專利名稱：場致發光顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種場致發光顯示裝置，尤指關于具有彩色濾光層的場致發光顯示裝置。
背景技術：
有機場致發光組件(Organic Electro Luminescence Device以下稱為”有機EL組件”)是自發光型的發光組件。采用此種有機EL組件的有機場致發光(EL)顯示裝置即將成為取代陰極射線管(CRT，CathodeRay Tube)以及液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)的新一代顯示裝置，而備受關注。
圖3表示現有的全彩有機EL顯示裝置的一畫素的概略剖視圖。組件符號200為玻璃基板，組件符號201為形成于玻璃基板200上的用以驅動有機EL組件的薄膜晶體管(TFT，thin film transistor)，組件符號202為第一平坦化絕緣膜。組件符號203為連接于TFT201，同時延伸于第一平坦化絕緣膜202上的氧化銦錫(ITO，Indium Tin Oxide)所構成的陽極層，組件符號204是以覆蓋陽極層203的端部的方式形成的第二平坦化絕緣膜，組件符號205是形成于陽極層203上的R(Red紅)G(Green綠)B(Blue藍)各色的有機EL層，組件符號206為形成于有機EL層205上的陰極層。
再以玻璃基板207覆蓋于上方，將該玻璃基板207與玻璃基板200在兩基板的周邊予以黏接，并且將有機EL層205封入于兩基板內部。此處的RGB各色的有機EL層205是采用金屬光罩，選擇性地蒸鍍可發出R、G、B各色光的有機EL材料。
另一方面，已研發出一種方法，不采用以上所述的RGB各色的有機EL層205，而采用彩色濾光層以實現且有機EL顯示裝置。此時是采用白色有機EL層加上彩色濾光層的構造。
此種有機EL顯示裝置記載于下列的專利文獻1中。
日本專利特開平8-321380號公報發明內容(發明所欲解決的問題)采用白色有機EL層加上彩色濾光層的構造時，則必須配合白色有機EL層的光譜特性來設計彩色濾光層的光譜特性。
圖4表示白色有機EL層的光譜特性與一般液晶用的背光源(3波長螢光管)的光譜特性。由該圖可知，3波長螢光管的光于RGB各波長領域中具有較陡峭的波峰，亦即在440nm附近的藍色領域，550nm附近的綠色領域、630nm附近的紅色領域。
相對于此，白色有機EL層由于具有較寬廣的光譜特性，在整個廣域的波長領域具有較強的光強度之故，反而不易顯現RGB各別的色純度。因此難以確保有機EL面板的色純度乃成為問題所在。
因此，本發明的目的即在于鑒于白色有機EL層的寬廣的光譜特性，而借由將彩色濾光層的光譜特性作適度的調整，以確保有機EL面板的色純度。
(解決問題的手段)本發明的場致發光顯示裝置具備多個R、G、B各畫素，且具有對應于R、G、B各畫素而設置的R、G、B各色的彩色濾光層；具有形成于該R、G、B各色的彩色濾光層上方的白色EL發光層的EL組件；以及分別設置于R、G、B各畫素中，并驅動上述EL組件的TFT；其中，調整該彩色濾光層的膜厚或顏料濃度，以使上述R、G、B各色的彩色濾光層的光穿透率相對于預定的波長領域以外者在50％以下。
(發明的功效)根據本發明，在使用彩色濾光層的有機EL顯示裝置中，采用調整該彩色濾光層的膜厚或者顏料濃度的方式，使R、G、B各色的彩色濾光層103的光穿透率相對于預定的波長領域以外者在50％以下，而得以改善RGB各別的光譜特性，即使采用白色有機EL層，亦可良好地確保面板的色純度。
圖1表示本發明實施形態的有機EL顯示裝置的一畫素的概略剖視圖。
圖2表示變更彩色濾光層103的膜厚時的光譜特性的仿真結果圖。
圖3表示現有的全彩有機EL顯示裝置的一畫素的概略剖視圖。
圖4表示白色有機EL層的光譜特性與用于一般液晶的背光源(三波長螢光管)的光譜特性圖。
組件符號100 絕緣基板101、201 薄膜晶體管TFT102、202 第一平坦化絕緣膜103 彩色濾光層104、203 陽極層105、204 第二平坦化絕緣膜106、205 有機EL層107、206 陰極層200、207 玻璃基板具體實施方式
以下將參照附圖以詳細說明本發明的實施例。圖1表示本發明的有機EL顯示裝置的一畫素的概略剖視圖。在實際的有機EL顯示裝置中，其畫素配置成多個矩陣狀。
組件符號100是玻璃基板等的透明絕緣基板，組件符號101是形成于絕緣基板100上的用以驅動有機EL組件的TFT，其根據顯示資料將驅動電流供給至有機EL組件。
組件符號102是第一平坦化絕緣膜。組件符號103是埋設于第一平坦化絕緣膜中的彩色濾光層。彩色濾光層分別于RGB各畫素中，含有對應RGB的顏料。
組件符號104是由連接于TFT101且延伸于第一平坦化絕緣膜102上的ITO所形成的陽極層，組件符號105是以覆蓋陽極層104的端部的方式形成的第二平坦化絕緣膜。
第二平坦化絕緣膜105在陽極層104的端部以外之處開設開口，而白色有機EL層106是形成于露出該開口部的陽極層104上，而且，于有機EL層106上形成有陰極層107。再以玻璃基板207覆蓋陰極層107。
白色有機EL層106不僅形成于露出開口部的陽極層104上，亦形成于第二平坦化絕緣膜105上，因此無須使用以蒸鍍法在對應R、G、B各色的位置上將白色有機EL層形成為島狀時所用的蒸鍍屏蔽。
當從TFT101供給驅動電流時，有機EL層106發出白色光，該光通過下層的彩色濾光層103而分出各色光后，即從絕緣基板100射向外部。
本發明的特征在于采用調整彩色濾光層103的膜厚或者顏料濃度的方式，使R、G、B各色的彩色濾光層103的光穿透率相對于預定的波長領域以外者在50％以下。借由縮小該預定的波長領域，而得以改善R、G、B各別的光譜特性，即使采用白色有機EL層106，亦可確保面板的色純度。
接著，將舉出具體實例說明彩色濾光層的光譜特性的調整。圖2表示變更彩色濾光層103的膜厚時光譜特性的仿真結果圖。
圖2中，實線表示彩色濾光層103的膜厚設為100％時，R、G、B各色的光譜特性；點線表示彩色濾光層103的膜厚設為110％時，R、G、B各色的光譜特性；破折線表示彩色濾光層103的膜厚設為150％時，R、G、B的光譜特性。
由該圖可知，借由使R、G、B的彩色濾光層103的膜厚增厚，穿透率在50％以上的波長領域會變窄。
亦即，將膜厚設為100％時R的彩色濾光層的光穿透率相對于583nm以下的波長領域為50％以下；上述G的彩色濾光層的光穿透率相對于481nm以下、590nm以上的波長領域為50％以下；上述B的彩色濾光層的光穿透率相對于405nm以下、518nm以上的波長領域為50％以下。
將膜厚設為110％時R的彩色濾光層的光穿透率相對于584nm以下的波長領域為50％以下；上述G的彩色濾光層的光穿透率相對于482nm以下、588nm以上的波長領域為50％以下；上述B的彩色濾光層的光穿透率相對于407nm以下、516nm以上的波長領域為50％以下。
將膜厚設為150％時R的彩色濾光層的光穿透率相對于586nm以下的波長領域為50％以下；上述G的彩色濾光層的光穿透率相對于486nm以下、580nm以上的波長領域為50％以下；上述B的彩色濾光層的光穿透率相對于416nm以下、508nm以上的波長領域為50％以下。
根據本發明人的檢測，在膜厚設為110％時，可改善R、G、B各別的光譜特性，即使采用白色有機EL層106，亦可確保面板的色純度。在膜厚設為150％時，亦可獲得相同的效果。
此外，上述實施形態中，雖是增厚R、G、B各色的彩色濾光層103的膜厚，但是，增加顏料濃度亦可達到同等的光譜性能。
(發明的功效)根據本發明，在使用彩色濾光層的有機EL顯示裝置中，采用調整該彩色濾光層的膜厚或者顏料濃度的方式，使R、G、B各色的彩色濾光層103的光穿透率相對于預定的波長領域以外者在50％以下，而得以改善RGB各別的光譜特性，即使采用白色有機EL層，亦可良好地確保面板的色純度。
權利要求
1.一種場致發光顯示裝置，具備多個R、G、B各畫素，并具有對應于R、G、B各畫素而設置的R、G、B各色的彩色濾光層；具有形成于該R、G、B各色的彩色濾光層上方的白色EL發光層的EL組件；以及分別設置于R、G、B各畫素中并驅動上述EL組件的TFT；其特征在于，調整該彩色濾光層的膜厚或顏料濃度，以使上述R、G、B各色的彩色濾光層的光穿透率相對于預定的波長領域以外者為50％以下。
2.根據權利要求1所述的場致發光顯示裝置，其特征在于，上述R的彩色濾光層的光穿透率相對于584nm以下的波長領域為50％以下；上述G的彩色濾光層的光穿透率相對于482nm以下，588nm以上的波長領域為50％以下；上述B的彩色濾光層的光穿透率相對于407nm以下，516nm以上的波長領域為50％以下。
全文摘要
本發明提供一種使用白色有機場致發光(EL)層、彩色濾光層的場致發光(EL)顯示裝置，可良好確保面板的色純度。本發明的場致發光顯示裝置是采用調整彩色濾光層103的膜厚或顏料濃度的方式，以使R(Red紅)、G(Green綠)、B(Blue藍)各色的彩色濾光層103的光穿透率相對于預定波長領域以外，為50％以下。借由更為縮小該預定波長領域的方式，可改善RGB各別的光譜特性，即使采用白色有機EL層106，亦可確保面板的色純度。
文檔編號H01L27/32GK1523936SQ20041000080
公開日2004年8月25日 申請日期2004年1月15日 優先權日2003年1月21日
發明者西川龍司, 前田和之, 之 申請人:三洋電機株式會社