專利名稱：基板的處理裝置、輸送裝置及處理方法
技術領域：
本發明涉及適合用于將基板用處理液處理后干燥處理的情況的基板的處理裝置、輸送裝置及處理方法。
背景技術：
在液晶顯示裝置中使用的玻璃制基板上形成有電路圖案。為了在基板上形成電路圖案，采用光刻工藝。光刻工藝如總所周知，將抗蝕劑涂布在上述基板上，隔著形成有電路圖案的掩模對該抗蝕劑照射光。
接著，通過重復進行將抗蝕劑的沒有被照射光的部分或照射了光的部分除去、將基板的除去了抗蝕劑的部分蝕刻、在蝕刻后除去抗蝕劑等一系列的工序，在上述基板上形成電路圖案。
在這樣的光刻工藝中，有利用顯影液對上述基板上的抗蝕劑進行顯影后、利用蝕刻液對基板進行蝕刻處理、在蝕刻后用剝離液除去抗蝕劑等的利用藥液處理基板的工序。
在藥液的處理后，有將基板用濃度比上述蝕刻液低的蝕刻液進行蝕刻清洗、接著利用純水進行漂洗等、利用作為處理液的清洗液清洗的工序，在清洗后有將附著殘留在基板上的清洗液干燥除去的干燥工序。
以往，在對基板進行上述的一系列處理的情況下，上述基板通過使軸線水平配置的輸送輥，在水平的狀態下依次輸送到各個處理室中，在那里通過處理液處理、或噴射壓縮氣體來進行干燥處理。
最近，在液晶顯示裝置中使用的玻璃制基板有大型化及薄型化的趨勢。因此，如果將基板水平輸送，則輸送輥間的基板的彎曲變大，所以產生各處理室中的處理不能遍及基板的整個版面均勻地進行的問題。
如果基板大型化，則設有用于輸送該基板的輸送輥的輸送軸長尺寸化。并且，通過基板大型化，供給到基板上的處理液增大，對應于基板上的處理液的量，施加在上述輸送軸上的負荷變大，所以因為這些，輸送軸的彎曲增大。因此，有時會在基板上與輸送軸一起產生彎曲，不能進行均勻的處理。
發明內容
本發明的目的是提供一種能夠使在基板上產生的彎曲變少而輸送基板的基板的處理裝置、輸送裝置及處理方法。
本發明提供一種處理基板的處理裝置，其特征在于，具備輸送機構，將基板以立位狀態輸送；處理機構，對由該輸送機構以立位狀態輸送的基板進行規定的處理；裝載部，將基板交接給該處理機構；以及卸載部，接受由上述處理機構處理后的基板，上述裝載部和上述卸載部的至少一個具備交接體，可旋轉地設置，具有供給載置上述基板的支撐面；驅動機構，旋轉驅動該交接體，以規定的傾斜角度定位上述交接體的支撐面。
圖1是表示有關本發明的一實施方式的處理裝置的概略結構的立體圖。
圖2是表示上述處理裝置的處理部的立體圖。
圖3是表示蝕刻清洗部與純水清洗部的立體圖。
圖4是蝕刻清洗部與純水清洗部的縱剖視圖。
圖5是將基板的形成有圖案的面清洗處理時的說明圖。
圖6是使基板向傾斜方向凸出地彎曲來支撐的狀態的側視圖。
圖7A是使裝載部及卸載部的交接體的支撐面水平的狀態的側視圖。
圖7B是使上述支撐面傾斜的狀態的側視圖。
具體實施例方式
以下，參照
本發明的一實施方式。
圖1表示有關本發明的一實施方式的處理裝置。該處理裝置具備基臺1。在該基臺1的上表面的長度方向一端部設有裝載部2，在另一端部設有卸載部3，在這些裝載部2與卸載部3之間設有處理部4。
上述裝載部2與卸載部3具備交接體6，該交接體6具有矩形狀的支撐面5。在該交接體6的寬度方向中央部分設有支軸7。該支軸7可旋轉地被支撐在立設于上述基臺1的上表面上的支撐體8上。在支軸7的從上述支撐體8突出的端部嵌裝有從動滑輪9。在該從動滑輪9和嵌裝在馬達11的旋轉軸上的驅動滑輪12之間，設有同步帶13。由上述從動滑輪9、馬達11、驅動滑輪12及同步帶13形成本發明的驅動機構。
如果通過上述馬達11驅動同步帶13，則能夠將上述交接體6的支撐面5改變為圖1中用點劃線表示的水平的狀態及由實線表示的以規定的角度傾斜的傾斜狀態。
在上述支撐面5上矩陣狀地設有多個承接輥15，該多個承接輥15的旋轉軸線沿著相對于基臺1的長度方向正交的方向可旋轉。上述各承接輥15如圖7A、圖7B所示，可旋轉地安裝在立設于上述支撐面5上的支撐片16上。
在上述支撐面5的寬度方向一端部，沿著與寬度方向交叉的方向以規定間隔設有作為第1驅動輥的多個驅動輥17，該多個驅動輥17的軸線相對于支撐面5正交，并且如圖7A、圖8A所示，該多個驅動輥17可通過驅動馬達18旋轉驅動。在各驅動輥17的外周面上形成有承接槽19。
另外，在圖1中，雖然沒有圖示卸載部3的驅動機構，但是為與裝載部2的驅動機構相同的結構，能夠將交接體6的支撐面5設定為水平狀態及規定的傾斜角度。
對于上述裝載部2，從處理裝置的前工序以水平狀態供給在液晶顯示裝置中使用的矩形狀的基板W。即，基板W從前工序的裝置通過未圖示的機器人等輸送機構以大致水平的狀態輸送到上述裝載部2。在裝載部2接受基板W時，上述交接體6被馬達11控制旋轉角度，以使支撐面5成為大致水平。
如圖7A中點劃線所示，支撐基板W的機器人的一對的臂21在支撐面5上前進，下降到規定的位置后后退。由此，基板W的設在與設備面相反側的面被設在支撐面5上的多個承接輥15支撐。
如果基板W被供給到支撐面5上，則交接體6在馬達11的作用下旋轉，如圖7B所示，從垂直的狀態起立為以角度θ1向規定方向傾斜的傾斜角度。θ1優選為5～20度，因而，基板W的起立角度優選為70～85度。
如果交接體6被向起立方向驅動，則基板W向起立方向下方滑動，下端被以一列設置在交接體6的寬度方向一端部上的驅動輥18的承接槽19所支撐。在此狀態下，如果使驅動馬達18動作而旋轉驅動各驅動輥18，則能夠將基板W以角度θ1的傾斜狀態從裝載部2向處理部4輸送。
上述處理部4被蓋23覆蓋。在該蓋23的長度方向一端面和另一端面上，分別開口形成有以與基板W的傾斜角度θ1對應的角度傾斜的縫隙狀的送入口24及送出口(未圖示)。因而，由上述裝載部2的驅動輥17輸送的基板W被從上述送入口24向處理部4送入。
上述處理部4如圖2所示，沿著基臺1的長度方向一列地配置有第1臺25、第2臺26。各臺25、26具有規定厚度的矩形狀的基礎部件27，在各基礎部件27的板面上設有將上述基板W以角度θ1的傾斜角度輸送的輸送機構28。
上述輸送機構28具有作為第2驅動輥的多個驅動輥29，該多個驅動輥29沿著基臺1的長度方向以規定間隔設在各臺25、26的下端部。如圖6所示，各驅動輥29在外周面上形成有承接槽29a，并且由設在上述基礎部件27上的驅動馬達30旋轉驅動。
在各驅動輥29的上方，分別沿著上下方向以規定間隔設有多個、在該實施方式中設有3個承接輥31a～31c。如圖6所示，各承接輥31a～31c分別在承接部件32a～32c的前端部上表面上，使軸線垂直于該上端部上表面、并可旋轉地支持，該承接部件32a～32c突設于上述基礎部件27的板面上。
從上述裝載部2供給到輸送機構28的基板W使下端卡合在驅動輥29的承接槽29a中，使與設備面相反側的面即背面支撐在上述承接輥31a～31c上來進行輸送。
下端被驅動輥29支撐、背面被3個承接輥31a～31c支撐的基板W中，連結下部與上部的、圖6中用點劃線表示的線相對于垂線以規定的角度θ1向背面側傾斜，并且高度方向的中途部向作為傾斜方向的背面側凸出地彎曲。即，高度方向中途部的承接輥31b設在比以由點劃線表示的傾斜角度θ1支撐基板W的位置更向傾斜方向后方退避規定尺寸的位置。
通過不僅以傾斜角度θ1使基板W傾斜而支撐，還使高度方向中途部向傾斜方向凸出地彎曲來支撐，能夠防止上述基板W向與傾斜方向相反方向壓曲。
即，基板W通常較薄為0.7mm左右，并且在最近大型化為2m邊長左右的大小。因此，如果輸送時的基板W的傾斜角度θ1相對于垂直的狀態很小、即傾斜角度θ1較小，則基板W的自重有可能超過壓曲負荷，如上所述向與傾斜方向相反方向、即圖6中箭頭X所示的方向壓曲。
但是，通過將基板W如上述那樣彎曲以使高度方向中途部向傾斜方向凸出，即使基板W大型化或薄型化，也能夠防止向與傾斜方向相反方向壓曲。
如圖2中點劃線所示，在上述處理部4的第1臺25上，沿著基板W的輸送方向依次配置有一對刷清洗部34、蝕刻清洗部35及純水清洗部36，在第2臺26上配置有干燥處理部37。
雖然沒有詳細圖示，但上述刷清洗部34具有沿著由輸送機構28以立位狀態輸送的基板W的高度方向被環狀驅動的一對刷帶，通過將上述基板W輸送到一對刷帶之間，將其設備面和背面進行刷清洗。
由上述刷清洗部34刷清洗后的基板W被蝕刻清洗部35清洗后由純水清洗部36漂洗處理。蝕刻清洗部35與純水清洗部36如圖3和圖4所示，具有主體部41。該主體部41的一對帶板部件42隔著設在周緣部上的襯墊43層疊。由此，在一對帶板部件42之間形成上述基板W能夠通過的間隙部44。間隙部44的尺寸優選為盡可能窄，在該實施方式中例如設定為上述基板W的厚度尺寸的幾倍左右。
在上述一對帶狀部件42上，沿上下方向以規定間隔形成有多個縫隙45，該多個縫隙45朝向輸送的基板W的高度方向上方以規定的角度傾斜。該縫隙45使一端在上述間隙部44上開口，使另一端在上述帶狀部件42的外表面開口。縫隙45的長度尺寸被設定為比上述帶狀部件42的寬度尺寸稍小。
在一對帶狀部件42的外表面上分別設有蓋部件46。在該蓋部件46的內表面上利用凹部形成有腔室47。在上述帶狀部件42的外表面上開口的上述多個縫隙45連通到該腔室47。
在上述蓋部件46上，沿著上下方向以規定間隔形成有將處理液向上述腔室47內供給的多個給液口48。在圖4中僅表示形成在下端部的1個給液口48。
在各供給口48上連接著在圖3中用點劃線表示的處理液的供給管49。從供給管49供給的處理液流入到上述腔室47中，從該腔室47通過上述縫隙45朝向形成于上述帶狀部件42間的間隙部44噴射。基板W通過上述間隙部44。由此，將清洗液從基板W的設備面和背面的下方朝向上方噴射，所以該基板W的兩側面被清洗。
作為處理液，對蝕刻處理部37供給蝕刻液，對純水清洗部36供給純水。基板W的兩面在被蝕刻清洗部37蝕刻清洗后，由純水清洗部36進行將蝕刻液從基板W的板面清洗除去的漂洗處理。
在基板W的設備面上，如圖5所示形成有電路圖案P。在蝕刻清洗部37中，將蝕刻液如該圖中用箭頭表示那樣從下方朝向上方對在間隙部44中輸送的基板W的兩側面噴射。
在基板W的設備面上，如果將蝕刻液朝向基板W的高度方向上方噴射，則圖案P的下端緣d被蝕刻液可靠地蝕刻清洗。圖案P的上端緣u被沿著基板W的版面向下方流動的蝕刻液蝕刻處理。因此，即使將基板W以立位狀態輸送，也能夠將形成在該設備面上的圖案P的下端緣d可靠地蝕刻處理。
在純水清洗部36中，與蝕刻清洗部35同樣，將純水相對于基板W的板面的高度方向從下方朝向上方噴射。因此，附著在圖案P的上端緣u上的蝕刻液被沿著板面向下方流動的純水漂洗處理，附著在下端緣d上的蝕刻液被從下方朝向上方噴射的純水可靠地漂洗處理。
如圖3所示，上述蝕刻清洗部35與純水清洗部36的主體部41，向基板W的輸送方向后方以θ2的角度傾斜地配設。θ2優選為5～30度，也可以是其以上的角度。
因此，從位于蝕刻清洗部35和純水清洗部36的上部的縫隙45分別向基板W的板面噴射的蝕刻液及純水，從間隙部44向傾斜方向后方即垂直方向流出落下。因而，防止了從位于主體部41的上方的縫隙45噴射的蝕刻液及清洗液與從位于下方的縫隙45噴射的蝕刻液及清洗液干涉，所以能夠使蝕刻液及清洗液分別以規定的吐出力可靠地從各縫隙45朝向基板W的板面噴射。
另外，在蝕刻清洗部35及純水清洗部36中，使蝕刻液及純水對基板W的兩面從下方朝向上方噴射，但只要對至少基板W的設備面使蝕刻液及純水從下方朝向上方噴射就可以，對于背面沿水平方向或從上方朝向下方噴射都可以。
被上述純水清洗部36漂洗處理后的基板W由設在第2臺26上的干燥處理部37干燥處理。干燥處理部37雖然詳細情況沒有圖示，但與純水處理部36同樣，具有基板W通過的間隙部，對于在該間隙部中輸送的基板W的板面將清潔空氣等的氣體從縫隙朝向基板W的輸送方向后方噴射。由此，能夠將附著在基板W的板面上的清洗液干燥除去。
被干燥處理部37干燥處理后的基板W被交接給上述卸載部3。即，卸載部3的交接體6使其支撐面5以對應于從處理部4送出的基板W的傾斜角度θ1對應的角度傾斜而待機。
被干燥處理的基板W被從形成在覆蓋處理部4的蓋23上的未圖示的送出口送出。被送出的基板W使下端卡合在設于上述交接體6上的驅動輥17上，所以通過旋轉驅動驅動輥17，能夠將基板W輸送定位在與支撐面5對置的位置上。
如果基板W被定位在與交接體6的支撐面5對置的位置上，則將驅動輥17停止而使驅動機構的馬達11動作，使交接體6旋轉以使支撐面5大致成為水平。即，將基板W的狀態從以角度θ1傾斜的立位狀態變換為大致水平的狀態。由此，能夠通過未圖示的機器人等，將支撐在交接體6上的基板W交接給下個工序。
這樣，如果使基板W的起立角度為70～85度、即相對于垂直的狀態以5～20度的角度傾斜而支撐，則能夠不向與傾斜方向相反方向傾倒而在穩定的狀態下輸送。并且，大幅降低了基板W在被水平輸送那樣的情況下因自重而彎曲的狀況。
在上述裝載部2和卸載部3上設置被旋轉驅動的交接體6，能夠控制該交接體6的支撐面5的傾斜角度。因此，即使基板W在前工序中在水平的狀態下被處理，也能夠通過上述交接體6的支撐面5水平地承接基板W后，使其以規定的角度傾斜而交接給處理部4。
同樣，在上述卸載部3中，能夠將在處理部4中以規定的傾斜角度處理后的基板W在由交接體6的支撐面5承接后，變換為水平狀態而交接給下個工序。
因而，通過具有上述結構的裝載部2和卸載部3，即使在處理裝置的前工序和后工序中以水平或傾斜的狀態處理基板W，也能夠與該處理狀態無關地將基板W供給到處理部4、或從處理部4交接給下個工序。
在蝕刻清洗部35與純水清洗部36中，使蝕刻液及純水從基板W的高度方向下方朝向上方噴射。因此，如圖5所示，在蝕刻清洗部35中，能夠從縫隙45向形成在基板W的設備面上的圖案P的高度方向下端緣d可靠地噴射蝕刻液而進行蝕刻清洗，在純水清洗部36中同樣能夠對圖案P的下端緣d可靠地噴射純水而進行漂洗處理。圖案P的上端緣u被從基板W的上方朝向下方流動的蝕刻液及純水處理。
因此，即使將基板W在立位狀態下輸送，也能夠沒有不均勻地、可靠地用蝕刻液或純水清洗處理形成在其設備面上的圖案P。
使以角度θ1傾斜而以立位狀態被支撐輸送的基板W如圖6所示那樣向傾斜方向凸出地彎曲。因此，即使基板W的尺寸大型化，也能夠防止因自重而使基板W向與傾斜方向相反方向壓曲。
即，如圖6中點劃線所示，如果將基板W僅以θ1的傾斜角度支撐，則基板W有可能因自重而向由箭頭X所示的與傾斜方向相反方向壓曲。但是，如果使基板W向傾斜方向凸出地彎曲，則能夠防止向與傾斜方向相反方向壓曲。另外，基板W由于被承接輥31a～31c以規定的傾斜角度支撐，所以不會向傾斜方向壓曲。
本發明并不限于上述一實施方式，在不脫離本發明的主旨的范圍內能夠進行各種變形。例如，可以在裝載部與卸載部兩者上設置交接體來改變支撐面的角度，但如果處理部的前工序或后工序的任一個的基板的處理的角度是與處理部中的處理相同的角度，則只要僅在裝載部和卸載部的任一個上設置可調節角度的交接體就可以。
作為用來將交接體的支撐面設定為規定的角度的驅動機構，也可以不通過帶方式，而通過使用連桿的連桿方式進行，該機構不受任何限定。
在將基板在以規定的角度傾斜的立位狀態下輸送時，使基板向傾斜方向凸出地彎曲來輸送，但這樣的基板的輸送并不是僅適用于上述一實施方式所示的處理裝置，只要是輸送容易壓曲的基板的輸送裝置都能夠適用。
如上所述，本發明在將基板一邊以立位狀態輸送一邊通過處理機構處理的情況下，能夠將上述基板的姿勢變換為對應于處理機構的姿勢，或將由處理機構處理后的基板變換為對應于下個工序中的處理的姿勢。
因此，即使通過處理機構以立位狀態處理基板，也能夠從前工序可靠地接受該基板、或可靠地交接給下個工序。
本發明對以立位狀態輸送的基板的板面從下方朝向上方噴射處理液。
因此，在基板的板面上形成有配線圖案等的情況下，能夠對該圖案的下端可靠地噴射處理液來進行處理。
本發明在使基板以規定的角度傾斜而輸送的情況下，使其向傾斜方向凸出地彎曲來支撐。
因此，即使基板大型化，也能夠防止因自重而向與傾斜方向相反方向壓曲。
權利要求
1.一種處理基板的處理裝置，其特征在于，具備輸送機構，將基板以立位狀態輸送；處理機構，對由該輸送機構以立位狀態輸送的基板進行規定的處理；裝載部，將基板交接給該處理機構；以及卸載部，接受由上述處理機構處理后的基板，上述裝載部和上述卸載部的至少一個具備交接體，可旋轉地設置，具有供給載置上述基板的支撐面；以及驅動機構，旋轉驅動該交接體，以規定的傾斜角度定位上述交接體的支撐面。
2.如權利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于，在上述交接體上設有第1驅動輥，在上述交接體旋轉、被供給到上述交接體的支撐面上的基板成為立位狀態時，該第1驅動輥支撐上述基板的下端而向上述處理機構輸送。
3.一種基板的處理裝置，用處理液處理以立位狀態輸送的基板的板面，其特征在于，具備主體部，具有在規定方向上被輸送的上述基板通過的間隙部；一對腔室，隔著上述間隙部與該間隙部分開形成在該主體部，向內部供給上述處理液；縫隙，從上述腔室側朝向上述間隙部側變高地傾斜形成在上述主體部的將上述間隙部與至少一個腔室分隔的部分，對通過上述間隙部的基板的板面噴射上述處理液。
4.如權利要求3所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述主體部朝向上述基板的輸送方向后方傾斜。
5.一種基板的輸送裝置，將基板以規定的角度傾斜來輸送，其特征在于，具備第2驅動輥，支撐上述基板的下端，并且通過被旋轉驅動將上述基板在規定方向上輸送；多個支撐輥，沿著上述基板的輸送方向可旋轉地設置，支撐以規定的角度傾斜的上述基板的板面的上下方向的多個部位；上述多個支撐輥被配置為使上述基板向傾斜方向凸出地彎曲來進行支撐。
6.一種處理基板的處理方法，其特征在于，具備將大致以水平狀態輸送來的基板變換為規定的傾斜角度的立位狀態的工序；一邊輸送變換為立位狀態的基板一邊進行規定的處理的工序；將進行了規定的處理的基板從立位狀態變換為大致水平狀態的工序。
7.一種處理基板的處理方法，其特征在于，具備將基板以立位狀態輸送的工序；對以立位狀態輸送的基板的板面從下方朝向上方噴射處理液來進行處理的工序。
8.一種輸送基板的輸送方法，其特征在于，在將基板傾斜規定的傾斜角度來輸送時，使該基板向傾斜方向凸出地彎曲來輸送。
全文摘要
本發明的處理基板的處理裝置具備輸送機構(28)，將基板以立位狀態輸送；處理部(4)，對由該輸送機構以立位狀態輸送的基板進行規定的處理；裝載部(2)，將基板交接給該處理部；以及卸載部(3)，接受由上述處理部處理后的基板。上述裝載部和上述卸載部的至少一個具備交接體(6)，可旋轉地設置，具有供給載置上述基板的支撐面(5)；以及馬達(11)，旋轉驅動該交接體，以規定的傾斜角度定位該交接體的支撐面。
文檔編號H01L21/304GK101061761SQ20048004444
公開日2007年10月24日 申請日期2004年11月19日 優先權日2004年11月19日
發明者廣瀨治道 申請人:芝浦機械電子株式會社