專利名稱：基板支撐結構的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種基板支撐結構，尤指一種適用于干蝕刻機臺的基板支撐結構。
背景技術：
在目前半導體相關制程的干蝕刻機臺中，用以支撐待蝕刻基板的支撐結構，主要是以一支撐柱(lift pin)的頂面來支撐基板的四個角落，如圖2所示。然而在液晶顯示器產業中，玻璃基板的尺寸隨著科技的演進而逐漸增大同時厚度趨薄，若依然使用四個點狀支撐柱支撐玻璃基板的四個角落時，玻璃基板的彎折情況(bending)將會愈趨嚴重，如圖1所示，而玻璃基板的彎折情況在機器手臂(robot)取放基板時將會撞擊基板，降低生產率。
目前一般0.5mm厚度玻璃基板彎折情況對于機器手臂取放基板所造成影響的解決方式，是以加高支撐柱的高度為主，然而此種方法需要大幅度地修改機臺支撐柱的汽缸沖程等機構，并且未能解決基板彎折的根本問題。
此外，由于圓柱狀的支撐柱與玻璃基板的接觸面積不大，因此玻璃基板與支撐柱之間常因摩擦力不足而產生滑動錯位的情形，致使蝕刻制程以及機器手臂取片時的錯誤而影響了產率。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種干蝕刻機臺的玻璃基板支撐結構，以減少玻璃基板因為重力而產生的彎折情況。
本發明的另一目的在于提供一種干蝕刻機臺的玻璃基板支撐結構，以減少玻璃基板與支撐架之間的滑片情形。
為實現上述目的，本發明提供的干蝕刻機臺的基板支撐結構，配合一基板，主要包括一基座；以及復數個支撐架，該支撐架包括一間隔臂以及至少一支撐臂，該支撐臂包括有一接觸平面，該間隔臂的下端垂直連接于該基座且上端連接于該支撐臂，而該支撐臂垂直于該間隔臂；其中該支撐臂利用該接觸平面接觸并支撐該基板。
所述的基板支撐結構，其中該些支撐架位于該基座上相對應于該基板角落的位置。
所述的基板支撐結構，其中至少包括四支撐架。
所述的基板支撐結構，其中該基座為一下電極。
所述的基板支撐結構，其中該基板上對應于該些支撐架支撐臂的位置形成有一凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該下電極的表面形成一平整平面。
所述的基板支撐結構，其中每一支撐架至少具有二支撐臂。
所述的基板支撐結構，其中該支撐架的二支撐臂彼此垂直，并同時垂直于該間隔臂。
所述的基板支撐結構，其中該基板上對應于該些支撐架支撐臂的位置形成有一L形凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該基座的表面形成一平整平面。
所述的基板支撐結構，其中該支撐架由非導電物質構成。
所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該基板為一玻璃基板。
詳細地說，本發明主要將該支撐柱的圓柱狀結構，增加至少一支撐臂結構，使得其所支撐的玻璃基板在特定的軸向邊緣能夠得到較佳的支撐，減少基板因重力所導致的彎折情況。更佳亦可在原支撐枉上增加二方向的支撐臂結構，使得每一支撐架所支撐的玻璃基板能夠得到二不同方向的支撐。
此外，由于所增加的支撐臂結構與玻璃基板的接觸面積遠大于原本的圓柱截面接觸面積，因此所增加的摩擦力能夠有效地將玻璃基板維持于原位而不致滑動。
圖1為公知的玻璃基板支撐結構示意圖。
圖2為公知的玻璃基板支撐柱立體圖。
圖3為本發明第一實施例的支撐架立體圖。
圖4為本發明第二實施例的支撐架立體圖。
圖5為本發明第一實施例的示意圖。
圖6為本發明第一實施例的使用狀態示意圖。
圖7為本發明第一實施例的剖面圖。
具體實施例方式
本發明的基板支撐結構中，該支撐架位于基座上的位置并無限制，以不損壞該玻璃基板的電路分布為原則，較佳是位于該基座的四個角落；該基座較佳為一干蝕刻機臺中的下電極，且該基板上對應于該些支撐架的支撐臂的位置較佳形成有一凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該下電極的表面形成一平整平面；本發明的基板支撐結構中，該些支撐架所括的支撐臂數目并無限制，較佳可包括有二支撐臂，且該二支撐臂彼此垂直成一L形結構，并同時垂直于該間隔臂，同時該基板上對應于該些支撐架的支撐臂的位置形成有一L形凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該下電極的表面形成一平整平面；本發明的基板支撐結構中，該支撐架的構成材質并無限制，較佳由如陶瓷、塑性材料或導電性材料包覆一層電惰性材料等非導電性物質所構成。
為能更了解本發明的技術內容，特舉二較佳具體實施例說明如下。
請先參見圖3，為本發明第一實施例的支撐結構的立體圖。與如圖2的公知技術相較之下，可發現本實施例中的支撐架1包括有一間隔臂11以及一支撐臂13，其中支撐臂13在本實施例中呈現一三角柱狀結構，垂直連接于間隔臂11，并且包括有一接觸平面15。此支撐架1便是以接觸平面15接觸并支撐玻璃基板。
接著請參見圖5，為本發明第一實施例的使用狀態示意圖。在本圖中可見，四個支撐架1分別座落于一基座2的四個角落。此四個支撐架所安排的距離以及位置是根據所欲支撐的玻璃基板3而決定，以在提供玻璃基板3最佳支撐的同時，對于玻璃基板上電路分布的影響亦降到最低。
接著請參見圖6，為本發明第一實施例的實施狀態分解圖。在該基座2上相對應于該支撐臂的位置，設置有一凹槽21，使得整個支撐架1降下后，該支撐臂13的接觸平面15與基座2的平面能夠密合地成為一平整的平面，不致影響下電極(基座)的平整度，使玻璃基板下降后能緊密貼合于下電極上方，如圖7所示。
最后請參見圖4，為本發明第二實施例的支撐架立體圖。在本實施例中，此支撐架5包括一間隔臂51以及二支撐臂53，55，其中此二支撐臂53，55彼此垂直成L形，并且各自包括一接觸平面531，551，由二垂直方向的接觸平面以提供玻璃基板足夠的支撐力，維持基板的形狀。
而從第一實施例所述亦可推知，在第二實施例中使用了L形支撐臂，因此在所搭配的基座上亦設置有相對應于支撐臂的L形凹槽，以使得支撐架在降下后其支撐臂的支撐平面可與基座的表面密合為一平整的平面。
根據上述實施例所做的玻璃基板彎折觀測得知，以本發明的支撐結構以第一實例所述可以改善6-7％的玻璃基板彎折情況，證明本發明確能達到減少玻璃基板因重力所產生的彎折。并且，因本發明僅需改變原支撐柱的結構，不需要更動基座的結構，于工業實施上確實可行且具經濟效益。
上述實施例僅是為了方便說明而舉例而已，本發明所主張的權利范圍自應以申請專利范圍所述為準，而非僅限于上述實施例。
權利要求
1.一種干蝕刻機臺的基板支撐結構，配合一基板，主要包括一基座；以及復數個支撐架，該支撐架包括一間隔臂以及至少一支撐臂，該支撐臂包括有一接觸平面，該間隔臂的下端垂直連接于該基座且上端連接于該支撐臂，而該支撐臂垂直于該間隔臂；其中該支撐臂利用該接觸平面接觸并支撐該基板。
2.如權利要求1所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該些支撐架位于該基座上相對應于該基板角落的位置。
3.如權利要求2所述的基板支撐結構，其特征在于，其中至少包括四支撐架。
4.如權利要求1所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該基座為一下電極。
5.如權利要求4所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該基板上對應于該些支撐架支撐臂的位置形成有一凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該下電極的表面形成一平整平面。
6.如權利要求1所述的基板支撐結構，其特征在于，其中每一支撐架至少具有二支撐臂。
7.如權利要求6所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該支撐架的二支撐臂彼此垂直，并同時垂直于該間隔臂。
8.如權利要求7所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該基板上對應于該些支撐架支撐臂的位置形成有一L形凹槽，使該支撐架降下后該接觸平面與該基座的表面形成一平整平面。
9.如權利要求1所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該支撐架由非導電物質構成。
10.如權利要求1所述的基板支撐結構，其特征在于，其中該基板為一玻璃基板。
全文摘要
本發明有關于一種干蝕刻機臺的基板支撐結構，配合一基板，主要包括一基座；以及復數個支撐架，該支撐架包括一間隔臂以及至少一支撐臂，該支撐臂包括有一接觸平面，該間隔臂的下端垂直連接于該基座且上端連接于該支撐臂，而該支撐臂垂直于該間隔臂；其中該支撐臂利用該接觸平面接觸并支撐該基板。
文檔編號H01L21/3065GK1532895SQ03107279
公開日2004年9月29日 申請日期2003年3月21日 優先權日2003年3月21日
發明者洪健雄, 蔣明堂, 高永昌, 林政德 申請人:友達光電股份有限公司