專利名稱：一種晶片刻蝕設備的取片傳輸方法
技術領域：
本發明涉及晶片刻蝕領域，具體涉及一種晶片刻蝕設備的取片傳輸方法。
背景技術：
刻蝕機中，機械手從晶片盒(Cassette，含有多片晶片)中依次取片，經過傳輸腔室，將晶片傳入反應腔室，進行工藝實驗。目前，機械手取片一般有兩種方式一種是從上到下依次從晶片盒中取片；另一種是從下到上依次從晶片盒中取片。
這兩種取片方式，在存在多類反應腔室的情況下，效率較低，會出現有的腔室空閑，但有的腔室卻有很多排隊等候的進行工藝的晶片，反應腔室的并行性較差；發明內容(一)要解決的技術問題本發明的目的是提供一種晶片刻蝕設備的取片傳輸方法。
(二)技術方案為達到上述目的，本發明的方法包括以下步驟傳輸平臺掃描晶片盒中待刻蝕晶片的數量及其參數信息，該參數信息包括晶片位置、晶片類型、晶片處理時間；傳輸平臺根據得到的晶片數量和參數信息設置待刻蝕晶片的優先級；由機械手根據晶片的優先級進行取片傳輸，先取片傳輸優先級高的晶片，不同晶片類型的晶片傳輸至相應的反應腔室；其特征在于所述設置待刻蝕晶片優先級的方法包括如下步驟若晶片盒中的晶片是一種類型，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置晶片的優先級ID，處理時間越長的晶片，則設置越高的優先級；若晶片盒中的晶片是兩種類型，則按照如下步驟設置待刻蝕晶片的優先級，其中在先設置的優先級ID，其優先級總是高于在后設置的優先級ID的優先級(1)設置一個第一參數、一個第二參數和一個第三參數，用于存儲晶片的晶片處理時間；(2)將晶片盒中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片的晶片類型稱為第一類型，晶片盒中的另一晶片類型稱為第二類型；(3)設置一個第一指針，并將該指針實時指向第一類型晶片中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片，若第一類型中無尚未設置優先級的晶片，則指向空；設置一個第二指針，并將該指針實時指向第二類型晶片中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片，若第二類型中無尚未設置優先級的晶片，則指向空；(4)將第一指針指向的晶片設置一個優先級ID，該晶片的晶片處理時間存入第一參數；(5)將第二指針指向的晶片的晶片處理時間存入第二參數；(6)將第二指針指向的晶片設置一個優先級ID；(7)將第二指針指向下一個位置；(8)將第二指針指向的晶片的晶片處理時間存入第三參數；(9)將第二參數與第三參數之和存入第二參數；(10)若第二參數小于第一參數，則重復步驟(7)～(10)；若第二指針指向空，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置第一類型晶片的優先級ID，晶片處理時間較長的晶片，則設置較高優先級；(11)若第二參數大于或等于第一參數，則重復步驟(2)～(11)，若第二指針指向空，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置第一類型晶片的優先級ID，晶片處理時間較長的晶片，則設置較高優先級。
(三)有益效果由于采用以上技術方案，本發明與已有技術相比極大的提高了晶片刻蝕反應腔室的并行性，進而提高了晶片刻蝕設備的工作效率。
圖1是本發明所述方法的晶片盒示意圖；圖2是本發明的所述方法的功能框圖；圖3是本發明所述方法的優先級設定流程圖；圖4是本發明所述方法的優先級設定總體流程圖；圖中cassette、晶片盒。
具體實施例方式
以下實施例用于說明本發明，但不用來限制本發明的范圍。
如圖1所示，待刻蝕的晶片堆疊在晶片盒中，包括兩種晶片，分別是硅片和金屬片；如圖2所示，本發明的取片傳輸方法由取片調度程序執行，該程序包括三個功能模塊，分別是掃描晶片盒模塊、計算優先級模塊、取片傳輸模塊；如圖3所示，掃描模塊首先掃描晶片，并對晶片進行分類和按照晶片處理時間進行排序，若晶片盒中的晶片只有一類，則直接按照晶片處理時間的長短次序設置優先級，若晶片盒中的晶片超過一種類型，則將晶片分類別，按照晶片處理時間長短的順序將晶片在晶片盒中的位置信息分別存入兩個堆棧數據結構中，將這兩個堆棧稱為第一堆棧和第二堆棧，堆棧的首位存儲了晶片處理時間最長的晶片位置信息，并重新計算每片晶片的優先級；如圖4所示，計算優先級的程序模塊中，設置兩個變量CurMtl和CurSlc分別表示第一堆棧和第二堆棧的當前片序號，并且其初始位置指向首位，初始值為1；設置兩個初始值為0的變量Metal和Silicon，用于存儲晶片處理時間；設置一個初始值為0的優先級變量ID，并且ID值越小，表示優先級越高；設置晶片優先級的步驟如下(1)首先比較CurSlc和CurMtl指向的晶片的晶片處理時間，若硅片類的當前片處理時間長，則將硅片類晶片設為第一類片，將金屬片類晶片設為第二類片；否則將金屬片類晶片設為第一類片，將硅片類晶片設為第二類型片；(2)設置當前第一類片的優先級＝ID；ID自動加一；(3)令Silicon＝當前第一類片的處理時間；(4)令Metal＝當前第二類片處理時間，設置當前第二類片的優先級＝ID；(5)CurSlc自動加一；(6)CurMtl自動加一；(7)若CurSlc＞第一類片的片數或者CurMtl＞第二類片的片數，則按照未設置優先級的晶片在堆棧中的排序逐個設置優先級，每設置一次優先級，ID自動加一，直至設置完所有的晶片優先級，優先級計算程序結束；(8)令Metal＝Metal+當前第二類片處理時間；ID自動加一；(9)若Metal小于Silicon，則重復步驟(6)～(9)；(10)若Metal大于或者等于Silicon，則重復步驟(1)～(10)；優先級設置完畢，設備準備就緒后，機械手按照晶片的優先級取片；首先判斷該晶片是否為硅片，若是，則傳輸至硅片反應腔室，若否，則傳輸至金屬片反應腔室；然后判斷晶片盒(cassette)中是否還有晶片，若還有晶片，則繼續取片，若無晶片，則取片結束。
權利要求
1.一種晶片刻蝕設備的取片傳輸方法，其特征在于所述方法包括傳輸平臺掃描晶片盒中待刻蝕晶片的數量及其參數信息，該參數信息包括晶片位置、晶片類型、晶片處理時間；傳輸平臺根據得到的晶片數量和參數信息設置待刻蝕晶片的優先級；由機械手根據晶片的優先級進行取片傳輸，先取片傳輸優先級高的晶片，不同晶片類型的晶片傳輸至相應的反應腔室；
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述設置待刻蝕晶片優先級的方法包括如下步驟若晶片盒中的晶片是一種類型，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置晶片的優先級ID，處理時間越長的晶片，則設置越高的優先級；若晶片盒中的晶片是兩種類型，則按照如下步驟設置待刻蝕晶片的優先級，其中在先設置的優先級ID，其優先級總是高于在后設置的優先級ID的優先級(1)設置一個第一參數、一個第二參數和一個第三參數，用于存儲晶片的晶片處理時間；(2)將晶片盒中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片的晶片類型稱為第一類型，晶片盒中的另一晶片類型稱為第二類型；(3)設置一個第一指針，并將該指針實時指向第一類型晶片中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片，若第一類型中無尚未設置優先級的晶片，則指向空；設置一個第二指針，并將該指針實時指向第二類型晶片中尚未設置優先級的晶片中晶片處理時間最長的晶片，若第二類型中無尚未設置優先級的晶片，則指向空；(4)將第一指針指向的晶片設置一個優先級ID，該晶片的晶片處理時間存入第一參數；(5)將第二指針指向的晶片的晶片處理時間存入第二參數；(6)將第二指針指向的晶片設置一個優先級ID；(7)將第二指針指向下一個位置；(8)將第二指針指向的晶片的晶片處理時間存入第三參數；(9)將第二參數與第三參數之和存入第二參數；(10)若第二參數小于第一參數，則重復步驟(7)～(10)；若第二指針指向空，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置第一類型晶片的優先級ID，晶片處理時間較長的晶片，則設置較高優先級；(11)若第二參數大于或等于第一參數，則重復步驟(2)～(11)，若第二指針指向空，則按照晶片處理時間由長到短的次序設置第一類型晶片的優先級ID，晶片處理時間較長的晶片，則設置較高優先級。
全文摘要
本發明涉及晶片刻蝕領域。本發明提供了一種晶片刻蝕設備的取片傳輸方法，傳輸平臺掃描晶片盒中待刻蝕晶片的數量及其參數信息，該參數信息包括晶片位置、晶片類型、晶片處理時間；傳輸平臺根據得到的晶片數量和參數信息設置待刻蝕晶片的優先級；由機械手根據晶片的優先級進行取片傳輸，不同晶片類型的晶片傳輸至不同反應腔室，通過設置優先級的方式，最大限度的提高了反應腔室的并行性，提高了晶片刻蝕效率。
文檔編號H01L21/00GK1848014SQ200510126440
公開日2006年10月18日 申請日期2005年12月9日 優先權日2005年12月9日
發明者崔琳 申請人:北京圓合電子技術有限責任公司