專利名稱：真空壓產生裝置及具有該真空壓產生裝置的薄膜形成裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及真空壓產生裝置及具有該真空壓產生裝置的薄膜形成裝置。更詳細地說，本發明涉及提高形成在工序區域內的真空壓均勻性的真空壓產生裝置及具有該真空壓產生裝置的薄膜形成裝置。
背景技術：
一般而言，處理信息的信息處理裝置代表是臺式電腦、手提電腦、手機、及PDA(personal digital assistants)等。
大部分的信息處理裝置包括處理信息的半導體芯片及將處理的圖像改變為圖像的顯示裝置。最近廣泛使用具有厚度輕薄的液晶顯示面板的液晶顯示器。
液晶顯示面板包括具有柵極線、數據線、半導體層、像素電極、濾色器、共同電極、絕緣層、鈍化層等的薄膜。形成在液晶顯示面板的薄膜圖案形成于真空狀態的體內，在真空狀態箱體內進行制作布線圖案。
因此，為了形成液晶顯示面板內薄膜或薄膜圖案需要產生真空壓的箱體及排出箱體內空氣以產生真空壓的真空壓產生裝置。
傳統真空壓產生裝置直接與形成在箱體內空氣排出口連接，排出箱體內部空氣形成箱體內真空壓。
然而，將真空壓產生裝置直接與箱體連接時，空氣排出口周圍的壓力比箱體內其他地方的壓力低，其結果，出現箱體內真空壓的均勻性顯著減少的弊端。
箱體內真空壓不均勻時，出現形成在液晶顯示面板的薄膜質量明顯降低的弊端。
發明內容
因此，本發明旨在實質性地克服現有技術中存在的一個或多個弊端及局限。
本發明一個目的在于提供一種可提高箱體內部的真空壓均勻性的真空壓產生裝置。
本發明的另外一個目的在于提供一種具有所述真空壓產生裝置的薄膜形成裝置。
根據本發明的真空壓產生裝置包括真空壓產生單元及穩定化模塊。
其中，真空壓產生單元排出工序區域流體以在工序區域形成真空。穩定化模塊置于工序區域及真空壓產生單元，為了提高工序區域的真空均勻性，其具有流通流體的至少兩個彎曲的流體通道。選擇性地，穩定化模塊包括至少兩個排氣極板，各排氣極板在平面上觀察時，形成彼此不面對的排氣端口。優選地，形成在各排氣極板的排氣端口彼此串聯或圓形布置。
此外，根據本發明的薄膜形成裝置包括箱體、真空壓產生單元、及穩定化模塊。
箱體提供進行薄膜工序的空間，并形成開口。真空壓產生單元置于開口，排出箱體內部流體以在箱體內部形成真空。穩定化模塊置于真空壓產生單元及箱體之間，為了提高箱體內部的真空均勻性，具有使箱體內部流體彎曲通過的至少兩個流體通道。選擇性地，穩定化模塊包括至少兩個排氣極板，平面上觀察時，在各排氣極板形成彼此不面對布置的端口。優選地，形成在各排氣極板的排氣端口彼此串聯或圓形布置。
本發明的特征在于，在箱體及真空單元之間布置使流體彎曲流出的穩定化模塊，以減少工序區域內產生的真空不均勻性。
本發明的真空壓產生裝置包括產生真空壓的真空壓產生單元及提高真空均勻性的穩定模塊。
排出真空壓產生單元工序區域的流體以在工序區域形成真空。例如，本發明的真空產生單元為了在基片上形成薄膜排出工序區域內空氣以形成真空。
穩定化模塊置于工序區域及真空產生單元之間，提高工序區域的真空均勻性。穩定化模塊流體包括，例如包括惰性氣體的氣體通過的至少兩個彎曲流體通道。
像這樣，隨著工序區域內流體通過彎曲流體通道分散到外部，可提高工序區域內的真空均勻性。
圖1是根據本發明第一實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖；圖2是示出了圖1中的真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖；圖3是示出了根據本發明第二實施例的真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖；圖4是示出了根據本發明第三實施例的真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖；圖5是根據本發明第四實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖；圖6是根據本發明第五實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖；圖7是根據本發明第六實施例的薄膜形成裝置的示意性截面圖。
具體實施例方式
下面將參照附圖詳細說明根據本發明的優選實施例。
真空壓產生裝置實施例1
圖1是根據本發明第一實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖，圖2是示出了圖1中真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖。
參照圖1及圖2，根據本實施例的真空產生裝置400包括真空產生單元100及穩定化模塊200。
真空產生單元100排出工序區域10內的流體以形成真空壓，例如，排出氣體在工序區域10內部形成真空壓。
根據本實施例的真空壓產生單元100的示例有通過馬達內旋轉運動排出工序區域10內氣體的真空泵。此外，真空產生單元100可以使用可排出工序區域10內部氣體的任何裝置。
穩定化模塊200置于工序區域10及真空壓產生單元100之間，并提高工序區域10中的真空壓均勻性。穩定模塊200包括流體通道，例如具有使氣體彎曲通過的兩個流體通道。根據本實施例的穩定化模塊200包括至少層疊兩個的排氣極板210。
根據本實施例的各排氣極板210，在平面上觀察時，其具有彼此不面對地錯開布置的排氣端口212。本實施例中，在平面上觀察時，各排氣端口210具有圓形或橢圓形，優選地，各排氣端口212的排氣面積相同。
下面，將根據本實施例的排氣極板210定義為第n次排氣極板、第n+1次排氣極板、第n+2次排氣極板，其中n為自然數。
本實施例中，在極板210中的第n次排氣極板210a形成由至少兩個排起端口212a組合的第n排氣端口組。屬于根據本實施例的第n排氣端口組的排氣端口212a，例如，可多個彼此串聯布置。
另外，排氣極板210中在第n+1次排氣極板210b形成由至少兩個排氣端口212b組合的第n+1排氣端口組。屬于根據本實施例的第n+1排氣端口組的排氣端口212b，例如多個彼此串聯布置。
本實施例中，優選地，屬于第n排氣端口的排氣端口212a組及屬于第n+1排氣端口組的排氣端口彼此不面對布置。
本實施例中，屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b，在平面上觀察時置于第n排氣端口組的排氣端口212a之間。優選地，屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b置于屬于第n排氣端口組的四個排氣端口212a之間。
根據本實施例的真空壓產生裝置400包括連接排氣極板210及真空壓產生單元100的固定件300。
固定件300為了形成底面320及容納空間，其包括從底面320邊緣延伸的側壁310。
本實施例中，排氣極板210通過固定件300被固定。優選地，排氣極板210固定在固定件300的側壁310。優選地，在固定件300底面形成與真空壓產生單元100連接的開口322。本實施例中，固定件300的底面320，例如呈極板狀。
根據本實施例，工序區域10內流體20通過由彼此不面對布置的排氣端口被彎曲的移動通道向外部分散排除，以大大減少工序區域10內產生的真空壓不均勻性。
實施例2圖3是示出了根據本發明第二實施例的真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖。根據本發明第二實施例的真空壓產生裝置除了穩定化模塊之外，與所述的第一實施例的真空壓產生裝置具有相同結構，因此省略對其的重復說明，并且對于相同的組成元件以相同的參照符號及名稱表示。
參照圖3，根據本實施例的真空壓產生裝置400包括真空壓產生單元100及穩定化模塊200。
根據本實施例的穩定化模塊200置于工序區域10及真空壓產生單元100之間，以提高工序區域10中的真空壓均勻性。穩定化模塊200具有至少兩個流體20通道，例如氣體彎曲地通過的至少兩個流體通道。
根據本實施例的穩定化模塊200包括至少層疊兩個的排氣極板210。
平面上觀察時，根據本實施例的各排氣極板210具有彼此不面對而錯開布置的排氣端口212。本實施例中，在平面上觀察時，各排氣端口210呈圓形或橢圓形，優選地，各排氣端口212的排氣面積相同。
下面，將根據本實施例的排氣極板210定義為第n次排氣極板、第n+1次排氣極板、第n+2次排氣極板，其中n為自然數。
本實施例中，在排氣極板210中的第n次排氣極板210a形成由至少兩個排氣端口212a組合的第n排氣端口組。根據本實施例的第n排氣端口組的排氣端口212a彼此并排具有同心圓并且圓形布置。
另外，在排氣極板210中的第n+1次排氣極板210b形成由至少兩個排氣端口212b組合的第n+1排氣端口組。根據本實施例的第n+1排氣端口組的排氣端口212b彼此并排具有同心圓并且圓形布置。
本實施例中，優選地，屬于第n排氣端口組的排氣端口212a及屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b彼此不面對布置。
本實施例中，屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b，在平面上觀察時，置于第n排氣端口組的排氣端口212a之間。優選地，屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b與由屬于第n排氣端口組的排氣端口212c制成的圓具有相同中心，優選地，置于具有另外半徑的位置。
本實施例中，工序區域10內流體20通過由彼此不面對地圓形布置的排氣端口彎曲的移動通道向外分散排出，以減少在工序區域10內產生的真空不均勻性。
實施例3圖4是示出了根據本發明第三實施例的真空壓產生裝置的排氣極板的分解透視圖。根據本發明第三實施例的真空壓產生裝置除了穩定化模塊之外與所述第一實施例的真空產生裝置具有相同的結構，因此省略對其的重復說明，對相同的組成元件用相同的參照符號及名稱表示。
參照圖4，根據本實施例的真空壓產生裝置400包括真空壓產生單元100及穩定化模塊200。
根據本實施例的穩定化模塊200置于工序區域10及真空壓產生單元100之間，提高工序區域100中的真空壓均勻性。穩定化模塊200具有流體通道，例如，氣體彎曲地通過的至少兩個流體通道。
根據本實施例的穩定化模塊200包括至少層疊兩個的排氣極板210。
根據本實施例的各排氣極板210，在平面上觀察時，具有彼此不面對且錯開布置的排氣端口212。本實施例中，在平面上觀察時，各排氣端口210呈圓形或橢圓形，優選地，各排氣端口212的排氣面積相同。
下面，將根據本實施例的排氣極板210定義為第n次排氣極板、第n+1次排氣極板、第n+2次排氣極板，其中n為自然數。
本實施例中，在排氣極板210中的第n次排氣極板210a形成由至少兩個排氣端口212a組合的第n排氣端口組。根據本實施例的第n排氣端口組的排氣端口212a多個隨意(random)布置。
另外，在排氣極板210中的第n+1次排氣極板210b形成由至少兩個排氣端口212b組合的第n+1排氣端口組。根據本實施例的第n+1排氣端口組的排氣端口212b多個隨意布置。
本實施例中，優選地，屬于第n排氣端口組的排氣端口212a及屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b彼此不面對布置。
本實施例中，優選地，屬于第n排氣端口組的排氣端口212a及屬于第n+1排氣端口組的排氣端口212b彼此不面對布置。
本實施例中，工序區域10內的流體20通過由隨意布置的排氣端口彎曲的移動通道向外分散排出，以減少在工序區域10內產生的真空不均勻性。
實施例4圖5是根據本發明第四實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖。根據本發明第四實施例的真空壓產生裝置除了固定件之外與所述第一實施例的真空產生裝置具有相同結構，因此省略對其重復內容的說明，對相同的組成元件以相同的參照符號及名稱表示。
參照圖5，根據本實施例的真空壓產生裝置400包括真空壓產生單元100、穩定化模塊200、及固定件300。
根據本實施例的固定件300為了形成底面320及容納空間，其包括從底面320延伸的側壁310。
本實施例中，排氣極板210被固定件300固定。優選地，排氣極板210固定在固定件300的側壁310。在固定件300的底面320形成與真空產生單元100連接的開口322。
本實施例中，固定件300的底面330呈向真空壓產生單元100其平面面積逐漸減少的圓錐體(cone)狀。
本實施例中，優選地，在具有圓錐體狀的底面330布置使流體排出彎曲通道的排氣極板210。與此不同地，在呈圓錐狀的底面330布置排氣極板210。
根據本實施例，固定件300的底面330具有其平面面積逐漸減少的圓錐體狀，從而較有效地向外排出工序區域10內的流體20，其結果，減少了工序區域10內產生的真空不均勻性。
實施例5圖6是根據本發明第五實施例的真空壓產生裝置的示意性截面圖。根據本發明第五實施例的真空壓產生裝置除了穩定化模塊及固定件之外與所述第一實施例的真空產生裝置具有相同的結構，因此省略對其的重復說明，對相同組成元件用相同參照符號及名稱表示。
參照圖5，根據本實施例的真空壓產生裝置400包括真空壓產生單元100、穩定化模塊200、及固定件300。
根據本實施例的穩定化模塊200置于工序區域10及真空壓產生單元100之間，并提高工序區域10中的真空壓均勻性。穩定化模塊200具有流體通道20，例如，具有流體彎曲通過的至少兩個流體通道。
根據本實施例的穩定化模塊200包括至少層疊兩個的排氣極板210。
根據本實施例的各排氣極板210，在平面上觀察時，具有彼此不面對且錯開布置的排氣端口212。本實施例中，在平面上觀察時，各排氣端口210呈圓形或橢圓形，優選地，各排氣端口212的排氣面積相同。
根據本實施例的固定件300為了形成底面320及容納空間，其包括從底面320邊緣延伸的側壁310。
本實施例中，排氣極板210被固定件300固定，優選地，排氣極板210固定在固定件300的側壁。在固定件300的底面320形成與真空壓產生單元100連接的開口322。
本實施例中，固定件300的底面330具有向真空壓產生單元100其平面面積逐漸減少的圓錐體狀。本實施例中，在具有圓錐體狀的底面330布置使流體排出彎曲通道的排氣極板210。
本實施例中，形成在各排氣極板210的多個排氣端口214，例如，在底面330的開口332以圓形或橢圓形布置，根據本實施例的各排氣端口214的排氣面積從底面330開口越遠遠大。與此不同地，各排氣端口214的排氣面積從底面330開口越遠越小。
例如，置于具有圓錐體狀的底面330的各排氣極板210的排氣端口214從開口332越遠離其面積越大，優選地，固定在側壁310的各排氣極板210的排氣端口214從開口332與距離無關具有相同面積。
本實施例中，各排氣端口214的排氣面積從底面330的開口332越遠越大，從而工序區域10內的流體20可更有效地排出到外部。
薄膜形成裝置實施例6圖7是根據本發明第六實施例的薄膜形成裝置的示意性截面圖。
參照圖7，根據本實施例的薄膜形成裝置包括箱體500、真空壓產生單元100、及穩定化模塊200。
箱體500提供空間，例如，提供形成基片上以薄膜形態沉積金屬層或非金屬層的薄膜工序的空間。
根據本實施例的箱體500內的流體20，例如形成將惰性氣體排出到外部的開口510。本實施例中，在箱體500內布置空氣吸收性良好的吸氣器(getter)，以提高箱體500內的真空度。真空壓產生單元100與箱體500內的開口510連接，并排出箱體500內的流體20，以在箱體500內部形成真空。
穩定化模塊200置于真空壓產生單元100及箱體500之間，提高箱體500內部的真空均勻性。在穩定化模塊200形成流體20通道，例如形成氣體通過的至少兩個彎曲的流體通道。
根據本實施例的穩定化模塊200包括至少層疊兩個的排氣極板210。
平面上觀察時，在根據本實施例的各排氣極板210形成彼此不面對的排氣端口212。本實施例中，各排氣端口210呈圓形或橢圓形，優選地，各排氣端口212的排氣面積彼此相同。與此不同地，各排氣端口212的排氣面積從真空壓產生單元100越遠越大。
本實施例中，形成在各排氣極板210的排氣端口210，例如多個彼此串聯布置。與此不同地，形成在各排氣極板210的多個排氣端口212以圓形布置或隨意布置。
根據本實施例的真空壓產生裝置400進一步包括排氣極板210及與真空壓產生單元100連接的固定件300。
根據本實施例的固定件300包括底面320及為了形成容納空間從底面320邊緣延長的側壁310。
本實施例中，排氣極板210被固定件300固定。優選地，排氣極板210固定在固定件300的側壁310。在固定件300的底面320形成于真空壓產生單元100的連接開口322。
本實施例中，固定件300的底面320，例如呈極板狀。與此不同地，固定件300的底面320具有向真空壓產生單元100其平面面積減少的圓錐體狀。
本實施例中，箱體500內部的流體具有排氣端口212彎曲的移動通道并向外部分散排出，以減少在箱體10內產生的真空不均勻性。
發明效果如上所述，形成在各排氣極板的多個排氣端口彼此不面對布置，其結果，工序區域內的流體由排氣端口彎曲分散排出，以減少工序區域內產生的真空不均勻性。
而且，固定排氣極板的固定件中的底面呈其平面面積減少的圓錐體狀，以在工序區域內的流體通過圓錐狀底面排出到外部，更加提高排出效率。
以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包括在本發明的保護范圍之內。
符號說明100真空壓產生單元 200穩定化模塊
210排氣極板 212排氣端口210a、210c、210e第n次排氣極板212a、212c、212e第n次排氣極板210b、210d、210f第n+1次排氣極板212b、212d、212f第n+1次排氣極板300固定件 310側壁320、330底面322、332開口400真空壓產生裝置 500箱體600薄膜形成裝置
權利要求
1.一種真空壓產生裝置，其包括真空壓產生單元，排除工序區域流體以在所述工序區域內形成真空；以及穩定化模塊，置于所述工序區域及所述真空壓產生單元之間，為了提高所述工序區域的真空均勻性，其具有所述流體通過的至少兩個彎曲的流體通道。
2.根據權利要求1所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述穩定化模塊包括至少兩個排氣極板，平面上觀察時在所述各排氣極板形成彼此不面對的排氣端口。
3.根據權利要求2所述的真空壓產生裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n次排氣極板形成包括至少兩個排氣端口的第n排氣端口組，其中n為自然數。
4.根據權利要求3所述的真空壓產生裝置，其特征在于，包括在所述第n排氣端口組的所述排氣端口彼此串聯布置。
5.根據權利要求3所述的真空壓產生裝置，其特征在于，包括在所述第n排氣端口組的所述排氣端口圓形布置。
6.根據權利要求3所述的真空壓產生裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n+1次排氣極板形成平面上觀察時與所述第n排氣端口不面對布置的第n+1排氣端口組，其中n為自然數。
7.根據權利要求6所述的真空壓產生裝置，其特征在于，在所述第n+1排氣端口組，所述排氣端口彼此串聯布置。
8.根據權利要求2所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述各排氣端口的排氣面積實際相同。
9.根據權利要求2所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述排氣極板及所述真空產生單元與固定件連接，所述固定件包括形成固定所述排氣極板的側壁及與所述真空壓產生單元連接的開口的底面。
10.根據權利要求9所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述底面呈極板狀。
11.根據權利要求9所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述底面呈其平面面積逐漸減少的圓錐狀。
12.根據權利要求9所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述排氣端口以圓形排列在所述開口周邊，所述排氣端口的排氣面積從所述開口越遠越大。
13.根據權利要求9所述的真空壓產生裝置，其特征在于，所述排氣端口以圓形排列在所述開口周邊，所述排氣端口的排氣面積從所述開口越遠越小。
14.根據權利要求2所述的真空壓產生裝置，其特征在于，形成在所述各排氣極板的排氣端口隨意形成。
15.一種薄膜形成裝置，其包括箱體，提供進行薄膜工序的空間并且形成有開口；真空壓產生單元，置于所述開口，并排出所述箱體內的流體以在所述箱體內部形成真空；穩定化模塊，置于所述真空壓產生單元及所述箱體之間，為了提高箱體內部真空均勻性，其具有使所述箱體內部流體彎曲通過的至少兩個流體通道。
16.根據權利要求15所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述穩定化模塊包括覆蓋所述開口的至少兩個排氣極板，在所述排氣極板形成平面上觀察時彼此不面對的排氣端口。
17.根據權利要求16所述的薄膜形成裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n次排氣極板形成至少一個第n排氣端口組，包括在所述第n排氣端口組的所述排氣端口彼此串聯布置。
18.根據權利要求16所述的薄膜形成裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n次排氣極板形成至少一個第n排氣端口組，包括在所述第n排氣端口組的所述排氣端口圓形排列。
19.根據權利要求16所述的薄膜形成裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n+1次排氣極板形成平面上觀察時與所述第n排氣端口組面不面對布置的第n+1排氣端口組，所述排氣端口在所述第n+1排氣端口組串聯布置。
20.根據權利要求16所述的薄膜形成裝置，其特征在于，在所述排氣極板中第n+1次排氣極板形成平面上觀察時與所述第n排氣端口組不面對布置的第n+1排氣端口組，所述排氣端口在所述第n+1排氣端口組圓形布置。
21.根據權利要求16所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述排氣極板及所述真空產生單元與固定件連接，所述固定件包括固定所述排氣極板的側壁及形成與所述真空壓產生單元連接的開口的底面。
22.根據權利要求21所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述底面呈極板狀。
23.根據權利要求21所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述底面呈其平面面積逐漸減少的圓錐狀。
24.根據權利要求21所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述排氣端口圓形排列在開口周邊，所述排氣端口的排氣面積從所述開口越遠越大。
全文摘要
本發明提供了一種真空壓產生裝置及具有該真空壓產生裝置的薄膜形成裝置。真空壓產生裝置包括真空壓產生單元及穩定化模塊。真空壓產生單元排出工序區域流體以在工序區域形成真空。穩定化模塊置于工序區域及真空壓產生單元之間，為了提高工序區域的真空均勻性，其具有流體通過的至少兩個彎曲的流體通道。工序區域內流體通過彎曲的流體通道排出，以提高工序區域內的真空均勻性。
文檔編號H01L21/311GK1790612SQ20051011582
公開日2006年6月21日 申請日期2005年11月9日 優先權日2004年12月6日
發明者宋仁虎, 趙寬英 申請人:三星電子株式會社