔例如孔布置優選地徑向地，必要時以一規定的傾斜角從等高線例如略微地向下傾斜。由此，流出的過程進一步得到支持。
為了促進在涂布內腔中形成負壓，此外建議在覆蓋組件和基片支架之間設置一密封件。例如，在基片支架的圓環形的端面壁上設置一O型環，該O型環使基片支架和一平放在其上的覆蓋組件之間的緊密連接成為可能。
在本發明的特別優選的構造中，在間隔沿圓周設置的穿孔的一段距離處，這樣地設置一隔板段，使得在自轉過程中，穿孔相對于隔板段進行相對運動。由此有助于隔板段和涂布裝置的旋轉部件之間的大氣在自轉時更少地被夾帶，于是相對運動的程度被擴大。由此，“文丘里效應”在穿孔中被加強，這會導致吸入效果增強。這要求在一規定的程度內。因為，由此多余的介質便幾乎完全通過穿孔吸出，此外，這一措施對于被涂覆的涂層均勻性具有積極影響。
顯然，在旋轉部件(基片支架、覆蓋組件)周圍的區域內大氣的夾帶通過隔板段減少，因為大氣在隔板段上“摩擦”。
抽吸效果特別在文丘里效應方面通過穿孔和/或隔板段的構成和/或如穿孔相對隔板段的方式確定。
為了保持在穿孔中所希望的流動，優選地通過穿孔與隔板段的距離對隔板段的形式并且因而對一隔板段表面的定向產生影響。在一優選的實施方式中，盡可能旋轉對稱的基片支架可旋轉地設置在一旋轉對稱的槽形組件中，該槽形組件具有一旋轉對稱的、外殼形的例如圓錐外殼形的隔板段，必要時在穿孔區域內具有沿外殼高度彎曲的表面。隔板段在穿孔范圍內優選地具有一規定的距離以及一規定的傾斜角，隔板段特別向下展開。
例如，對于用光致抗蝕劑涂布來說，該距離優選地如此設定，使得在穿孔中出現一足夠的抽吸效果，但是被吸出的介質并不與周圍的隔板段以一種方式相互影響，即在旋轉部件和隔板段之間形成絲狀物。
基片支架連同覆蓋組件的旋轉速度能夠介于每分鐘很少的轉數到每分鐘數百轉。其中，除了幾何的物體之外，旋轉速度對穿孔中的抽吸效果具有很大的影響。
本發明的實施例在一唯一的圖中說明。
圖示出在一具有待涂布的基片的“自轉涂布機”的示意的剖視圖。
具體實施例方式
自轉涂布機1包括一可旋轉的基片支架2以及一旋轉軸3，該基片支架同心地設置在一圓環形的收集槽4中。收集槽4包括一圓環形基本部件5和一旋轉對稱的上端6，該基本部件必要時裝備一吸氣裝置(未示出)，該上端在其高度上限定一朝向基片支架2的略微彎曲的圓錐外殼形內隔板段6a。彎曲能夠沿著一任意的曲線。基片支架2具有一圓周壁2a，在其圓環形的端壁中插入一O型環7。
在要涂布的介質涂覆到一基片8上之后的一自轉過程中，安裝一覆蓋組件9，該覆蓋組件通過O型環7密封地封閉基片支架2的開口2b。但是，由此產生的涂布內腔10并沒有密封地向外部關閉，而是通過穿孔11與收集槽4的大氣連通。穿孔優選地設計成鉆孔，其縱向軸線徑向延伸。多個鉆孔11例如均勻地沿基片支架2的圓周壁2a的圓周分布在基片支架2下方區域內。出于要制造的涂層的均勻性原因，優選一旋轉對稱地設置。鉆孔11略微地向下方傾斜，以便有助于抽吸多余介質的效果。由于鉆孔11設置在涂布內腔10一下方的徑向向外的角12中，流出過程也是有利的。
圓周壁2a與隔板段6a的一段距離a優選地小于20mm至30mm，特別具有10mm。此外，隔板段6a的傾斜對通過鉆孔11的抽吸性能產生影響。在當前情況下，該隔板段α＝20°。通過傾斜，確定隔板段6a與鉆孔11的出口11a的距離，這對鉆孔11的出口11a和在一個區域內在與一平面徑向相對的隔板段區域之間的大氣產生影響。這再次影響鉆孔11內的抽吸性能。
在具有封閉的覆蓋組件9的自轉過程中，在鉆孔內形成流動，其多余材料向外部吸出，基本上完全吸出并且在涂布內腔10中產生一負壓。由此有助于在基片8上的一均勻的涂層涂敷。
附圖標記清單1 自轉涂布器2 基片支架2a 圓周壁2b 開口3 旋轉軸4 收集槽5 基本部件6 上端6a 隔板段7 O型環8 基片9 覆蓋組件10 涂布內腔11 穿孔11a 出口12 角
權利要求
1.一種用于以液體介質旋轉涂布基片的裝置，具有一用于水平支承基片(8)的可旋轉的基片支架(2)和一在通過基片支架(2)的旋轉分配液體介質過程中用于覆蓋基片(8)的覆蓋組件(9)，其特征在于，基片支架(2)能夠與覆蓋組件(9)密封地接合在一起，但設有沿圓周設置的穿孔(11)，通過這些穿孔由覆蓋組件(9)和基片支架(2)構成的涂布內腔(10)始終與外部連通。
2.按權利要求1所述的裝置，其特征在于，穿孔(11)設置在圓周壁(2a)的區域內。
3.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，基片支架包括一圓周壁(2a)。
4.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，在覆蓋組件(9)和基片支架(2)之間設置密封件(7)。
5.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，在間隔沿圓周設置的穿孔(11)的一段距離處，這樣地設置一隔板段(6a)，使得在旋轉涂布過程中，穿孔(11)進行相對于隔板段(6a)的相對運動。
6.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，穿孔(11)和/或隔板段(11)和/或穿孔(11)相對于隔板段(6a)如此設計，使得在穿孔(11)中并且由此在涂布內腔(9)中在隔板段(6a)的相對運動時在穿孔(11)中產生一預定的負壓。
7.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，穿孔(11)與隔板段(6a)的距離和/或隔板段(6a)的定向是這樣的，使得在旋轉涂布過程中在穿孔(11)中出現一所需的氣流。
8.按上述權利要求任一項所述的裝置，其特征在于，基片支架(2)可旋轉地設置在一槽形組件(4)中，該槽形組件在穿孔(11)區域內包括一外殼形的隔板段(6a)。
全文摘要
本發明建議一種用于以液體介質旋轉涂布基片(8)的裝置，該裝置包括一用于水平支承基片(8)的可旋轉的基片支架(2)和一在通過基片支架(2)的旋轉分配液體介質過程中用于覆蓋基片(8)的覆蓋組件(9)。按本發明，基片支架(2)能夠與覆蓋組件(9)緊密地接合在一起。但附加地設有沿圓周設置穿孔(11)，通過這些穿孔由覆蓋組件(9)和基片支架(2)構成的涂布內腔(10)始終與外部相連。
文檔編號H01L21/00GK1961262SQ200580017263
公開日2007年5月9日 申請日期2005年4月19日 優先權日2004年4月20日
發明者D·霍夫曼 申請人:Sse姐妹半導體設備有限公司