光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質的制作方法

專利名稱：光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質的制作方法
技術領域：
本發明涉及通過利用近場來光學性地進行信號的記錄、再生的光記錄再生方法、 光記錄再生裝置、程序和光記錄介質。
背景技術：
在DVD等光記錄介質的記錄和再生中使用的是由物鏡會聚的光點。波長越短、或 物鏡的數值孔徑(以下稱為NA)越大，該光點的尺寸越小，就可以進行更高密度的記錄、再 生。為了實現高密度的記錄和再生，一直以來有很多的途徑。其中，作為將物鏡的NA飛躍 式地提高的方法，近年來受到注目的是使用了固體浸沒透鏡(以下稱為SIL)的光學系統。 若使用SIL，則能夠將在大氣中為1的光的入射側之折射率根據SIL的材質進行提高，可將 物鏡的NA大幅地增大。但是，為了經由近場光使光從SIL向光記錄介質高效率地傳播，需要將兩者之間 的距離(以下稱為間隙)保持得非常小，達到波長的數分之一以下。由此，這也就發生了現 有的光學系統中所沒有的問題。對于該問題進行詳述之前，先使用圖2A和圖2B所示的例子，對于使用了 SIL的記 錄再生裝置進行說明。如圖2A所示，從光源201射出的光，經由平行光管202成為平行光線，且通過 PBS (偏振光分束器)203、1/4波長板204。之后，光通過由凸透鏡205和SIL206構成的物 鏡被會聚到SIL的底面。光從SIL的底面經由近場光到達光記錄介質207的信號層，并被 反射而通過物鏡、1/4波長板。其后，光由PBS203反射、被會聚透鏡208會聚到PD(光電探 測器)209上。PD209如圖2B所示被分割成209A、209B、209C、209D這4個區域。由會聚透 鏡208聚集的光作為光點201被調整到位于4個區域的中心附近的位置。來自各區域的信 號被用于信息的再生、調焦、傾斜伺服等各種目的。物鏡能夠通過致動器211和傾斜調整部 212等而使之沿水平、垂直、傾斜等方向調整。還有，該圖示例是為了容易說明光記錄再生裝 置的基本結構而進行了簡化的結構。一般來說，通常所使用的記錄再生裝置其記錄再生裝 用和伺服控制用會分別具有不同的光源和PD。關于PD也會根據用途使用一分為二或不進 行分割的。接著，對于采用了 SIL光學系統時的問題進行闡述。首先，在SIL和光記錄介質之間穩定地保持現有的萬分之一左右的這一非常小的 間隙，在現有技術中非常困難。作為對此有效的方法，提出有被稱為間隙伺服的技術。該方 法由專利文獻1等公開。該方法中，隨著間隙的大小而變化的、來自SIL的底面的全反射區 域的反射光量通過PD209得以檢測，與該反射光量相應的信號被輸入到間隙伺服回路，且 驅動致動器211而使間隙控制為恒定。來自全反射區域的反射光量，如圖3所示，在間隙充 分大時其為恒定。但是，若間隙處于波長的二分之一以下左右的近場區域，則反射光量具有 隨著間隙變小而變小的性質。因此，能夠根據反射光量估算間隙的大小。另外，在SIL光學系統的非常小的間隙下，即使SIL的底面和光記錄介質的表面只
4有一點點傾斜，也會有容易發生接觸這樣的問題。對此，還提出有與間隙伺服同樣地利用來 自SIL的底面的全反射區域的反射光之傾斜伺服技術。該方法中，因傾斜度變得不均勻的 間隙所發生的反射光的非對稱性通過PD209得以檢測，由傾斜伺服回路驅動傾斜調整部， 從而對傾斜進行適當的控制。在該傾斜伺服中，提出有使用有別于記錄再生光的光源的方 法和使用同一光源的方法。從制造成本和調整的容易度的觀點出發，強烈期望使用同一光 源的方法，但卻存在后述的課題，還沒有達到實用化。作為使用同一光源的技術，例如提出 有專利文獻2、專利文獻3等方法。專利文獻1 再公表03/021583號公報專利文獻2 特開2005-259329號公報專利文獻3 特開2006-4596號公報但是，上述所示的這種傾斜伺服具有下述的課題。第一，所具有的課題是，在開始傾斜伺服之前，SIL底面和光記錄介質碰撞的可能 性高。如果使用上述的傾斜伺服，則在傾斜大致接近零的區域，能夠將傾斜較小地保持。但 是，在開始傾斜伺服時就留有如下的重大課題。在不使用SIL的現有的光學系統中，即使是 在傾斜伺服開始前的狀態下，避免物鏡與光記錄介質的接觸也很容易。但是在使用SIL的 光學系統中，因為間隙非常小，所以在開始傾斜伺服前，SIL和光記錄介質的表面只要稍微 地傾斜就容易發生碰撞，而使SIL受到損傷的可能性非常高。第二，專利文獻2所述的傾斜伺服技術中，需要在使光記錄介質靜止的狀態下進 行傾斜的初期調整。因此，就具有實際上對光記錄介質的信息層訪問的時間變長這樣的課 題。另外，一旦SIL與光記錄介質發生接觸，就會導致污染或是損傷，其危險非常高。第三，所具有的課題是，專利文獻3所述的傾斜伺服技術中，因為光學系統復雜， 所以調整非常困難。記錄再生光和傾斜伺服使用不同的光源的其他現有的傾斜伺服技術， 也同樣具有因光學系統復雜而引發的課題。

發明內容
本發明鑒于以上的情況而形成。本發明的目的在于，提供一種具有在使用SIL光 學系統的光記錄再生中將記錄再生光的一部分也利用于傾斜伺服的單純的光學系統、且在 傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質不會發生碰撞的方法。(用于解決課題的方法)為了達成上述的目的，本發明的光記錄再生方法中，實施如下伺服，S卩，間隙伺服， 利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對光記錄介質表面和SIL 的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控 制；傾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾斜， 其中，該光記錄再生方法具有如下工序(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使焦點從 SIL的底面向光記錄介質側移動的工序；(B)所述傾斜伺服的開始的工序；(C)通過將所述間隙縮小而使SIL在既定的位置配置的工序，按順序進行所述㈧至(C)的工序。
在此，所謂將焦點從SIL的底面向光記錄介質側移動，例如不僅包括該焦點位于 光記錄介質本身的情況，也包括其位于SIL和記錄介質之間的間隙的情況。所謂既定的位置，例如是用于記錄再生的位置。另外，所謂光例如是記錄再生用的光。還有，在(A)的工序中，在間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服、 和使焦點從SIL的底面向光記錄介質側移動，其順序顛倒也可。在此，因為是在SIL最接近光記錄介質之前開始傾斜伺服，所以能夠使SIL和光記 錄介質的接觸的可能性達到最小。另一方面，間隙越大，來自SIL的底面的反射光的非對稱 性越小(光學增益的降低)，傾斜伺服的開始變得困難。但是，在前述(A)的工序中，通過使 焦點從SIL的底面向光記錄介質側移動，在SIL的底面中的記錄再生光的截面(以下稱為 SIL的出射面)擴展，反射光的非對稱性變大(光學增益的增大)，因此能夠使傾斜伺服穩 定地開始。此外，在前述(A)的工序中，將焦點按照與在光記錄介質的可合焦的信號層之中、 從SIL的底面看處于最遠位置的信號層相接近的方式移動也可。在此，所謂將焦點按照接近信號層的方式移動，是指盡可能地接近作為目標的信 號層，包括焦點位置至信號層上為止移動的情況，也包括不在信號層上而至其附近為止移 動的情況。此外這時，在上述焦點的移動中，利用聚焦伺服的初始條件也可。在此，能夠使光迅速地與最遠位置的信號層合焦。取而代之的是，在前述的(A)的工序中，將焦點按照與在光記錄介質的可合焦的 信號層之中、從SIL的底面看處于最近位置的信號層相接近的方式移動也可。此外這時，在 焦點的移動中，利用聚焦伺服的初始條件也可。在此，能夠使光迅速地與最近位置的信號層合焦。此外，在具有從同一面側可以合焦的信號層的光記錄介質中，根據SIL的底面和 光記錄介質的信號層的距離，使所述傾斜伺服的回路增益變化也可。在此，通過對光學增益的變化量進行補正，能夠使傾斜伺服穩定。這時，SIL的底 面和各信號層的距離越大，光學增益就越大，因此回路增益減小也可。此外，本發明的光記錄再生方法中，在所述(A)的工序中，通過使用聚焦伺服來檢 測SIL的底面的位置也可。由此，即便在光學系統偏移發生時，將焦點位置高精度地移動至 既定的位置也可。此外，在本發明的光記錄再生方法中，在所述(B)工序中，使所述光的SIL出射面 的直徑Do調整為7 μ m以上90 μ m以下。這具有進一步降低SIL和光記錄介質的碰撞可能 性的效果。此外，通過使SIL出射面的直徑Do調整為25 μ m以上50 μ m以下，具有進一步降 低碰撞可能性的效果。本發明的光記錄再生裝置，具有如下伺服機構，即，間隙伺服機構，利用由來自SIL 底面的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對光記錄介質的表面和所述SIL的底面之間 的間隙進行控制；聚焦伺服機構，對所述光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制； 傾斜伺服機構，利用所述反射光，控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾
6斜，其中，所述光記錄再生裝置實施如下步驟(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使焦點從 SIL的底面向光記錄介質側移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將SIL在既定位置配置的步驟，并且，將所述㈧ (C)的步驟順次進行。本發明的計算機程序，使計算機實施如下伺服，S卩，間隙伺服，利用由來自SIL的 底面的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對光記錄介質表面和SIL的底面之間的間隙 進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用 所述反射光控制SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾斜，其中，所述程序實施如 下步驟(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使焦點從 SIL的底面向光記錄介質側移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將SIL在既定位置配置的步驟，并且，使所述㈧ (C)步驟順次實施。本發明的光記錄介質，是通過使用SIL光學系統可進行光記錄再生的光記錄介 質，所述光記錄介質具有基板、保護層和至少一個信號層。信號層在基板和保護層之間形 成，距SIL的底面的距離在0. 9 μ m以上、38 μ m以下的范圍。此外，信號層具有滿足如下條 件的引入區域在λ設為來自SIL的光的波長，D設為SIL的底面的直徑或最長軸徑時，表 面的傾斜度θ滿足θ <arCSinU/D)。并且，該引入區域在信號層的一周遍布，且在半徑 方向具有20 μ m以上的寬度。在此，所謂引入區域是在光記錄介質中進行焦點的引入的區域。引入區域例如是 記錄再生裝置最初訪問的存儲有管理信息的管理區域也可。在此，光記錄介質的表面傾斜度在可制造的范圍內減小，且可以降低SIL與光記 錄介質的碰撞的可能性。此外，信號層在距SIL的底面的距離為3. 3μπι以上、21 μ m以下的范圍也可。另外，引入區域的表面傾斜度θ滿足θ < arcsin(A/2D)也可。引入區域被配置于在半徑16mm以上、43mm以下的范圍的位置也可，或者被配置于 在半徑17mm以上、25mm以下的范圍的位置也可。基板和保護層的折射率的差為0. 35以上也可。此外，光記錄介質具有多個信號層 和在該信號層間所形成的中間層，并且，基板和中間層的折射率的差為0. 35以上也可。此外，上述折射率的差為0. 45以上也可。根據本發明的光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質，即使在使用 SIL光學系統時，也能夠在傾斜伺服開始時避免SIL與光記錄介質碰撞。


圖1是表示第一實施方式的光記錄再生方法的流程圖的一例的2是表示第一實施方式的光記錄再生裝置的結構和該光記錄再生裝置的PD的區域的圖<
系的圖<
圖3是表示間隙與全反射光量的關系的圖。 圖4是表示光記錄介質的結構例的圖。
圖5是表示第一實施方式的光記錄再生方法的SIL與光記錄介質的位置關系的
圖6是表示第-圖7是表示第-圖8是表示第-
-實施方式的光記錄再生方法的間隙與傾斜度β的關系的圖。 -實施方式的光記錄再生方法的傾斜伺服的穩定性的圖。 -實施方式的光記錄再生方法的出射面的直徑與偏移量的相互關
圖9是表示第二 圖10是表示第:實施方式的光記錄介質的結構例的圖。 二實施方式的光記錄介質的結構例的圖。 圖11是表示在光記錄介質的中間層形成中現有的樹脂涂布方法及其課題的圖。 實施方式的光記錄介質的制造方法的示例的圖。 實施方式的光記錄介質的制造方法的示例的圖。 實施方式的光記錄介質的制造工序中的凹坑的形狀例的圖。 實施方式的光記錄介質的表面的傾斜度的圖。 實施方式的光記錄介質的折射率差和反射率的關系圖。圖12是表示第二
圖13是表示第二
圖14是表示第二
圖15是表示第二
圖16是表示第二
符號說明
201光源
202平行光管
203PBS
2041/4波長板
205凸透鏡
206SIL
207光記錄介質
208會聚透鏡
209PD
208會聚透鏡
210光點
211致動器
212傾斜調整部
213指令機構
1001基板
1002中間層
1003保護層
1004第二信號層
1005測定范圍
1101帽體
1102凸起部
8
1103帽體端面
1104凸起部端面
1201凹坑
1202凹坑的外端
1203凹坑的內端
1204滴下區域的內周端
1205凹坑的深度
1301樹脂封擋
1302樹脂封擋外端
1303樹脂封擋內端
1501標準
1502標準
具體實施例方式(第一實施方式)一邊參照附圖，一邊對于本發明的第一實施方式的記錄再生方法和實施該方法的 記錄再生裝置進行說明。圖1表示本實施方式的光記錄再生方法的流程圖的一例，圖2表示本實施方式的 光記錄再生裝置的一例，圖4表示能夠用于本實施方式的光記錄再生方法的光記錄介質的 結構例。還有，所謂本實施方式的光記錄再生，是指光學性地進行記錄、再生的任意一方或 雙方。〈光記錄再生裝置〉本實施方式的光記錄再生方法，通過使用圖2所示的光記錄再生裝置來進行。如 圖2 (a)所示，從光源201射出的光經由平行光管202而成為平行光線，通過PBS203、1/4波 長板204。其后，光通過由凸透鏡205和SIL206構成的物鏡被會聚到SIL的底面。光從SIL 的底面經由近場光到達光記錄介質207的信號層、并被反射而通過物鏡、1/4波長板。其后， 光被PBS203反射，被會聚透鏡208會聚到PD209。PD209如圖2 (b)所示，被分割成209A、 209B、209C、209D這4個區域。由會聚透鏡208聚集的光，被調整作為光點210位于4個區 域的中心附近。來自各區域的信號被用于信息的再生、調焦、傾斜調整等各種目的。物鏡通 過致動器211和傾斜調整部212等，就能夠在水平、垂直、傾斜等的方向上得以調整。在該光記錄再生裝置中，能夠在例如透鏡、致動器和傾斜伺服回路等各構成元件 使用現有技術的結構。本實施方式的光記錄再生方法的特征在于，由這些各構成元件構成 的功能的操作方法、步驟；本實施方式的光記錄再生裝置的特征在于，用于存儲上述光記錄 再生方法并加以實行的指令機構213。在此，指令機構213由存儲器和運算裝置等構成。就指令機構213而已，使用由存 儲器所存儲的信息或根據需要從各構成元件所輸出的信息，運算各構成元件應該實行的操 作，且根據其運算結果對各構成元件輸出初始條件、操作步驟和操作方法等的指令。圖2中 指令機構213以一個部件加以表示，但是由多個部件構成也可，被分散配置在傾斜伺服回路和間隙伺服回路等其他的構成元件之中也可。還有，該圖示例是用于方便說明本實施方式的光記錄再生裝置的基本結構而進行 了簡易化的結構。例如，透鏡、致動器和傾斜伺服回路等的各構成元件只要是具備各基本功 能的、不具有其形態而本實施方式的效果也不會受到破壞。另外，關于可以利用現有的技術 的部分，在方法、裝置、介質中均適宜省略詳細的說明。
〈光記錄再生方法〉使用圖1，對于本實施方式的光記錄再生方法的操作順序進行說明。本實施方式的 光記錄再生方法，即使在SIL和光記錄介質發生相對性地傾斜時也不會互相接觸，可以穩 定地向記錄再生狀態過渡。為此，至使SIL移動到光記錄再生時的既定的位置為止，按如下 的順序進行各工序。首先，建立符合了以下三個條件的狀態(以下稱“狀態A”)。第一個條件間隙(SIL和光記錄介質的距離)比實際進行光記錄再生時大。第二個條件記錄再生光的焦點位置位于比SIL的底面更靠光記錄介質側。第三個條件間隙伺服開始。用于滿足這三個條件的操作，其進行的順序對本實施方式的效果沒有影響，但例 如圖1(a)、圖1(b)、圖1(c)所示的操作順序，在順暢地進行各操作這一點上優選。對于在將SIL配置于光記錄再生時的既定的位置之前，建立“狀態A”的優點進行 說明。在該狀態下，因為間隙比記錄再生時大，所以能夠將SIL和光記錄介質接觸的可 能性大幅降低。一般來說，為了極力提高近場光的傳播效率，進行記錄再生時的間隙會被設 定得非常小，達λ/20左右。相對于此，“狀態Α”的間隙被保持在間隙伺服可以開始的上 限，S卩λ/2(參照圖3)左右。由此，能夠允許的SIL和光記錄介質的相對的傾斜度可達到 10倍左右，就使SIL和光記錄介質的接觸的可能性大幅減小。但是，在間隙為λ/2的狀態 下，用于間隙伺服的光學增益(相對于間隙和傾斜的變化量的、由PD209檢測的光信號的變 化的比例)小，穩定地保持間隙伺服困難的情況也存在。這種情況下，若將“狀態Α”的間隙 減小至λ /4左右，則光學增益以數倍 十倍左右大幅地增大，能夠使伺服穩定化。關于傾斜伺服，也是間隙越大而光學增益越低，穩定地操作變得困難。但是，在“狀 態Α”下，如圖5(a)所示，記錄再生光的焦點位置位于比SIL的底面更靠光記錄介質側，由 此達成光學增益的大幅增大。對于該光學增益的增大進行說明。利用記錄再生光的傾斜伺服中，利用的是根據圖5(a)所示的dl與d2的差分而變 化的PD209的光點210的非對稱性。在此，如果SIL與光記錄介質的相對的傾斜度β相同， 則dl與d2的差分與記錄再生光的出射面的直徑Do成正比。即，出射面的直徑越大，光學 增益越大。在現有的記錄再生方法中，如圖5(b)所示，因為在SIL的底面配置有焦點的狀態 下進行傾斜伺服，所以出射面就成為記錄再生光的焦點程度的大小。焦點的大小與記錄再 生光的波長λ成正比，與物鏡的NA成反比。比例系數會根據光學系統的設計而多少有一 些變化，但是在一般的結構下，使用波長405nm、NAl. 65時，焦點的大小為200nm左右。相對 于此，若物鏡的孔徑角(絞D角)設為α、焦點位置的距SIL的偏移量設為A，則本實施方 式的記錄再生方法中的出射面的直徑Do表示為
10
Do = 2*A*tana。在此，例如如果A為liim、a為60度，則Do為3.5左右。即，Do急劇增大為現有 的方法的10 20倍，能夠對因間隙大而降低的光學增益進行補償。其結果是，在“狀態A” 下也可穩定地進行傾斜伺服。如以上說明，在“狀態A”下，以比以往間隙大的狀態就可以進行傾斜伺服的驅動。該“狀態A”形成后，首先，開始傾斜伺服(圖1的工序4)。通過傾斜伺服驅動， SIL與光記錄介質的相對的傾斜度被保持得很小，因此不會彼此接觸，可以使之向實際進行 光記錄再生的位置接近(圖1的工序5)。在使之接近進行光記錄再生的距離、例如至20nm 左右的狀態下，即使Do很小，也能夠得到用于傾斜伺服的充分的光學增益。因此，能夠自由 地變更焦點位置，使之向既定的信號層合焦。在本實施方式的方法和裝置中，例如，使用圖4所示的這種光記錄介質。圖4(a) 所示的記錄介質中，在表面形成有信號層。圖4(b)所示的記錄介質，在一個信號層之上形 成有保護層。圖4(c)所示的記錄介質中，具有由中間層隔離的多個信號層，其中之一被形 成于表面。圖4(d)所示的記錄介質中，具有由中間層隔離的多個信號層，在表面形成有保 護層。如果在圖1的工序5之后，例如即使合焦于圖4(a)、圖4(c)的第一信號層，也可以穩 定地驅動傾斜伺服。還有，圖4是在本實施方式中使用的光記錄介質的基本結構的示例，并 沒有完全表示信號層的數量和配置的全部。以下，對于“狀態A”進行更詳細的說明。但是，在此闡述的條件和結構，是用于最 大限度獲得本實施方式的效果的條件和結構。因此，本實施方式并不限定于以下的條件和 結構。首先，對于有關“狀態A”的第一條件進行說明。如前述，根據本實施方式的方法，因為能夠在比以往間隙大的狀態下開始傾斜伺 服，所以能夠減小SIL和光記錄介質的碰撞的可能性。但是也可考慮的情況是，若SIL與光 記錄介質的相對的傾斜度過大，則在成為“狀態A”的條件下的間隙的時刻就已經發生了碰 撞。在此，若設SIL與光記錄介質的相對的傾斜度為0，設SIL的底面的直徑為D，設間隙 的大小為G，則是否發生碰撞的臨界條件表示為旦=arcsin(2G/D)。這時的傾斜度3和G、D的關系表示在圖6中。若記錄再生光使用400nm左右的 波長，則間隙lOOnm相當于X/4、而200nm相當于X/2。由圖形可知，為了增大3，SIL的 底面的直徑D盡可能小的方法即可。另一方面，其與前述的SIL的出射面的直徑Do存在Do < D的關系。因此，為了使傾斜伺服穩定化而增大Do，為此D大的方法即可，因此需要從兩 個方面選擇平衡性的大小。雖然認為如果使Do為以往的數十倍 數百倍，則在使傾斜伺服的穩定化上能夠 得到充分的效果，但其實際的效果的調查結果如圖7所示。這是在使用NA為1.65、a為60 度、入為405nm的光學系統且焦點的距SIL底面的偏移量A變化的情況下、間隙G=入/4 和G= X/2時的傾斜伺服的穩定性的調查結果。Do是基于A和a的計算值。在此，穩定性的評價有三個等級，伺服無法進行時為不可，可以進行但低于1分鐘 就中斷時為可以，穩定一分鐘以上時為良好。根據該結果可知，為了特別大地發揮本實施方 式的效果，出射面的直徑Do為了實現穩定的伺服，在G = A /4時優選為Mm以上，在G =入/2時更優選為25iim以上。其中，若考慮SIL的加工和光軸調整的容限士5iim，則SIL 的底面的直徑D的適合的范圍比Do大lOiim，優選為17 iim以上，更優選為35iim以上。關于間隙G，從避免碰撞的關點出發，當然是大的一方為宜，優選的近場效果開始 呈現的入/2，但如前述，為了得到充分的光學增益，也有需要減小至X/4左右的情況。關于間隙G為入/2的情況和為入/4的情況，若計算用于避免碰撞的0的必要條 件，則G=入/2 時，3 < arcsin (入/D)，G=入/4 時，3 < arcsin (入/2D)。對于光記錄介質以外的元件可以比較容易地進行傾斜的調整，但即使傾斜實質上 被調整為0，光記錄介質的表面的傾斜度e也需要滿足以下的條件。在此，e為相對于以 光記錄介質的旋轉軸為法線之平面的傾斜度。G =入/2 時，0 < arcsin (入/D)，G =入/4 時，0 < arcsin (入/2D)。如果在預先已知光記錄介質的表面的傾斜度e滿足該條件區域實施本實施方式 的記錄再生方法，則具有能夠極力降低碰撞的可能性的效果。在此，對于滿足這些條件的光記錄介質、本實施方式的光再生記錄方法和裝置的 實現性進行補充。雖然詳情后述，但本實施方式中使用的光記錄介質的試制后的結果，如果 作為e為0.2度左右，則可以充分穩定地進行制造。在該值得以允許用的D通過使用圖6 加以估算之際，可知在G= X/2時，D為lOOym以下即可。另外可知，進一步能夠使傾斜 伺服穩定化的G= X/4時，D大約為60i!m以下即可。如前述可知，用于使傾斜伺服的光 學增益充分增大的條件為，D在17 y m以上，更優選為35 y m以上，因此可知整體上條件充 分成立。若對以上內容進行歸納，就D、Do的大小來說，為了特別大地獲得本實施方式的效 果，D的大小優選為17iim以上，lOOiim以下，特別優選為35 y m以上，60 y m以下。關于Do 根據D來決定其上限，若考慮SIL的加工和光軸調整的容限士5 y m，則優選為7 u m以上， 90 iim以下，特別優選為25iim以上，50iim以下。還有，關于D、Do，即使在這些范圍以外， 即使本實施方式的效果變小，也不會完全沒有效果。其次，對于有關“狀態A”的第二條件進行說明。首先，為了使焦點位置位于比SIL 的底面更靠光記錄介質側，就需要正確地把握焦點位置。作為最簡易的方法，是在記錄再生 裝置的制造時預先使之存儲焦點位置而在記錄再生時再讀取的方法。但是，還要考慮到出 于某種原因而導致記錄再生時和制造時焦點位置發生偏移的情況。優選對于這種情況進行 防備，定期地在創造“狀態A”的過程中，使焦點位置通過SIL的底面，將這時得到的聚焦信 號的S形曲線檢測出，且在制造時有偏移則進行調整。另外，運用該方法時，即使預先不存 儲焦點位置，也可以根據S形曲線檢測的條件，計算其后應該移動的焦點位置而加以實行。接下來，對于焦點位置應該位于何處進行說明。從傾斜伺服的穩定性的方面考慮，焦點位置的偏移量越大越優選，如果出射面的 直徑Do在前述的合適的范圍，則能夠特別高效地發揮本實施方式的效果。另一方面，從傾 斜伺服穩定化后的便利性的觀點出發，如果焦點位置以如下方式設定，則能夠得到本實施 方式的新的效果。
焦點位置的偏移量盡可能大時，焦點位置被移動到最接近于在最深層所配置的信 號層(圖4(a)、(b)中為第一信號層，圖4(c)、圖4(d)中為第四信號層)的地方。這種情 況下，就光記錄介質而言，本實施方式的光記錄再生裝置可以合焦于全部的信號層，信號層 是一個也可，是多個也可。這時，本實施方式的光記錄再生裝置預先存儲有從單側可合焦的 信號層內的、在合焦于最深層的信號層時的聚焦伺服的初始條件，并使用該條件。由此所具 有的效果是，在傾斜伺服開始后，如果將間隙調整到記錄再生狀態的量，則能夠迅速地開始 聚焦伺服。另一方面，在使用具有多個信號層的光記錄介質之際，使上述焦點位置調節到最 接近于從單側可合焦的信號層內的、被配置在最淺層的信號層(圖4的全部的情況的第一 信號層)的地方，這樣的方法也有優點。這種方法具有的效果是，例如，在存儲有光信息記 錄介質的類別、推薦的使用方法、數據的配置等的管理信息的管理區域被配置在最淺層的 信號層等情況下，光記錄再生裝置最初訪問最淺層的信號層時，可縮短訪問所需要的時間。 在最初合焦于最淺層的信號層的方法中，至最初的合焦為止，應該計數的聚焦信號的SB 的數目成為最小，因此也有不容易發生計數錯誤這樣的優點。這時，本實施方式的光記錄再 生裝置預先存儲有在合焦于最淺層的信號層時的聚集伺服的初始條件，并使用該條件。由 此所具有的效果是，在傾斜伺服開始后，如果將間隙調整到記錄再生狀態的量，則能夠迅速 開始聚焦伺服。還有，與“狀態A”沒有直接關系，但在使用具有多個信號層的光記錄介質時，根據 距所合焦的信號層的表面的距離，傾斜伺服的光學增益改變。因此，若按照與之相抵消的方 式變更傾斜伺服回路的電路增益，則具能夠使傾斜伺服穩定化的效果。這時，越是合焦于更 深層的信號層，光學增益就越大，因此優選降低回路增益。以上，對于本實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置進行了詳述。〈第一實施方式的效果〉根據本實施方式的光記錄再生方法和裝置，不用使用多個光源，既具有簡易的結 構，又能夠避免在傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質碰撞。另外，能夠縮短對具有多個信號 層的光記錄介質上的信息的訪問時間。〈第二實施方式〉〈光記錄介質〉以下，對于本發明的第二實施方式的光記錄介質進行說明。上述的第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置，針對可以由SIL光學 系統進行記錄再生的光記錄介質全面具有重大的效果。但是，本實施方式的光記錄介質至 少一并具有以下的兩個特征，從而能夠更適用于第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄 再生裝置。第一，在光記錄再生側的距出射面的距離與“狀態A”下合適的焦點位置的偏移量 A實質上一致的位置，至少具有一個信號層。由此，在本實施方式的方法的“狀態A”下，能 夠使焦點位置的偏移量A與該信號層的深度相符后，使傾斜伺服穩定地開始。此外這種情 況下，只是將間隙變更為記錄再生狀態的量，就能夠將焦點位置以實質上與信號層同等的 深度配置，因此能夠迅速地開始聚焦伺服。其次，對于信號層應該配置的深度進行說明。如前述，本實施方式的記錄再生方法和裝置的效果與Do的范圍有著很大的關系，但這時的焦點位置的偏移量A隨著物鏡的孔徑 角a而變化。在此，兼顧到制造上的難度和可達成的記錄密度，a在50度 75度之間進 行設計是切實可行的。圖8是在a為50度、60度、75度時的出射面的直徑Do與焦點位置的偏移量A的 關系之計算結果的圖。由結果可知，為了特別大地發揮第一實施方式的記錄再生方法和裝 置的效果，偏移量A優選為0. 9 ii m以上、38 u m以下，更優選為3. 3 y m以上、21 y m以下。由此可見，本實施方式的光記錄介質，在距出射面的距離為0.9 iim以上38 iim以 下、更優選3. 3 y m以上21 y m以下的位置，至少具有一個信號層。由此具有的效果是，可以 迅速地開始聚焦伺服，而使對光記錄介質的信息進行訪問的時間縮短。即便信號層的位置 稍稍脫離上述的范圍時，本實施方式的效果也不會完全喪失。第二，本實施方式的光記錄介質中，表面的傾斜度e滿足e <arcsin(A/D)的 引入區域，按照遍布一周并在半徑方向具有20 ym以上的寬度的方式形成。由此，在“狀態 A”下，即使接近SIL直至間隙達到入/2，也能夠將碰撞的可能性保持得非常地小。在此，引 入區域遍布一周并在半徑方向具有20 ym以上的寬度，則光記錄再生裝置可以容易地訪問 引入區域，而不用對光記錄介質的信息進行訪問。還有，如果以滿足9 <arcsin(A/2D) 的方式形成，則即使接近SIL直至間隙達到\ /4，也能夠將碰撞的可能性保持得非常地小， 因此更為優選。還有，所謂引入區域，是指在光記錄介質中進行焦點引入的區域。在本實施方式 中，例如也可以是記錄再生裝置最初訪問的、存儲有管理信息的管理區域。具有上述的特征的本實施方式的光記錄介質，還具有以下的特征，從而進一步發 揮效果。本實施方式的光記錄介質，在位于信號層的引入區域的深層的區域具有識別區 域，該識別區域記錄有可以對該信號層進行識別的標識符。由此，焦點在位于該信號層或其 鄰域時，就可以識別該信號層。圖9(a)和圖9(b)中，使用本實施方式的光記錄介質的截面的示例，表示引入區域 與識別區域的位置關系的一例。識別區域其形成方式為，在光記錄介質的半徑方向的寬度 上，與引入區域實質上一致或比引入區域大。由此，如果在引入區域中有焦點引入，則能夠 確實地讀取識別區域的信息。還有，標識符優選作為凹點序列或蛇行(wobbling)溝槽等的形狀被記錄，使其再 生信號的S/N比主數據的再生信號的S/N比大，使之在聚焦伺服未驅動的狀態下也可被預 先讀取即可。例如，如果使凹點序列或蛇行溝槽的基本周期為主數據的記錄所使用的凹點 或標記之中最短的長度的10倍以上，則能夠比較容易地讀取。在此，所謂主數據是用戶可以利用的信息，占光記錄介質的存儲容量的大部分。還有，識別區域不在全部的信號層上形成也可，例如還有的利用法是，只形成于最 深層的信號層上，讀取該標識符時，焦點偏移不再增大。另外，本實施方式的光記錄媒體，在位于信號層的引入區域的深層的區域設置管 理區域也可。在此，所謂管理區域，是存儲所推薦的使用方法、數據的配置等的管理信息的區 域。由此，在引入區域聚焦伺服驅動后，不用在半徑方向移動，或者以最小限度的移動量就
14可以迅速地訪問管理信息。引入區域和管理區域的半徑方向的位置關系，可以與引入區域 和識別區域的位置關系一樣。還有，管理區域不需要在全部的層上配置。另外，管理區域因為以下幾點而優選配置在最初應該合焦的信號層上。如果將管 理區域配置在最深層的信號層上，則具有的優點是，在“狀態A”下的焦點位置的偏移加大 后，容易縮短訪問時間。另一方面，如果配置在最淺層的信號層上，則至合焦為止，應該計數 的聚焦信號的S形的數目成為最小，因此也有不容易發生計數錯誤這樣的優點。以下，表示本實施方式的光記錄介質的制造方法的示例。圖10(a)和圖10(b)是表示呈有中心孔的圓盤形狀的本實施方式的光信息記錄介 質的示例。基板1001能夠使用各種玻璃、金屬、硅、聚碳酸脂、烯烴和PMMA等可形成平面的 各種材料。但是，根據后述的理由，基板1001與中間層1002或保護層1003的折射率的差 越大越為優選。在此，在SIL用的光記錄介質中，保護層或中間層的折射率高的一方容易提高記 錄密度。因此，為了使保護層或中間層與基板的折射率差加大，基板優選使用折射率比較低 的材料。另外，從制造成本的觀點出發，優選塑料材料。根據以上的觀點，例如在基板1001中特別適合使用聚碳酸酯、烯烴和PMMA等。在 該基板上，以注塑成型或熱轉印等方法形成凹凸圖案，在其上使用濺射、蒸鍍或旋涂等方法 形成一層以上的記錄材料，形成第二信號層1004。還有，制作再生專用的光記錄介質時，替 代記錄材料只形成反射材料也可。接著，說明中間層1002的形成方法。首先，以旋涂法、絲網印刷或噴墨印刷等方法，涂布構成中間層的液體的樹脂。在 SIL用的光記錄介質中，與DVD和藍光光盤等現有的光記錄介質相比，物鏡的NA要大得多， 焦深變淺，并且需要穩定地保持為現有技術的數萬分之一、即數十nm左右的非常小的間 隙。因此，就必須使中間層和后述的保護層等的厚度精度非常高，而通過液體的樹脂的涂布 不易實現這一精度。特別存在的課題是，若同一半徑的一周內的厚度變動大，則穩定的記錄 再生將非常困難。基于減小一周內的厚度變動這一觀點，在前面列舉的涂布方法之中，旋涂 法最為適合，因此優選使用該方法。然而在旋涂法中，可知若涂布厚度為10 ym以下，則會發生以下所述的全新課題。在旋涂布中，由于是以離心力使樹脂延伸，所以內周部分的涂布厚度有變薄的傾 向。特別是像光盤這樣有中心孔的形狀的情況下，因為不能直接在中心涂布，所以該傾向 顯著，達成需要的厚度分布非常困難。作為其對策，提出并得到實用化的方法有，使用如圖 11 (a)所示的帽體1101或圖11(b)所示的凸起部1102等來堵住中心孔，從接近中心軸的位 置滴下樹脂。可是，若涂布厚度為10 iim以下，特別是在5 iim以下，則帽體端面1103和凸起 部端面1104的一點點的起伏都會致使涂布時的樹脂的流動受到非常大的影響，可知有圖 11(c)所示的這些以端面為起點的放射狀的厚度變動會大量發生。為了解決這一課題，本實 施方式的光記錄介質通過以下的方法制成。首先，如圖12(a)所示，在基板的內周部將平緩的凹坑1201環狀地制作，成為可蓄 積樹脂的構造。利用該構造，即使沒有帽體和凸起部，內周部分的涂布厚度也難以變薄。凹 坑的深度1205為期望 布厚度的30倍以上時效果大。另外，需要在樹脂滴下后至延伸開
15始為止之間樹脂擴展的區域整體、傾斜度連續變化。若任何一處存在不連續的傾斜度的變 化，則都會發生與在帽體和凸起部的端面發生的同樣的放射狀的厚度分布。至少需要使凹 坑的外端1202部分的傾斜度連續地變化，在凹坑的內部、凹坑的內端1203等未被樹脂覆蓋 的部分，有傾斜度不連續變化的部分也可。由此，涂布的均一性比現有的方法有所提高。可是，在該方法中，雖然半徑方向的厚度變動有所改善，但是周向的厚度變動卻超 過了 lOOnm。這在藍光光盤等現有的利用遠場光學系統的光記錄介質中雖然不構成問題， 但對于SIL用的光記錄介質來說卻是重大的課題。對于該周內厚度變動進行調查的結果判 明，圖12(b)所示的樹脂的滴下區域的內端部1204的形狀會產生很大的影響。因此，如圖13(a)所示，使用在比凹坑1201更靠近中心側形成有同心圓狀的樹脂 封擋1301的基板進行涂布。如圖13(b)所示，使樹脂的滴下區域的內周端與樹脂封擋外端 1302成為同心圓狀之結果，即使進行平均3. 0 y m的涂布時，也能夠將周內的厚度變動急劇 減小到20nm以下。另外，如圖13 (a)所示，通過從樹脂封擋外端向內周側隆起的狀態下滴下 樹脂，對于半徑方向的厚度分布來說，可改善內周部變薄的傾向。作為樹脂封擋的形狀，只 要位于比凹坑更靠中心側，傾斜度不連續地變化即可。另外，如圖14(a)所示，從凹坑向樹 脂封擋的傾斜度的變化、優選為45度以上，更優選為90度以上。此外，為了積極地利用樹 脂向內周的隆起，樹脂封擋內端與樹脂外端的距離優選相距50 y m以上，更優選為100 u m 以上。還有，這些不是必要的條件。作為本實施方式的樹脂封擋的示例，如圖14(b)所示形成為凸狀也可，如圖14(c) 所示形成為階梯狀也可，如圖14(d)、圖14(e)所示，比樹脂封擋內端1303更靠內周側的 基板的高度、與比凹坑的外端1202更靠外周側的基板的高度有所不同也可。另外，如圖 14(f)，在凹坑的內端傾斜度不連續、、為45度以上時，實質上凹坑內端與樹脂封擋外端 1302相同，也能夠得到本實施方式的效果。還有，本實施方式的光記錄介質的制造工序中的 樹脂封擋的形狀，具有上述的特征即可，而并不受圖中的示例的形狀所限定。另外，上述的 本實施方式的光信息記錄介質，不論中間層、保護層等的用途和構成材料，在用于形成涂布 厚度為10 ym以下、并要求有高精度的厚度均一性的光透射層的旋涂法中，都具有很大的 效果。另外，凹坑、樹脂封擋即使均單獨使用，也能夠發揮各自固有的效果。在上述光記錄介質的制造方法中，涂布中間層樹脂后，為了轉印凹點和溝槽等凹 凸形狀，而在真空中將轉印基板重疊在中間層樹脂之上。接著，進行UV照射，使中間層樹脂 固化后，剝離轉印基板，完成中間層1002.其后，與第二信號層同樣地形成第一信號層。接 下來，使用上述的涂布方法涂布保護層樹脂，進行UV照射使之固化，從而完成本實施方式 的光記錄介質。還有，在此是舉例說明本實施方式的光記錄介質具有兩個信號層的情況。但是，本 實施方式的光記錄介質并不限制信號層的數量，通過省略或重復上述制造方法的一部分工 序，不論信號層的數量多少都能夠制造。如上述，對于SIL光學系統用的光記錄介質的中間層和保護層，要求有現有技術 所沒有的非常高精度的厚度均一性。因此，為了使用液體樹脂制作光記錄介質，就需要采用 以往所沒有的方法。本實施方式的光記錄介質的凹坑和樹脂封擋，是可以使厚度均一性提 高的例子。
與之相關，在本實施方式的光記錄介質的制造方法中，對于優選中間層和保護層 與基板的折射率差大的方法的理由進行說明。通過中間層和保護層與基板的折射率差的增 大，能夠取得以下所述的制造上的優點。在制造中，為了減小光記錄介質的固體間的厚度變動量，重要的是一邊監控厚度 的變化，一邊適宜對涂布條件進行微調。在現有的光記錄介質的制造中，如圖10(6)中所 示的例子，利用來自信號層的記錄材料和反射材料的反射來對中間層和保護層的厚度進行 測量。因此，在現有的光記錄介質中，能夠測量厚度的只有構成信號層的上方的測量范圍 1005。還有，所謂這里的信號層，是指形成有記錄材料和反射材料的全部區域，并非需要由 凹點、標記或溝槽等記錄信號，或不一定非要可以進行記錄。相對于此，在本實施方式的光記錄介質中，通過保護層和中間層與基板的折射率 之差的增加，而使來自基板與中間層、或基板與保護膜的邊界的反射率提高。由此，在更容 易受到制造工序中發生變動的要素的影響的測量范圍1005以外的區域，可以進行厚度測 量。具體來說，通過監控測量范圍1005以外的區域，相對于現有的光記錄介質的情況來說， 能夠更早期把握在制造工序中產生的厚度變動。其結果是，可以制造品質比以往更穩定的 光記錄介質。此外，測量范圍1005之中厚度變化微小的情況下，則不可能進行厚度變動的檢 測。但是，在本實施方式的光記錄介質中，關于實際使用時成為問題的這種微小厚度變動， 也能夠在測量范圍1005以外存在主要原因的情況等、以該主要原因作為厚度變動而加以 檢測。圖16中，在基板的折射率為1. 5和1. 6時，按折射率差表示來自基板與接觸基板 的中間層的界面的反射率、或來自基板與保護層的界面的反射率。各折射率差是基板與接 觸基板的中間層的折射率差、或基板與保護層的折射率差。如果反射率為1.0%左右，則可 以充分進行光記錄介質的厚度測量。因此由該圖可知，基板的折射率從1. 5到1. 6時，折射 率差為0. 35左右即可。此外，如果為1. 5%左右的反射率，則也可以進行使用拾取頭的各種伺服和信號的 再生。因此，如果按照折射率差為0.45左右的方式選擇各層的材料，則也可以制造在信號 層上不需要使用記錄材料和反射材料的非常廉價的再生專用介質。為了實現上述這樣的折射率差，例如在厚度測量用的光和記錄再生光使用波長 400nm的光時，基板使用折射率1. 5的PMMA和折射率1. 6的聚碳酸酯等即可，中間層和保護 層使用在丙烯酸系UV固化樹脂中添加有氧化鈦或氧化鋯的添加劑的物質即可。作為丙烯酸系UV固化樹脂，折射率超過1. 8的得到實用化，或氧化鈦或氧化鋯的 添加劑其折射率為2. 3以上的被實用化。此外，添加劑的添加量以重量百分比濃度計，能夠 提高到70%左右，因此可以充分實現折射率為2. 1左右的樹脂。如果使這些基板材料和丙 烯酸系UV固化樹脂組合，則可以將兩者的折射率差增加至0. 6左右。還有，本實施方式的光記錄介質能夠實現上述所示的折射率的差即可，使用上述 所列示例以外的材料進行制造，也能夠發揮出其折射率差所對應的效果。以上，說明了本實施方式的光記錄介質的制造方法。最后，表示實際以該方法試制本實施方式的光記錄介質時的表面的傾斜度，對于 該光記錄介質的引入區域的配置進行說明。
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圖15表示，在制作具有兩個信號層的本實施方式的光記錄介質10片時的、光記錄 介質的表面的傾斜度的一周內的最大值。兩個圖形是10片的平均值加上標準偏差o的值、 和10片的平均值加上3o的值。10片的平均值加上o的值統計上包含總生產量的68%。 當然，由10片的試制結果求得的值在統計上不能作為充分的論據，但10片的平均值加上o 的值作為制造的實現性的目標業已充分。由圖15可知以下兩點。第一，10片的平均值加上o的值，在半徑15mm至50mm的寬闊區域中為0.2度以 下。0. 2度如前述，是作為適用于本實施方式的光記錄再生方法的記錄介質所需的充分條 件。因此，由該數值可知，用于本實施方式的光記錄再生方法的光記錄介質可以充分地進行 制造。第二，由于周內最大傾斜度依存于半徑，所以能夠選擇應該配置引入區域的半徑。 當然，引入區域可以配置在周內最大傾斜度小的半徑上。由半徑方向的差很容易看出，若使 用10片的平均值加上3o的值，并考慮傾斜度比較小的半徑，則優選在標準1501以下的， 即半徑16mm以上、43mm以下，更優選在標準1502以下的，即半徑17mm以上、25mm以下。還 有，在此使用的標準本身并不具有特別的意義，而是為了選擇周內最大傾斜度相對小的半 徑范圍而方便使用的標準。另外，本實施方式的引入區域只要是表面的傾斜度比0. 2度小 的地方，則即使配置在上述以外的地方，也能夠得到本實施方式的效果。〈第二實施方式的效果〉根據本實施方式的光記錄介質，能夠避免在傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質碰 撞。另外，通過與第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置一起使用，能夠更確實 地避免SIL與光記錄介質碰撞。產業上的可利用性本發明的光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質，在使用SIL光學 系統的光記錄再生上適用，另外還適用為這種光記錄再生的光記錄介質。
權利要求
一種光記錄再生方法，實施如下伺服，即，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對所述光記錄介質的表面和所述SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對所述光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾斜，其特征在于，所述光記錄再生方法具有如下工序(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使所述焦點從所述SIL的底面向所述光記錄介質側移動的工序；(B)所述傾斜伺服的開始的工序；(C)通過將所述間隙縮小而將所述SIL在既定的位置配置的工序，并且，將所述(A)至(C)的工序順次進行。
2.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在所述(A)的工序中，將所述焦點按照與在所述光記錄介質的可合焦的信號層之中 的、從所述SIL的底面看處于最遠位置的信號層相接近的方式移動。
3.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在所述的(A)的工序中，將所述焦點按照與在所述光記錄介質的可合焦的信號層之中 的、從所述SIL的底面看處于最近位置的信號層相接近的方式移動。
4.根據權利要求3或4所述的光記錄再生方法，其特征在于，所述焦點的移動通過使用聚焦伺服的初始條件來進行。
5.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在具有從同一面側可合焦的多個信號層的所述光記錄介質中，根據所述SIL的底面和 所述光記錄介質的信號層的距離，使所述傾斜伺服的回路增益變化。
6.根據權利要求5所述的光記錄再生方法，其特征在于，所述SIL的底面和所述各信號層的距離越大，所述傾斜伺服的回路增益就越減小。
7.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在所述(A)的工序中，通過使用所述聚焦伺服，檢測所述SIL的底面的位置。
8.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在所述(B)的工序中，將所述光的SIL出射面的直徑Do按照7 μ m以上且90 μ m以下 的方式調整。
9.根據權利要求1所述的光記錄再生方法，其特征在于，在所述(B)的工序中，將所述光的SIL出射面的直徑Do按照25 μ m以上且50 μ m以下 的方式調整。
10.一種光記錄再生裝置，具有如下伺服機構，即，間隙伺服機構，利用由來自SIL底面 的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對所述光記錄介質的表面和所述SIL的底面之間 的間隙進行控制；聚焦伺服機構，對所述光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制； 傾斜伺服機構，利用所述反射光，來控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的 傾斜，其特征在于，所述光記錄再生裝置實施如下步驟(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使所述焦點從 所述SIL的底面向所述光記錄介質側移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將所述SIL在既定位置配置的步驟， 并且，將所述(A) (C)的步驟順次進行。
11.一種程序，使計算機實施如下伺服，即，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光 記錄介質反射所得到的反射光，對所述光記錄介質表面和所述SIL的底面之間的間隙進行 控制；聚焦伺服，對所述光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用 所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾斜，其特征在于，所述程序實施如下步驟(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使所述焦點位 置從所述SIL的底面向所述光記錄介質側移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將所述SIL在既定位置配置的步驟， 并且，使所述(A) (C)的步驟順次實施。
12.一種通過使用SIL光學系統可進行光記錄再生的光記錄介質，其特征在于， 所述光記錄介質具有基板； 保護層；和在所述基板和所述保護層之間形成、并且距所述SIL的底面的距離在0. 9 μ m以上且 38 μ m以下的范圍的至少一個信號層，所述信號層具有滿足如下條件的引入區域在λ設為來自所述SIL的光的波長、D設 為所述SIL的底面的直徑或最長軸徑時，表面的傾斜度θ滿足θ <arcsin(A/D),并且，所述引入區域在所述信號層的一周遍布，且在半徑方向具有20 μ m以上的寬度。
13.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于，所述信號層在距所述SIL的底面的距離為3. 3 μ m以上且21 μ m以下的范圍。
14.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于，所述引入區域的表面的傾斜度θ滿足θ <arcsinU/2D)。
15.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于，所述引入區域被配置于在半徑16mm以上且43mm以下的范圍的位置。
16.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于，所述引入區域被配置于在半徑17mm以上且25mm以下的范圍的位置。
17.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于， 所述基板和所述保護層的折射率的差為0. 35以上。
18.根據權利要求12所述的光記錄介質，其特征在于， 還具有多個所述信號層和在所述信號層間所形成的中間層， 并且，所述基板和所述中間層的折射率的差為0. 35以上。
19.根據權利要求17或18所述的光記錄介質，其特征在于，所述折射率的差為0.45以
全文摘要
若使用將記錄再生光并用于傾斜伺服的SIL光學系統，則在傾斜伺服開始前SIL和光記錄介質碰撞的可能性高。如下可避免該碰撞。光記錄再生方法實施以下伺服，即，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質反射所得到的反射光，對光記錄介質的表面和SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質的表面的傾斜。并且，光記錄再生方法順次進行以下工序。(A)在間隙比進行光記錄再生時要大的狀態下開始間隙伺服，并且使焦點從SIL的底面向光記錄介質側移動的工序；(B)傾斜伺服的開始的工序；(C)通過將間隙縮小而將所述SIL在既定的位置配置的工序。
文檔編號G11B7/085GK101978422SQ20098010958
公開日2011年2月16日 申請日期2009年2月24日 優先權日2008年3月18日
發明者伊藤英一, 尾留川正博 申請人:松下電器產業株式會社