專利名稱：用于光記錄介質的記錄和/或再現設備及方法
技術領域：
本發明涉及記錄和/或再現設備以及記錄和/或再現方法，特別涉及這樣一種記錄和/或再現設備和記錄和/或再現方法，其中在具有兩個或多個記錄層的光盤的情況下，能快速而可靠地執行聚焦控制。
以高密盤為代表的一種光盤只具有一個信息記錄層。近年來要求增加記錄容量。這是能夠達到的，例如通過減小軌道間距或者減小凹坑的尺寸。還推薦出一種不同類型的光盤，在其中形成多個記錄層，以便進一步增加其容量。
圖21作為例子表示剛剛述及的一種光盤的結構，參照圖21，在所示的光盤中，記錄層A在光盤基板101上形成，而另外一記錄層B在該記錄層A上形成。而在該記錄層B上形成保護層102。
光盤基板101由例如透明材料聚碳酸酯做成。記錄層A由半透膜做成，而記錄層B是由例如鋁或類似金屬的金反射薄膜做成。
為了從記錄層A再現信息，如標符L1所示，一激光束聚焦在記錄層A上，然后檢測從該記錄層A的反射光。
另一方面，為了再現記錄在記錄層B上的信息，則如標符L2所示，一激光束通過由半透膜做成的記錄層A聚焦在記錄層B上。然后接收并檢測從記錄層B反射并通過記錄層A的反射光。按此方式，由于記錄層A由半透膜做成，記錄層B的信息能通過記錄層A讀出。
當一激光束聚焦在記錄層A(或記錄層B)上時，為使作為再現客體的記錄層改變到記錄層B(或記錄層A)，應將跳變脈沖加到聚焦伺服環路，以便使光學頭跳向新的記錄層，然后應施加聚焦伺服，以使在新的記錄上能將聚焦誤差信號減至最小。
但是，由于光學頭或光盤在生產中或其他原因形成的分散性，聚焦誤差信號呈現最小值的位置未必是準確的聚焦位置。因此，通常是將一個偏置信號加到該聚焦誤差信號上，從而得到最佳聚焦條件。
然而，在相關的技術設備中，該偏置值是固定的，不管是從哪一個記錄層再現信息。因此，該相關的技術設備有一個待解決的問題，那就是從多個記錄層穩定地再現信息是困難的。
本發明的一個目的在于提供一種記錄和/或再現設備以及一種記錄和/或再現方法，通過這種設備和/或方法，信息能精確地記錄到一個光盤的任意多個記錄層上，或從它準確地再現。
為達到上述目的，根據本發明的一個方面，提供了一種用于光記錄介質的記錄和/或再現設備，它包括一光學裝置，用于在記錄介質上記錄信息或從該介質再現信息，一聚焦控制裝置，用于響應一聚焦誤差信號來控制光學裝置的聚焦狀態，一發生裝置，用于根據由光學裝置再現的一信號產生光學裝置的聚焦偏置信號，以及一附加裝置，用于將該聚焦偏置信號附加到該聚焦誤差信號。最好，該發生裝置包括一檢索裝置，用于根據由該光學裝置再現的信號來檢索一最佳聚焦偏置位置。
在該記錄和/或再現設備中，光學裝置在該記錄介質上記錄信息和/或從該記錄介質再現信息，聚焦控制裝置響應一聚焦誤差信號控制光學裝置的聚焦狀態。之后，發生裝置根據由光學裝置再現的一信號產生該光學裝置的一聚焦偏置信號，而附加裝置將該聚焦偏置信號附加到聚焦誤差信號上。為了使該發生裝置產生一聚焦偏置信號，其檢索裝置根據由該光學裝置再現的信號檢索一最佳聚焦偏置位置。
對于這種記錄和/或再現設備，由于檢索了用于在記錄介質上記錄信息或從它再現信息的光的最佳聚焦偏置位置，以及響應該檢索結果，光學裝置的一聚焦偏置信號被附加到聚焦誤差信號，因而信息無論被記錄或再現到/從記錄介質的多個記錄層的哪一層，都能正常實現最佳聚焦狀態，而不管記錄介質的分散或隨時間的變化。
按本發明的另一方面，提供了用于一種記錄介質的記錄和/或再現方法，它包括以下步驟用光學裝置將信息記錄到記錄介質上和/或從記錄介質再現信息，產生一聚焦誤差信號，根據由光學裝置再現的信號產生該光學裝置的一聚焦偏置信號，將該聚焦偏置信號附加到聚焦誤差信號，以及根據附加了聚焦偏置信號的聚焦誤差信號控制光學裝置聚焦狀態。最好，產生聚焦偏置信號的步驟包括根據由光學裝置再現的信號檢索最佳聚焦偏置位置的步驟。
在該記錄和/或再現方法中，通過光學裝置，將信息記錄到記錄介質和/或從該介質再現信息，并產生一聚焦誤差信號。然后，根據由該光學裝置再現的信號產生光學裝置的一聚焦偏置信號，且該聚焦偏置信號被附加到該聚焦誤差信號上。之后，根據附加了聚焦偏置信號的聚焦誤差信號，控制光學裝置的聚焦狀態。為了控制光學裝置的聚焦狀態，根據由光學裝置再現的信號檢索最佳聚焦偏置位置。
對于該記錄和/或再現方法，由于檢搜索了用于在記錄介質上記錄信息或從它再現信息的最佳聚焦偏置位置，以及響應檢索結果，光學裝置的一聚焦偏置信號被附加到聚焦誤差信號上，因而信息在記錄介質的多個記錄層的無論哪一層上記錄或再現，都能正常實現最佳聚焦狀態，而不管記錄介質的分散或隨時間的變化。
根據以下說明以及所附的權利要求，結合附圖，本發明以上的和其他的目的，特征和優點將更為明顯，在附圖中，相同的部分或元件用相同的符號表示。
圖1是表示一種光盤再現設備的方塊圖，其中包括按本發明的一種記錄和/或再現設備；圖2是說明聚焦偏置和跟蹤誤差信號之間的關系的曲線；圖3是說明圖1的光盤再現設備的操作的流程圖；圖4是根據圖1的光盤再現設備的初始操作而表示的一跟蹤誤差信號波形的波形圖；圖5是用爬山方法說明檢測聚焦偏置的一最佳位置的原理的曲線；圖6是按圖5所示原理說明檢測一最佳位置的處理的流程圖；圖7是根據上升突然變化點和下降突然變化點說明檢測一最佳位置的原理；圖8是按圖7所示原理說明檢測最佳位置處理的流程圖；圖9是說明用于光盤再現的可替換的操作的流程圖；圖10是另一光盤再現設備的方塊圖，它執行圖9的處理，其中包括本發明的另一種記錄和/或再現設備；
圖11是說明圖1光盤再現設備的不同操作的流程圖；圖12是說明再一個光盤再現設備，其中包括本發明的再一個記錄和/或再現設備；圖13是說明又一個光盤再現設備，其中包括本發明的又一個記錄和/或再現設備；圖14是說明又再一個光盤再現設備，其中包括本發明的又再一個記錄和/或再現設備；圖15是說明聚焦偏置和跳動之間的關系的曲線；圖16是說明用爬山法檢測一最佳點的原理的曲線；圖17是說明按圖16原理檢測一最佳位置的處理流程圖；圖18是說明根據一下降突然變化點和一上升突然變化點檢測一最佳位置的原理的曲線；圖19是說明按圖18原理檢測一最佳點的處理的流程圖；圖20是表示又另一個光盤再現設備的方塊圖，其中包括本發明的又另一個記錄和/或再現設備；以及圖21是表示兩層光盤示意結構的截面圖。
首先參照圖1，這里表示一種用于光盤的再現設備，其中包括本發明的記錄和/或再現設備。參照圖1，光盤具有多個(2個或更多個)記錄(正在記錄的/可記錄的/已記錄的)層，這里光盤1具有兩層，它具有以上結合圖21描述的結構。
該光盤1通過主軸電機2以一預定的速度旋轉。光學頭3將一激光束照射在該光盤1上并從該光盤1接收其反射光。
一PLL(鎖相環)電路5對由記錄在光盤1上的信號所再現的并由光學頭3輸出的RF(無線電頻率)信號進行二進制數字化，以便產生一二進制RF信號，并提取該RF信號中的時鐘信號，以便產生一同步用時鐘信號。一CLV(固定線性速度)電路6接收由PLL電路5輸出的二進制RF信號和同步用時鐘信號，并輸出一個代表它們之間相位誤差的誤差信號。開關8由一控制電路17控制來選擇CLV電路6的一個輸出和一初始驅動電路7的輸出，并將所選的輸出輸出給主軸電機2。
一數據解碼器4接收由PLL電路5輸出的二進制RF信號和同步用時鐘信號，并參照該同步用時鐘信號解碼該二進制RF信號。
光學頭3根據例如象散方法的原理產生一聚焦誤差信號，并根據例如推挽方法的原理進而產生一跟蹤誤差信號。一聚焦伺服電路9接收由光學頭3輸出的聚焦誤差信號，并響應該聚焦誤差信號驅動聚焦線圈12，以便按垂直于(朝向或離開)該光盤1的方向執行光學頭3的聚焦控制。一跟蹤伺服電路10接收由光學頭3輸出的跟蹤誤差信號，并響應該跟蹤誤差信號驅動一跟蹤線圈13，以便按垂直于光盤1的光道方向執行光學頭3的跟蹤控制。
由跟蹤伺服電路10輸出的信號加到滑動伺服電路(Thread ServoCircuit)15。該滑動伺服電路15響應接收到的這個信號驅動滑動電機(Thread Motor)16，以使光學頭3在光盤1的徑向移動。控制電路17控制聚焦伺服電路9、跟蹤伺服電路10以及滑動伺服電路15，還有開關8。
再現設備還包括一跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31。該跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31包括用來檢測由光學頭3輸出的跟蹤誤差信號的電平并將該檢測結果送到一控制電路42的電平檢測電路41。控制電路42根據該電平檢測電路41的輸出來檢測光學頭3的最佳聚焦位置。
當光學頭3的相對光盤1的記錄層的聚焦偏置位置變化時，跟蹤誤差信號按圖2所示方式變化。具體說，當光學頭3的位置被調整到最佳聚焦偏置位置(最佳點)時，跟蹤誤差信號呈現最大幅度，但是如果光學頭3的位置偏離最佳點，則跟蹤誤差信號的幅度下降。控制電路42按此原理檢測最佳點。
為檢測一最佳點，控制電路42控制偏置產生電路43，以便產生具有一預定值的偏置信號。該偏置信號由加法器32附加到由光學頭3輸出的聚焦誤差信號上，加法器32的輸出輸出到聚焦伺服電路9。
一最佳聚焦偏置位置儲存電路33連接到跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的控制電路42。由檢索跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31而得到的最佳聚焦偏置位置的數據被存儲在最佳聚焦偏置位置存儲電路33中。
圖3說明圖1再現設備的操作。參照圖3，首先在步驟S1，執行光盤的啟動處理。具體說，當光盤1按位置在再現設備中裝入到位時，控制電路17控制滑動伺服電路15去驅動滑動電機16，以便將光頭3移動到光盤1的預定參考位置，例如移動到最內周光道位置。此外，控制電路17將開關8變到初始驅動電路7一側，使由初始驅動電路7輸出的初始驅動信號通過開關8加到主軸電機2，因此該主軸電機2響應該初始驅動信號而被驅動旋轉。
此外，控制電路17控制聚焦伺服電路9執行聚焦伺服操作。光頭3將一激光束發射到該光盤1的默認記錄層(例如，圖21中的記錄層A)并接收由該光盤1反射的激光束以產生聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號。聚焦誤差信號通過加法器32提供給聚焦伺服電路9。聚焦伺服電路9響應聚焦誤差信號驅動聚焦線圈12，以便在聚焦方向上控制光學頭3的位置。
當光學頭3再現記錄在光盤1的記錄層A上的信號時，PLL電路5從該光學頭3接收一RF信號。PLL電路5對接收的RF信號進行二進制數字化，以便產生一二進制RF信號以及產生與包括在該RF信號中的同步信號同步的一同步用時鐘信號。CLV電路6將該同步時鐘信號與該二進制RF信號進行相位比較并輸出代表它們之間誤差的一個誤差信號。當主軸電機2起動了一預定時間后，或當主軸電機2的轉速達到一預定速度時，控制電路17將開關8變到CLV電路6這一側。因此，由CLV電路6輸出的誤差信號提供給主軸電機2，并用該誤差信號執行CLV伺服。結果，光盤1被驅動按一固定線性速度旋轉。
之后，控制順序推進到步驟S2，在其中執行最佳聚焦檢索處理。以下描述該最佳聚焦檢索處理，跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的控制電路42控制偏置產生電路43，由此一預定偏置信號通過加法器32附加給聚焦誤差信號。當聚焦狀態不合適時，從光學頭3輸出的跟蹤誤差的幅度是小的，而當聚焦狀態處于最佳狀態時，跟蹤誤差的幅度呈現一最大值。因此，跟蹤誤差信號的幅度由電平檢測電路41檢測，并由控制電路42識別是否已經取得一最大幅度的跟蹤誤差信號。如果識別已得到最大幅度的跟蹤誤差信號，則檢測到由偏置產生電路43產生的一偏置值。
之后，控制順序推進到步驟S3，其中，在步驟S2中得到的最佳聚焦偏置值被存儲到最佳聚焦偏置位置存儲電路33。
當檢測3在一記錄層(例如，在圖21中的記錄層A)的一最佳聚焦偏置位置之后，控制順序推進到步驟S4，其中識別是否對光盤1的所有記錄層都進行了類似的檢索。如果尚未對所有記錄層執行檢索，控制順序推進到步驟S5，其中執行改變記錄層的處理。具體說，控制電路17控制聚焦伺服電路9，使得跳躍脈沖附加到聚焦誤差信號(或產生跳躍脈沖替代聚焦誤差信號)，結果，聚焦線圈12響應該跳躍脈沖按聚焦方向移動光學頭3，使得已聚焦在記錄層A上的激光束現在被聚焦在記錄層B上。在停止提供跳躍脈沖之后，平常的聚焦伺服環再次進入閉合狀態以施加伺服，使得聚焦誤差可以減到最小，由此將由光學頭3產生的激光束現在聚焦在記錄層B上。
此后，控制順序返回到步驟S2，對記錄層B執行最佳聚焦檢索處理。之后，在步驟S3，由最佳聚焦檢索處理得到的最佳聚焦偏置值被存儲到最佳聚焦偏置位置存儲電路33中。
對于在光盤1中形成N個記錄層的情況，N個最佳聚焦偏置值按上述方式記錄在最佳聚焦偏置位置存儲電路33中。
在所有的光盤1的記錄層的最佳聚焦偏置值(位置)被存儲之后，控制順序由步驟S4推進到步驟S6，其中，聚焦位置改變到預先設定的默認的記錄層。例如，控制電路17控制聚焦伺服電路9產生所要求的跳躍脈沖數量，以便將激光束聚焦在最接近光盤基板101的記錄層A上。
在本例中，在步驟S7中，跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的控制電路42讀出存儲在最佳聚焦偏置位置存儲電路33中的記錄層A的聚焦偏置值，并將它提供到偏置產生電路43。該偏置產生電路43對應于該偏置值產生一偏置信號。該偏置信號由加法器32附加到該聚焦誤差信號并提供到聚焦伺服電路9。聚焦線圈12由聚焦伺服電路9用附加了最佳偏置值的聚焦誤差信號驅動。因此，最佳聚焦狀態在記錄層A實現。
之后，控制順序推進到步驟S8，在其中，等待改變再現記錄層的指令。當指令改變記錄層時，控制順序推進到步驟S9，其中，聚焦位置改變到指定的記錄層。具體說，對于這種情況，控制電路17控制聚焦伺服電路9產生一預定數量的跳躍脈沖，以便例如將聚焦位置從記錄層A改變到記錄層B那樣改變聚焦位置。
之后，在步驟S10，執行指定記錄層的一最佳偏置值的讀出處理，具體說，跟蹤誤差信號最大值幅度檢索電路31的控制電路42讀出用于記錄層B的存儲在最佳聚焦偏置位置存儲電路33中的偏置值，并將它輸出到偏置產生電路43。偏置產生電路43相應于該偏置值產生一偏置信號。該偏置信號由加法器32附加到聚焦誤差信號。聚焦伺服電路9響應加法器32的輸出，驅動該聚焦線圈12，使得在記錄層B中實現最佳聚焦狀態(實現一聚焦狀態，其中，跟蹤誤差信號的幅度呈現出一最大值)。
之后，控制順序返回到步驟S8，使得在步驟S8等中的連續處理重復執行。
下文將描述最佳聚焦檢索。如上所述，根據這樣的檢索，還未啟動跟蹤伺服。因此，光學頭3周期性地跨越光盤1的多個光道。具體說，由于光盤1和主軸電機2的旋轉中心彼此錯位，這是由于兩者之間的偏心所致，光學頭3的信息再現位置(激光束的一個光點)周期性地跨越多個光道。結果，光學頭3輸出例如圖4所示的跟蹤誤差信號，如在圖4中所示，該跟蹤誤差信號呈現出周期性的變化。
跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的電平檢測電路41檢測該跟蹤誤差信號的上保持值和下保持值，并檢測它們之間的差作為跟蹤誤差信號的幅度。將該幅度檢測信號提供給控制電路42。如圖2所示，該跟蹤誤差信號的幅度隨光學頭3的聚焦偏置值而變化。控制電路42檢測聚焦偏置的一最佳點，同時，采用所謂的爬山方法得到跟蹤誤差信號的一最大幅度。
具體說，參照圖5，將由偏置產生電路43輸出的偏置信號逐次遞增一值α，如S0、S1、S2，……。之后，跟蹤誤差信號的幅度值Ri-1、Ri和Ri＋1在每三個連續的取樣點Si-1、Si和Si+1彼此相比較。
當幅值Ri在它們之中呈現最大值(Ri-1＜Ri＞Ri+1)時，該取樣點Si被確定為一最佳點。為此，控制電路42控制偏置產生電路43以輸出一首先呈現一預定初始值、之后連續地改變α的偏置值。該偏置信號由加法器32附加到聚焦誤差信號并輸出到聚焦伺服電路9。
圖6說明當調整聚焦偏置值時借助爬山法的示范性處理。參照圖6，首先在步驟S21中，將一初始值S0置入Sn。之后，聚焦偏置位置設置為Sn(在本例中，Sn＝S0)，并且測量此時跟蹤誤差信號的幅值。之后，測量結果設置為Rn(在本例中，Rn＝R0)。
具體說，控制電路42控制偏置產生電路43以產生一偏置信號S0。聚焦伺服電路9響應由加法器32附加了偏置信號S0的聚焦誤差信號來控制聚焦線圈12，以便調整光學頭3的聚焦偏置。
電平檢測電路41檢測由光學頭3輸出的跟蹤誤差信號的幅度，并將它輸出到控制電路42。控制電路42設置當時檢測的跟蹤誤差信號的幅值為Rn(在本例中，Rn＝R0)。
之后，控制順序推進到步驟S22，其中，將由S0和α相加而得到的值置入Sn+。換言之，計算下列方程式Sn+＝S0+α之后，控制電路42控制偏置產生電路43產生這樣的偏置信號Sn+(＝S1)。具體說，控制電路42控制該偏置產生電路43產生比在步驟S21中產生的偏移信號Sn大α的一偏置值。由于聚焦伺服電路9響應附加了偏置值的聚焦誤差信號控制聚焦線圈12，因此，光學頭3進一步改變其聚焦偏置一相應的偏置值α。
之后，電平檢測電路41檢測由光學頭3輸出的跟蹤誤差信號的幅度，然后，控制電路42將由電平檢測電路41檢測的跟蹤誤差信號的幅度設置為Rn+(在本例中，Rn+＝R0+＝R1)。
之后，控制順序推進到步驟S23，其中，將比S0低α的一值置入Sn-。換言之，計算下列方程式Sn-＝S0-α具體說，控制電路42控制偏置產生電路43產生比在步驟S21中產生的偏置信號Sn(在本例中，Sn＝S0)低α的一值。由于附加了偏信號Sn-的聚焦誤差信號通過聚焦伺服電路9加到聚焦線圈12上，光學頭3的聚焦偏置離開過去產生的偏置值S0，變化了相應于偏置值-α的一個值。
之后，電平檢測電路41檢測由光學頭3輸出的跟蹤誤差信號的幅度，并將其輸出到控制電路42。之后控制電路42將跟蹤誤差信號的幅度置入Rn-(在本例中，Rn-＝R0-)。
通過上述步驟S21至S23的處理，當附加到聚焦誤差信號的偏置值設置為初始值S0時得到跟蹤誤差信號的幅值Rn(＝R0)，當偏置信號增加α時得到跟蹤誤差信號的幅值Rn+(＝R0+＝R1)，以及當偏置信號減小α時得到幅值Rn-(＝R0-)如圖5所示。
之后，控制順序推進到步驟S24，在其中識別Rn是否等于Rn+，或Rn是否大于Rn+和等于Rn-，或Rn是否大于Rn-。換言之，識別Rn是否大于Rn-和Rn+(即，Rn是否最大值)。
通常，如圖5所示，偏置信號為S0時的跟蹤誤差信號的幅度Rn(＝R0)高于偏置信號降低α時的幅值Rn-(＝R0-)，但是它低于偏置信號增高α時的跟蹤誤差信號的幅度Rn+(＝R0+＝R1)。因此，在本例中，控制順序推進到步驟S25，在其中識別Rn+是否大于Rn-。在本例中，由于Rn+(＝R0+＝R1)是大于Rn-(＝R0-)(因為這些值都在圖5的曲線段上，其中該曲線呈現向右上升傾斜)，控制順序推進到步驟S26。
在步驟S26中，Sn(＝S0)直到此時才置入Sn-。之后，Sn+(＝S1)直到此時才置入新的Sn，Rn(＝R0)直到此時才置入Rn-，以及之后Rn+(＝R1)直到此時才置入Rn。之后，將α加到新Sn(＝S0+α＝S1)而得到的一值(＝S0+2α＝S2)被置入Sn+。換言之，計算下列方程式Sn+＝Sn+α控制電路42控制偏置產生電路43，以便產生Sn+(＝S2)作為一偏置信號。換言之，控制電路42控制偏置產生電路43產生比在步驟S22中產生的Sn+(＝S0＋α)大α的偏置Sn+(＝S0+2α＝S2)。之后，檢測的跟蹤誤差信號的幅度被置入Rn+(＝R1+＝R2)。
換言之，作為結果，在已經將圖5所示的狀態向右位移α的三個取樣位置S0，S1和S2上的跟蹤誤差信號的幅值被置入Rn-(＝R0)，Rn(＝R1)和Rn+(＝R2)。
之后，控制順序返回到步驟S24，在其中識別Rn是否大于Rn-和Rn+。當Rn不是最大值時，控制順序推向步驟S25，在其中再次識別Rn+是否大于Rn-。當Rn+大于Rn-時，控制順序推向步驟S26，在其中重復同樣的處理。
之后，如果用于取樣的部分按圖5中右向位移直到Sn到達一最佳位置，則所得到的幅值Rn大于Rn-，并且還大于Rn+。換言之，Rn呈現最大值。這樣，在這種情況下，控制順序推進到步驟S28，在其中，Sn值被設置為最佳值，此時跟蹤誤差信號的幅度Rn呈現最大值。換言之，控制電路42此后控制偏置產生電路43以便連續地產生偏置信號Sn作為最佳值。
另一方面，當取樣在圖5中的曲線呈現向右下降傾斜的部分中進行時，Rn+的值呈現一低于Rn-的值。這樣，在此情況下，控制順序推向頻驟S25-S27，其中，Sn直到這時才被置入Sn+，Sn-直到此時才被置入Sn，Rn直到此時才被置入Rn+，以及Rn-直到此時才被置入Rn。之后，將比新的Sn低α的一值置入Sn-。換言之，計算下列等式Sn-＝Sn-α具體說，參照圖5，在左側的取樣點用Sn-進行取樣。之后，當偏置信號Sn-由偏置產生電路43產生時，跟蹤誤差信號的幅值被進行檢測。這樣檢測到的幅值被置入Rn-。
之后，控制順序返回步驟S24，在其中識別Rn是否大于Rn-和Rn+。由于在圖5中的向右下降傾斜的特性曲線段中Rn仍然低于Rn-，所以控制順序推進到步驟S25，并且之后由步驟S25-S27重復類似的處理。當該取樣位置連續地按圖5向左(向一最佳位置)推進直到Sn到達一最佳位置時，Rn呈現大于Rn+和大于Rn-的值。在此情況下，控制順序從步驟S24推進到步驟S28，其中偏置信號的值被確定為一最佳值。之后，控制電路42控制偏置產生電路43以便連續地產生該最佳值。
在以上的描述中，最佳位置(最大值)是由所謂爬山方法進行檢測的，但是該最佳位置也可以按例如圖7所說明的另外的方式來確定。具體說，在圖7所示的方法中，首先對于S0到Sn的整個時間周期，將偏置信號連續地變化α以便對跟蹤誤差信號取樣。之后，在本例中，與通過取樣得到的跟蹤誤差信號的上升突然變化位置相對應的偏置信號被檢測作為Sm1，而與跟蹤誤差信號的下降突然變化的位置相對應的偏置信號被檢測作為Sm2。之后，介于變化位置Sm1和Sm2之間的中間位置被確定作為一個最佳位置(調整位置)。
圖8說明當最佳位置基于圖7所示的方法被檢測時的處理例子。在圖8中說明的處理中，首先在步驟S31中，一變量n被初始設置為0，而在步驟S32中，計算下列方程式S[n]＝SMIN+α×n這里SMIN為偏置調整值的最小值，而α為寬度或步幅(step size)，通過它偏置信號一步一步地變化。
在目前的情況下，由于n＝0、S
被置入SMIN。
控制電路42控制偏置產生電路43去產生值S[n](對于目前情況，S
＝SMIN)。之后，跟蹤誤差信號的幅度由電平檢測電路41檢測，該檢測值被置入為R[n](＝R
)。
之后，控制順序推進到步驟S33，其中可變量n遞增1(n設置為n＝1)。在步驟S34中，識別遞增后的可變量n是否小于NUM。字符NUM代表由(SMAX-SMIN)/α給定的值，在這里，偏置值的一最大值由SMAX表示。換言之，NUM代表在偏置掃描范圍中的一取樣數。
對于n小于NUM的情況，由于意味著并未對于所有取樣位置完成取樣，所以控制順序返回到步驟S32，在其中計算下列方程式S[n]＝SMIN+α×n換言之，在此情況下，比SMIN大α的一值被設置作為一偏置信號S[1]。之后，當產生該偏置信號S[1]時測量跟蹤誤差信號的幅度，而將該被測值設置為R[1]。
之后，控制順序推進到步驟S33，其中該可變量n遞增1，在此情況下，遞增到n＝2。當在步驟S34中識別出可變量n(＝2)小于NUM時，控制順序返回到步驟S32，以便重復執行同樣的處理。按這種方式在圖7所示的取樣位置S0至Sn上得到跟蹤誤差信號的幅值R0至Rn。
當按上述方式完成在檢索范圍內的取樣時，該可變量n變成等于NUM。因此，現在控制順序從步驟S34推進到步驟S35，其中，可變量n被初始化為1。之后，在步驟S36中識別在當前參考位置的幅值R[n]和上一幅值R[n-1]之間的差是否大于預先設置的參考值Th。在目前情況下，識別R[1]-R
的值是否大于Th。由于在圖7中所示的取樣范圍的第一時間周期中圖7中的曲線呈現向右下降特性，R[1]充分大于R
(它們之差(R[1]-R
)大于Th)。因此，控制順序推進到步驟S37，其中，在取樣位置S[n]和S[n-1]之間的中間值被設置作為一變化位置Sm1。換言之，計算下列方程式Sm1＝(S[n]+S[n-1])/2對于目前情況，在S[1]和S
之間的中間位置被設置為Sm1。
之后，控制順序推進到步驟S38，其中可變量n遞增1(到n＝2)，然后推進到步驟S39，其中識別可變量n是否小于NUM。當該可變量n小于NUM時，控制順序返回到步驟S36，其中識別R[2]-R[1]的值是否大于Th。如在圖7所見，在跟蹤誤差信號呈現大變化的時間周期內，兩個取樣值之間的差大于參考值Th。這樣，控制順序再次推進到步驟S37，其中Sm1被設置到值(S[2]+S[1])/2。換言之，在這上一取樣位置向右間隔α的取樣位置的值被設置為Sm1。
之后，在步驟S38，可變量n再次遞增1，成為n＝3，之后控制順序從步驟S39返回到步驟S36以便重復執行同樣的處理。
之后，隨著圖7中取樣位置向右移動，跟蹤誤差信號的變化率逐步下降。之后，當識別出值R[n]-R[n-1]小于Th時，控制順序從步驟S36推進到步驟S40。換言之，在此情況下，在跟蹤誤差信號的幅度變化率由高的部分改變到低的另外一部分的變化位置(上升突然變化位置)被設置為Sm1。
在步驟S40及以下等等中。在跟蹤誤差信號的幅度的變化率由呈現逐步下降部分到呈現突然下降的另一部分的一變化位置被檢測作為下降突然變化位置Sm2。
為此，在步驟S40中識別值R[n-1]-R[n]是否小于參考值Th。由圖7看出，在左側的取樣值R[n-1]小于右側的取樣值R[n]的時期內(在此期間內曲線呈現向右上升傾斜)以及在右側的取樣值R[n]小于左側的取樣值R[n-1]的時期內它們之間的差別是小的，值R[n-1]-R[n]小于參考值Th。因此，控制順序從步驟S40推進到步驟S41，其中S[n]和S[n-1]之間的中間值被設置為Sm2。換言之，計算下列方程式Sm2＝(S[n]+S[n-1])/2之后，在步驟S42中n遞增1，而在步驟S43中識別可變量n是否小于NUM-1(檢索范圍是否已達到圖7的右端)。當可變量n小于NUM-1時，控制順序返回到步驟S40，其中對在圖7中位移一個取樣距離的右側兩個取樣值重復作同樣的處理。之后，當該兩取樣值之間的差小于參考值Th時，控制順序再次推進到步驟S41，其中將在該兩取樣位置之間的中間值設置為Sm2。
當取樣位置連續地如此按圖7向右位移，直到圖7右側的取樣值R[n]呈現從左側的取樣值R[n-1]急速下降時，它們之間的差(R[n-1]-R[n])變成等于或大于參考值Th。在此情況下，在取樣位置S[n-1]和S[n-2]之間的中間值被設置為Sm2。這樣該值被確定作為一下降突然變化位置Sm2。
由于上升突然變化位置Sm1已在步驟S37中確定以及下降突然變化位置已在步驟S41中按上述方式確定，控制順序現在推進到步驟S44，其中在變化位置Sm1和Sm2之間的中間位置被確定作為一最佳位置。換言之，值(Sm1+Sm2)/2被設置作為一最佳位置。
要注意的是，當在步驟S39中識別可變量n等于或大于NUM時，控制順序由步驟S39推進到步驟S40。另一方面，當在步驟S43中識別可變量n等于或大于NUM-1時，控制順序由步驟S43推進到步驟S44。
雖然，在圖3中說明的再現設備的操作中，當光盤1裝進再現設備中到位時，光盤1的所有記錄層的最佳偏置位置被檢索出來并提前儲存，但是也有可能在每次改變要聚焦的目標記錄層時檢索一最佳聚焦偏置位置。
圖9說明剛剛描述的這種處理。參照圖9，首先在步驟S51，再現設備等待改變目標記錄層的指令發生，在該目標記錄層上的光需要聚焦。當一改變指令發生時，控制順序推進到步驟S52，其中使聚焦位置將要跳躍到指定記錄層的跳躍脈沖由聚焦伺服電路9產生。因此，光學頭3按聚焦方向跳到它能被聚焦在指定記錄層的位置上。
之后，控制順序推進到步驟S53，其中執行在光學頭3剛跳到的記錄層中檢索一最佳聚焦位置的處理。在此情況下的最佳聚焦檢索處理與圖3中步驟S2的處理相同。
當最佳聚焦檢索處理進行步驟S53結束時，控制順序返回到步驟S51，以便重復執行同樣的處理。換言之，每次目標記錄層改變時，執行上述這種處理。
因此，在此情況下，當用于光盤1的再現設備的跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的控制電路42控制偏置產生電路43產生一偏置信號、有了該偏置信號由電平檢測電路41檢測的跟蹤誤差信號便呈現一最大幅度時，該控制電路42控制偏置產生電路43在此后連續地產生偏置信號。結果，如果采用本處理方法，在圖1中所示的最佳聚焦偏置位置存儲電路33就不必要了。
圖11是說明用于光盤的再現設備的另一操作例。雖然在圖9說明的最佳聚焦檢索處理中，每次目標記錄層改變時執行該處理，但是每次改變記錄層時它要求很長的時間，才可能實際地再現數據。在圖11中說明的處理能減少處理時間。
參照圖11，首先在步驟S61，再現設備等待著，直到一改變目標記錄層的指令產生。當改變目標記錄層的指令產生時控制順序推進到步驟S62，其中跳躍脈沖由聚焦伺服電路9產生，以移動光學頭3朝向該目標記錄層。
之后，控制順序推進到步驟S63，在其中執行檢測跟蹤誤差信號幅度的處理，具體說，跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的控制電路42讀出從電平檢測電路41輸出的跟蹤誤差信號的幅值，并將如此讀出的值置入Rn。
在使用本處理的地方，再現設備是按圖1所示的方式構制的。檢測值Rn被加到并儲存到最佳聚焦偏置位置儲存電路33中，在該最佳聚焦偏置位置存儲電路33中，在先前再現記錄層的再現期間檢測的跟蹤誤差的幅度也被存儲作為Rp。這樣，在步驟S64中識別值Rp-Rn是否大于提前設置的參考值T。
具體說，當目前得到的幅度Rn大于在先前操作過程得到的幅度Rp，或者幅度Rn小于幅度Rp但它們之間的差小于參考值T，則該聚焦值被維持，因為它確定數據能以足夠的穩定性被再現，而不必特別地改變聚焦偏置值。換言之，與先前記錄層再現時相同的偏置值被連續地產生。之后，控制順序返回到步驟S61，為的是重復執行在步驟S61等中的處理。
另一方面，當目前的幅度Rn小于先前的幅度Rp，而且它們之間的差大于參考值T時，控制順序由步驟S64推進到步驟S65，其中執行最佳聚焦檢索處理。該最佳聚焦檢索處理和圖3步驟S2中的或圖9步驟S53中的處理相同。之后，當最佳聚焦檢索處理結束時，控制順序返回到步驟S61，以便重復執行在步驟S61等中的處理。
簡而言之，在本處理中，由于僅當跟蹤誤差信號的幅度不呈現起源于聚焦偏置改變的一足夠的幅度時才執行聚焦檢索處理，所以執行聚焦檢索處理的次數與圖9中說明的處理相比能夠減少。因此，能更快地啟動從記錄層再現數據。
圖12表示更進一步的光盤再現設備的另一實施例，其中包括本發明的更進一步的記錄和/或再現設備。在本實施例中，圖1的跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31由一RF信號最大幅度檢索電路51所取代。光學頭3輸出的RF信號被輸入到該RF信號最大幅度檢索電路51。
RF信號最大幅度檢索電路51包括類似于圖1中所示的跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31的一電平檢測電路，一控制電路，以及一偏置產生電路(未示出)。其他結構與圖1所示的再現設備的相同。
具體說，在圖12的實施例中，當啟動再現操作的指令發生時，首先控制電路17饋送光學頭3到光盤1的最內周光道位置，然后驅動主軸電機2去旋轉光盤1。之后，聚焦伺服電路9和跟蹤伺服電路10兩者都進入操作狀態。由此施加了聚焦伺服和跟蹤伺服。
圖2、5和7的曲線說明在此狀態下聚焦偏置和RF信號幅度之間的關系。具體說，當相對于光盤1的一記錄層的光學頭3的聚焦偏置被設置到最佳值時，RF信號呈現一最大幅度。因此，如同檢測跟蹤誤差信號的幅度的最大值時那樣，通過借助RF信號最大幅度檢索電路51檢測該RF信號的幅度的最大值，能檢索并設置一最佳位置。由于這種處理類似于上述參照圖1的光盤再現設備，因此這里省略了對其描述。
另一方面，如圖9所示，當每次因改變目標記錄層而使用RF信號執行最佳聚焦檢索處理時，圖12中所示的最佳聚焦偏置位置存儲電路33是不必要的，因此再現設備結構如圖13所示那樣除去了最佳聚焦偏置位置存儲電路33。
此外，當使用一RF信號執行檢索最大幅度時，在使用圖3或11中說明的處理的地方，則如在圖12中所見，再現設備需要最佳聚焦偏置位置存儲電路33。
圖14表示實施本發明的又再一個光盤再現設備。在本實施例中，提供一最小跳動(jitters)檢索電路61替代圖1實施例的跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31。一跳動測量電路62根據PLL電路5的輸出檢測跳動并輸出檢測出的跳動到最小跳動檢索電路61。類似于圖1所示的跟蹤誤差信號最大幅度檢索電路31，最小跳動檢索電路61包括一電平檢測電路，一控制電路和一偏移產生電路(未示出)。
圖14的光盤再現設備的其他結構與圖1的光盤再現設備相同。
跳動測量電路62檢測出由PLL電路5輸出的二進制RF信號和同步用時鐘信號之間的相位差的絕對值，并將該相差的絕對值作為跳動輸出到最小跳動檢索電路61。跳動和聚焦之間的關系如圖15所示。
具體說，如從圖15所見到的那樣，當相對于光盤1的光學頭3的聚焦偏置為最佳時，跳動最小，而如果聚焦偏置偏離該最佳位置，則跳動增大。通過檢測跳動的最小值就可確定相對于光盤1的光學頭3的聚焦偏置的最佳位置。
該跳動的最小值可用圖16所示的爬山方法來進行計算。參照圖16，取樣位置在增加方向上連續地位移α。當中心取樣值小于左右取樣值時，在其上得到該中心取樣值的一取樣位置被設置作為一最佳位置。
圖17說明借助爬山法確定最小跳動值處理的一個例子。
參照圖17，首先在步驟S71，將一初始值S0置入Sn。之后，將聚焦偏置位置設置為Sn(在本例中，Sn＝S0)。此外，測量本例中跳動的幅值(幅度)，將測量結果置入Rn(在本例中，Rn＝R0)。
具體說，控制電路42控制偏置產生電路43產生一偏置信號S0。聚焦伺服電路9響應由加法器32附加了偏置信號S0的聚焦誤差信號去控制聚焦線圈12。以便調整光學頭3的聚焦偏置位置。
于是，電平檢測電路41檢測由跳動測量電路62輸出的跳動的幅度，并將它輸出到控制電路42。控制電路42將檢測的幅值置入Rn(在本例中，Rn＝R0)。
之后，控制順序推進到步驟S72，其中，由S0和α相加而得到的一個值被置入Sn+。具體說，計算下列方程式Sn+＝S0+α之后，控制電路42控制偏置產生電路43產生偏置信號Sn+(＝S1)。具體說，控制電路42控制偏置產生電路43產生一個比在步驟S71中產生的偏置值大α的偏置值。由于聚焦伺服電路9響應附加了偏置值的聚焦誤差信號而控制聚焦線圈12，光學頭3進一步使光學頭3的聚焦偏置位置改變一對應于偏置值α的量。
本例中電平檢測電路41檢測由跳動測量電路62輸出的跳動的幅度。控制電路42將由電平檢測電路41此時檢測的跳動幅度置入Rn+(在本例中，R0+＝R1)。
接著，控制順序推進到步驟S73，其中，比S0小α的一個值被置入Sn-。換言之，計算下列方程式Sn-＝S0-α具體說，控制電路42控制偏置產生電路43產生一個比在步驟S71中產生的偏置信號Sn(在本例中，Sn＝S0)小α的值。由于附加了偏置信號Sn-的聚焦誤差信號通過聚焦伺服電路9被加到聚焦線圈12。所以光學頭3的聚焦偏置位置從以前產生偏置值S0的位置改變了一對應于-α的量。
之后電平檢測電路41檢測由跳動測量電路62輸出的跳動幅度并將它輸出到控制電路42，控制電路42將跳動的幅值置入Rn-(在本例中，Rn-＝R0-)。
通過上述步驟S71至S73的處理，得到了待附加到聚焦誤差信號的偏置值被設置為初始值S0時的跳動幅值Rn(＝R0)偏置信號增加α時的跳動幅度值Rn+(＝R0+＝R1)以及偏移值減小α時的跳動幅度值Rn-(＝R0-)，如圖16所示。
這樣，控制順序推進到步驟S74，其中識別Rn是否等于或小于Rn+以及Rn是否等于或小于Rn-。換言之，識別Rn是否小于Rn-和Rn+(Rn是否為最小值)。
通常，如在圖16中所見那樣，雖然偏置信號為S0時的跳動幅度Rn(＝R0)小于偏置信號減小α時的幅值Rn-(＝R0-)，它卻大于偏置信號，增大α時的跳動幅度Rn+(＝R0+＝R1)。這樣，在本例中，控制順序推進到步驟S75，其中識別Rn+是否小于Rn-。在本例中，由于Rn+(＝R0+＝R1)小于Rn-(＝R0-)(由于在圖16中曲線段處在向右下降部分)，控制順序推進到步驟S76。
在步驟S76中，Sn(＝S0)直到此時才被置入Sn-。之后Sn+(＝S1)直到此時才被置入新的Sn，Rn(＝R0)直到此時才被置入Rn-，而Rn+(＝R1)直到此時才被置入Rn。此外，由附加α到新Sn(＝S0+α＝S1)而得到的一個值(＝S0+2α＝S2)被置入Sn+。換言之，計算下列方程式Sn+＝Sn+α控制電路42控制該偏置產生電路43去產生Sn-(＝S2)作為偏置信號。具體說，控制電路42控制偏置產生電路43去產生比在步驟S72中產生的Sn+(＝S0+α)大α的偏置Sn+(＝S0+2α＝S2)。然后，將檢測的跳動幅度置入Rn+(＝R1+＝R2)。
換言之，作為結果，在三個從先前掃描中的那些取樣位置向右位移α的取樣位置S0、S1和S2上的跳動的幅值分別被設置為Rn-(＝R0)，Rn(＝R1)和Rn+(＝R2)。
之后，控制順序返回到步驟S74，其中識別Rn是否小于Rn-和Rn+。當Rn不是一最小值時，控制順序推進到步驟S75，其中再次識別Rn+是否小于Rn-。當Rn+小于Rn-時，控制順序推進到步驟S76，以便重復同樣的處理。
之后，當用于取樣的部分連續地按圖16向右位移，直到Sn到達一最佳位置時，得到的幅值Rn便小于Rn-和Rn+。換言之，Rn是一最小值。這樣，在此情況下，控制順序從步驟S74推進到S78，其中該值Sn被設置為一最佳值，與此同時跳動值呈現最大值。換言之，控制電路42控制偏置產生電路43連續地產生偏置信號Sn作為一最佳值。
另一方面，當取樣按圖16中的向右上升部分進行處理時，值Rn+大于Rn-。這樣，在此情況下，控制順序從步驟S75推進到步驟S77，其中Sn直到此時才被置入Sn+，Sn-直到此時才被置入Sn-，Rn直到此時才被置入Rn+，以及Rn-直到此時才被置入Rn。之后，比新的Sn小α的一值被置入Sn-。換言之，計算下列方程式Sn-＝Sn-α具體說，在圖16的左側的取樣位置用Sn-進行取樣。之后檢測由偏移產生電路43產生偏置信號Sn-時的跳動的幅度，檢測的幅度值被置入Rn-。
之后，控制順序返回到步驟S74，其中識別Rn是否小于Rn-和Rn+。在圖16中向右上升部分中，由于Rn仍大于Rn-，控制順序推進到步驟S75，然后從步驟S75推進到步驟S77以便重復相同的處理。當取樣位置連續地向左(朝向最佳位置)推進直到Sn到達最佳位置時，Rn小于Rn+和Rn-。在此情況下，控制順序從步驟S74推進到步驟S78，其中確定偏移信號Sn的值作為最佳值。之后，控制電路42控制偏置產生電路43以便連續地產生最佳值。
此外，和圖7中說明的處理類似，計算一下降突然變化位置Sm2和上升突然變化位置Sm1。這樣，就可確定它們之間的一中間位置為一最佳位置，與此同時，跳動呈現最小值。
具體說，在本例中，如在圖18中所見那樣，在取樣位置S0至Sn的部分中，取樣值R0至Rn被事先計算出來。之后，根據這些取樣值確定變化位置Sm1和Sm2，并確定在它們之間的一中間位置。
圖19說明在此情況下處理的一個例子。參照圖19，在所示的處理中，首先在步驟S91中，0被初始地置入可變量n，之后在步驟S92，計算下列方程式S[n]＝SMIN+α×n這里SMIN是偏置調整值的一最小值，而α是寬度或步幅，偏置值用它一步一步地變化。
在目前情況下，由于n＝0，S
被設置為SMIN。
控制電路42控制偏置產生電路43產生信號S[n](在此情況下，S
＝SMIN)。之后，跳動幅度由電平檢測電路41檢測，其檢測值被置入R[n](＝R
)。
之后，控制順序推進到步驟S93，其中可變量n遞增1(到n＝1)。在步驟S94中識別遞增后的可變量是否小于NUM。設偏置值的一最大值由SMAX表示，則字符NUM表示由(SMAX-SMIN)/α給出的一個值。換言之，NUM表示在聚焦偏置掃描范圍內的取樣數。
當n小于NUM時，由于這意味著取樣位置還未全部取樣，控制順序返回到步驟S92，其中計算下列方程式S[n]＝SMIN+α×n具體說，在本處理中，比SMIN大α的值被設置作為一偏置信號S[1]。之后，當產生偏置信號S[1]時測量跳動的幅度，其值被設置為R[1]。
之后，控制順序推進到步驟S93，其中可變量n遞增1，在此情況下，遞增到n＝2。之后，當在步驟S94中識別該可變量n(＝2)小于NUM時，控制順序返回到步驟S92，以便重復執行同樣的處理。按此方式，得到在圖18中所示的取樣位置S0至Sn上的跳動的幅值R0至Rn。
當按上述方式如此地完成在檢索范圍中的取樣時，可變量n變成等于NUM。這樣，控制順序現在從步驟S94推進到步驟S95，其中可變量n被初始地設置到1。之后在步驟S96識別在目前參考位置的幅值R[n]和先前幅值R[n-1]之間的差是否小于事先設置的一參考值Th。具體說，識別值R
-R[1]是否小于Th。由于向右下降特性出現在取樣范圍的第一部分，R
比R[1]足夠地大(它們之間的差(R
-R[1])大于Th)。這樣，控制順序就推進到步驟S97，其中介于取樣位置S[n]和S[n-1]之間的一中間值被設置為可變位置Sm2。換言之，計算下列方程式Sm2＝(S[n]+S[n-1])/2在此情況下，介于S[1]和S
之間的一中間位置被設置為Sm2。
之后，控制順序推進到步驟S98，其中可變量n遞增1(到達n＝2)，之后推進到步驟S99，其中識別可變量n是否小于NUM。當可變量n小于NUM時，控制順序返回到步驟S96，在其中識別值R[1]-R[2]是否小于Th。如圖18中所見那樣，在跳動變化相當大的時期內，兩個取樣值之間的差大于該參考值Th。因此，控制順序再次推進到步驟S97，其中值(S[2]+S[1])/2被置入Sm2，換言之，在先前操作位置向右間隔α的位置上的值被置入Sm2。
之后在步驟S98，可變量n再次遞增1到達n＝3，控制順序由步驟S99返回到步驟S96，以便重復執行同樣的處理。
之后，當在圖18中的取樣位置連續地向右位移時，跳動的變化率逐步地下降。因此，當識別出值R[n-1]-R[n]小于Th時，控制順序由步驟S96推進到步驟S100。換言之，在此情況下，從跳動幅度變化率高的一部分到變化率低的另一部分的一變化位置(下降突然變化位置)被設置為Sm2。
在步驟S100等中，這樣一個變化位置被檢測作為上升突然變化位置Sm1，即，在該變化位置上，從變化率逐步增加的一時期到變化率突然增加的另一時期跳動幅度的變化率突然增加。
為此，在步驟S100中識別值R[n]-R[n-1]是否大于參考值Th。在左側的取樣值R[n-1]大于右側的取樣值R[n]的時期中(在向右下降時期中)，以及在右側的取樣值R[n]大于在左側的取樣值R[n-1]時期中，但它們之間的差是小的，值R[n]-R[n-1]小于參考值Th。這樣，控制順序從步驟S100推進到步驟S101，其中在S[n]和S[n-1]之間的一值被置入Sm1。換言之，計算以下方程式Sm1＝(S[n]+S[n-1])/2之后，在步驟S102中n遞增1，并在步驟S103中識別可變量n是否小于NUM-1(檢索范圍是否到達圖18中的右端)。當可變量n小于NUM-1時，控制順序返回到步驟S100，其中，對于在圖18右側相距一個取樣距離的兩個取樣值重復執行同樣的處理。之后，當該兩取樣值之間的差小于參考值Th時，控制順序再次推進到步驟S101，其中在該兩取樣值之間的一中間值被置入Sm1。
當如此地連續按圖18向右位移取樣位置直到圖18中右側的取樣值R[n]呈現從左側的取樣值R[n-1]突然增加時，它們之間的差(R[n]-R[n-1])等于或大于參考值Th。在此情況下，取樣位置S[n-1]和S[n]之間的一中間值被置入Sm1。之后，該值被確定為上升突然變化位置Sm1。
由于下降突然變化位置Sm2已在步驟S97中計算，而上升突然變化位置Sm1已在步驟S101中按此方式計算，控制順序現在推進到步驟S104。其中，變化位置Sm1和Sm2之間的一中間位置被確定為一最佳位置。換言之，值(Sm1+Sm2)/2被設置為一最佳點。
要注意的是，當在步驟S99識別可變量n等于或大于NUM時，控制順序從步驟S99推進到步驟S100，另一方面，當在步驟S103識別可變量n等于或大于NUM-1時，控制順序從步驟S103推進到步驟S104。
對于一最佳位置由圖7或圖18的方法檢測的場合，即使噪聲和跟蹤誤差信號，RF信號或跳動疊加，噪聲的影響也能被減弱。
再有，對于使用跳動檢索最佳聚焦偏置位置的場合，可以應用圖3或圖9中說明的處理或圖11中說明的處理。對于最佳聚焦偏置位置由圖3或圖9所示的處理進行檢索的場合，再現設備按圖14所示的方式來構造。具體說，在此情況下。需要最佳聚焦偏置位置存儲電路33。相反，對于應用圖11所示的處理的場合，如在圖20中所見那樣，不必設置最佳聚焦偏置位置存儲電路33。
雖然在以上實施例中，作為例子將本發明的一種記錄和/或再現設備應用到一種光盤再現設備上，本發明也可應用于將信息記錄到一個光盤上。
現在已經充分描述了本發明，本專業普通技術人員能夠明白，能對此做許多變化和更改而不脫離本發明闡明的精神和范圍。
權利要求
1.一種用于光記錄介質的記錄和/或再現設備，包括一光學裝置，用于記錄信息到記錄介質和/或由記錄介質再現信息；一聚焦控制裝置，用于響應聚焦誤差信號控制所述光學裝置的聚焦狀態；一產生裝置，用于根據由所述光學裝置再現的信號產生所述光學裝置的聚焦偏置信號；以及一相加裝置，用于將該聚焦偏置信號加到該聚焦誤差信號。
2.按權利要求1的一種記錄和/或再現設備，其中所述產生裝置包括一檢索裝置，用于根據由所述光學裝置再現的信號檢索一最佳聚焦偏置位置。
3.按權利要求2的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢索裝置還包括一檢測裝置，用于根據由所述光學裝置再現的信號檢測聚焦偏置量，以及一識別裝置，用于根據所述檢測裝置的檢測輸出識別最佳聚焦偏置位置。
4.按權利要求3的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢測裝置根據一跟蹤誤差信號檢測聚焦偏置量。
5.按權利要求3的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢測裝置根據一再現RF信號檢測聚焦偏置量。
6.按權利要求3的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢測裝置根據一跳動信號檢測聚焦偏置量。
7.按權利要求2的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢索裝置包括一存儲裝置，用于存儲對應于最佳聚焦偏置位置的聚焦偏置量。
8.按權利要求2的一種記錄和/或再現設備，其中該光學記錄介質是一種盤式的記錄介質。
9.按權利要求8的一種記錄和/或再現設備，其中該光學記錄介質具有多個記錄層。
10.按權利要求9的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢索裝置對每個記錄層檢索一最佳聚焦偏置位置。
11.按權利要求10的一種記錄和/或再現設備，其中所述檢索裝置包括一存儲裝置，用于存儲相應于每個記錄層的最佳聚焦偏置位置的聚焦偏置量。
12.一種用于光記錄介質的記錄和/或再現方法，包括如下步驟用光學裝置記錄信息到記錄介質和/或從該記錄介質再現信息；產生一聚焦誤差信號；根據由所述光學裝置再現的一信號產生所述光學裝置的一聚焦偏置信號；將該聚焦偏置信號加到聚焦誤差信號；以及根據附加了聚焦偏置信號的聚焦誤差信號控制所述光學裝置的聚焦狀態。
13.按權利要求12的一種記錄和/或再現方法，其中產生一聚焦偏置信號的步驟包括根據由所述光學裝置再現的信號檢索一最佳聚焦偏置位置的步驟。
14.按權利要求13的一種記錄和/或再現方法，其中檢索步驟包括根據由所述光學裝置再現的信號檢測一聚焦偏置量的步驟，以及根據該檢測的輸出識別最佳聚焦偏置位置的步驟。
15.按權利要求14的一種記錄和/或再現方法，其中檢測一聚焦偏置量的步驟包括根據一跟蹤誤差信號檢測一聚焦偏置量的步驟。
16.按權利要求14的一種記錄和/或再現方法，其中檢測一聚焦偏置量的步驟包括根據一再現RF信號檢測聚焦偏置量的步驟。
17.按權利要求14的一種記錄和/或再現方法，其中檢測一聚焦偏置量的步驟包括根據一跳動信號檢測聚焦偏置量的步驟。
18.按權利要求13的一種記錄和/或再現方法，其中檢索步驟包括存儲相應于最佳聚焦偏置位置的聚焦偏置量的步驟。
19.按權利要求13的一種記錄和/或再現方法，其中記錄介質具有多個記錄層，以及檢索步驟包括檢索多個記錄層每一層的一最佳聚焦偏置位置的步驟。
20.按權利要求19的一種記錄和/或再現方法，其中檢索步驟包括存儲相應于多個記錄層每層的最佳聚焦偏置位置的聚焦偏置量的步驟。
21.按權利要求20的一種記錄和/或再現方法，其中檢索步驟包括在啟動時存儲相應于多個記錄層每層的最佳聚焦偏置位置的聚焦偏置量的步驟。
全文摘要
一種記錄和/或再現設備及其方法，可使信息記錄在光盤的任意多個記錄層上或再現該信息。在該方法中，可檢索光盤一預定記錄層的最佳聚焦偏置位置，一步一步地改變偏置值及檢索跟蹤誤差信號幅度呈現最大值的偏置值。在檢索出一最佳聚焦偏置位置后，存儲這個值。對其他任一記錄層也執行相同的處理。當產生再現一預定記錄層的指令時，聚焦跳躍到該記錄層。之后，讀出檢索出的和提前存儲的最佳聚焦偏置值并將其加到聚焦誤差信號上。
文檔編號G11B7/09GK1147180SQ96111018
公開日1997年4月9日 申請日期1996年6月16日 優先權日1995年6月16日
發明者筒井敬一, 五十嵐勝治 申請人:索尼公司