專利名稱：全息信息存儲介質和用于檢查其缺陷的設備和方法
技術領域：
本發明的各方面涉及一種全息信息存儲介質和用于檢查其缺陷的設備和方法。
背景技術：
最近，使用全息攝影術的信息存儲技術引起了廣泛的關注。根據全息信息存儲方 法，信息以光學干涉圖案的形式被存儲在無機晶體或對光敏感的光敏聚合物材料中。使用 兩個相干的激光光束形成所述光學干涉圖案。即，通過在感光的存儲介質上產生化學的或 物理的變化來記錄干涉圖案，所述干涉圖案被形成為具有不同路徑并相互干涉的參考光和 信號光。為了從記錄的干涉圖案再現信息，在存儲介質上記錄的干涉圖案上照射與記錄光 類似的參考光。干涉圖案產生照射的光的衍射，從而存儲信號光并再現所述信息。全息信息存儲技術包括體全息方法，使用體全息攝影術以頁為單位記錄/再現 信息；微全息方法，使用微全息攝影術以單個比特記錄/再現信息。盡管體全息方法在同時 處理大量信息方面有優勢，但由于需要非常精確地調整光學系統，因此對于用于普通消費 者的信息存儲設備來說，體全息方法難以被商業化。在微全息方法中，通過在存儲介質中的平面上移動兩個聚焦的光的焦點允許兩個 聚焦的光在焦點和多個干涉圖案相互干涉來形成好的干涉圖案，從而在記錄層記錄信息。 此外，由于由感光的材料(例如，記錄干涉圖案的光敏聚合物)形成的記錄層具有預定的 厚度，并且記錄信息的信息層在記錄層的深度方向上被形成，因此信息能夠被三維地記錄。 由于信息被記錄在記錄層中的多個信息層中，光束穿過物鏡與存儲介質的表面接觸的區域 (即，斑點區域)根據執行記錄的信息層而變化。當信息層的數量是4、8或16時，光束接觸 存儲介質的表面的最小區域和最大區域之間的差別增加。因此，具有相同大小的灰塵對不 同存儲介質的表面的影響根據信息層的數量而不同，并且不同的程度隨著信息層的數量的 增加而增加。因此，需要去除由灰塵對存儲介質的各個信息層造成的影響(錯誤)的方法。圖1示出微全息方法中使用的存儲介質，在所述微全息方法中信息被記錄在這樣 的存儲介質的多個層中。參照圖1，參考光Ll和信號光L2分別穿過第一物鏡OLl和第二物 鏡0L2，并在全息信息存儲介質10的記錄層12上形成焦點F。由于在形成焦點F的位置參 考光Ll和信號光L2之間的干涉，信息以全息圖13的形式被記錄。通過全息圖13記錄的 信息在距存儲介質10的表面的相同的深度形成信息層IL。隨著參考光Ll和信號光L2的 焦點F的深度的變化，在距存儲介質11的表面的不同深度形成多個信息層IL。從覆蓋記錄 層12的兩個面的第一保護層11的表面和第二保護層19的表面到各個信息層IL的距離被 稱為覆蓋層(cover layer)厚度。在本示例中，由于存儲介質11是兩面照射類型，因此能 夠基于參考光Ll入射的表面或信號光L2入射的表面來定義覆蓋層厚度。
發明內容
技術問題圖2示出根據覆蓋層的不同厚度的記錄層內的各個信息層中的斑點區域。在圖2
4中，基于參考光Ll入射到的表面來定義覆蓋層厚度。參照圖2，覆蓋層厚度對于各個信息層 是不同的，因此對各個信息層IL來說，作為參考光Ll與第一保護層11的表面接觸的區域 的斑點區域是不同的。例如，當第一信息層ILl的第一覆蓋層厚度Tl比第二信息層IL2的 第二覆蓋層厚度T2小時，由具有第一信息層ILl上形成的焦點的參考光Ll形成的第一斑 點區域Sl比由具有第二信息層IL2上形成的焦點的參考光Ll形成的第二斑點區域S2小。當入射/反射光束被缺陷(例如，灰塵、手印、劃痕或氣泡)阻擋時，由于存儲介質 的表面上形成的斑點區域對各個信息層不同，因此，通過存儲介質的表面上產生的缺陷而 反射的光量對各個信息層不同。即，反射的光量與斑點區域和缺陷阻擋入射/反射光的區 域之間的差別成比例。這是因為斑點區域根據各個信息層的覆蓋層的厚度變化，而“缺陷阻 擋入射/反射光的區域”關于存儲介質的表面上的相同缺陷對于各個信息層來說是常量。 通常來說，當反射的光量小于特定水平時，檢測系統檢測錯誤。因此，對于相同大小的缺陷， 在特定層中檢測到錯誤，而在另一層檢測不到錯誤。因此，盡管各個信息層受相同的缺陷的 影響不同，但用于在全息信息存儲介質中檢查缺陷的方法檢查記錄層的全部區域并確定是 否存在缺陷。如上所述，由于記錄層的全部區域被檢查，因此檢查缺陷花費大量時間。此外， 即使在記錄的過程中，也會執行缺陷檢查操作，從而消耗大量時間。技術方案本發明的若干方面和示例實施例提供了一種全息信息存儲介質以及用于檢查缺 陷的設備和方法，所述全息信息存儲介質能夠降低由于多層信息存儲介質中的各個層的不 同信號質量引起的數據的可靠度的惡化或存儲容量的減少。將在接下來的描述中部分闡述本發明的另外的方面和/或優點，還有一部分從描 述是顯而易見的，或可通過本發明的實施而得知。根據本發明的一方面，提供了一種全息信息存儲介質，在所述全息信息存儲介質 中，沿信息層的深度的方向在多層中形成信息層，在所述信息層中使用參考光與信號光之 間的干涉的全息圖記錄信息。缺陷條目被記錄在全息信息存儲介質中，所述缺陷條目包括 參考信息層的缺陷塊的位置信息，以及指示位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向的其他信 息層的塊的缺陷狀態的狀態信息。根據本發明的另一方面，所述其他信息層的塊是這樣的塊，光通過所述塊以記錄/
再現參考信息層。根據本發明的另一方面，所述狀態信息指示位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向 的其他信息層的塊是否是缺陷塊。根據本發明的另一方面，所述狀態信息指示位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向 的其他信息層的塊是否可能是缺陷塊。根據本發明的另一方面，所述狀態信息指示位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向 的其他信息層的所有塊的缺陷狀態。根據本發明的另一方面，用于在具有多個層的全息信息存儲介質中記錄/再現信 息的缺陷檢查設備包括控制部分，確定參考信息層中的塊是否是有缺陷的，并確定位于參 考信息層的缺陷塊的垂直方向的其他信息層的塊是否是有缺陷的。根據本發明的另一方面，用于在包括多個層的全息信息存儲介質上檢查缺陷的方 法包括確定參考信息層中的塊是否是有缺陷的；基于參考信息層的確定，確定位于所述參考信息層的缺陷塊的垂直方向的其他信息層的塊是否是有缺陷的。根據上面的全息信息存儲介質的另一方面，用于檢查缺陷的設備和方法不僅減少 了缺陷檢查的時間，還能夠通過使用缺陷條目防止將信息記錄在缺陷塊或疑似缺陷塊上來 為用戶提供非常可靠的數據。除上述的示例實施例和多個方面之外，通過參考附圖并通過學習下面的描述，更 多的方面和實施例將是清楚的。
通過下面結合附圖對示例實施例和權利要求進行的詳細描述，本發明更好的理解 將變得清楚，所述實施例、所述權利要求書、附圖形成本發明公開的一部分。盡管下面描寫 和示出的公開集中在公開本發明的示例實施例，但應該理解，描寫和示出的公開僅是通過 闡述和示例的方式，但本發明并不限于此。本發明的精神和范圍僅由權利要求的術語所限 制。下面描述附圖的簡要描述，其中圖1示出記錄信息的全息信息存儲介質的光學結構；圖2是根據圖1中覆蓋層厚度的差別說明各個信息層的斑點區域的差別的參考示 圖；圖3是顯示根據本發明的示例實施例的全息信息記錄/再現設備的結構的框圖；圖4示出在根據本發明的示例實施例的全息信息存儲介質中，參考信息層和其他 信息層的缺陷塊之間的關系；圖5示出根據本發明的示例實施例的根據全息信息記錄/再現設備的缺陷條目的 數據結構；圖6示出圖5的狀態信息的詳細數據結構；圖7示出根據本發明的另一示例實施例的根據全息信息記錄/再現設備的缺陷條 目的數據結構；圖8示出圖7的狀態信息的詳細數據結構；圖9是用于說明根據本發明的示例實施例的檢查全息信息存儲介質的缺陷的方 法的過程的流程圖。
具體實施例方式現在將詳細描述本發明的當前實施例，其示例在附圖中被示出，其中，相同的標號 始終是指相同的元件。以下通過參考附圖描述實施例以解釋本發明。圖3是顯示根據本發明的實施例的全息信息記錄/再現設備的結構的框圖。參照 圖3，根據當前實施例的一方面的全息信息記錄/再現設備在全息信息存儲介質100上記 錄信息和/或從全息信息存儲介質100再現信息，并包括記錄/再現部分200和控制部分 300。記錄/再現部分200在控制部分300的控制下在全息信息存儲介質100上記錄信 息并再現記錄的信息。記錄/再現部分200包括光源210、分光器220、第一中繼透鏡235 和第二中繼透鏡250、第一物鏡245和第二物鏡260、用于驅動全息信息存儲介質100的主 軸電機280以及驅動光學系統的驅動單元(未示出)，所述光源210是用于發射光到全息信息存儲介質100并接收反射光的光學系統。光源210發射用于在全息信息存儲介質100上 記錄/再現信息的光。分光器220將從光源210輸出的光分成參考光和信號光，并還將全 息信息存儲介質100反射的光的前進路徑改變為朝向光電檢測器270。第一中繼透鏡235 包括多個鏡片235a和235b，第二中繼透鏡250包括多個鏡片250a和250b。至少一個鏡片 235a或250a在沿光軸的方向移動，第一中繼透鏡235和第二中繼透鏡250控制參考光和信 號光在全息信息存儲介質100上形成焦點的位置。隨著參考光和信號光形成焦點的位置沿 全息信息存儲介質100的深度的方向改變，信息在記錄層的多個信息層中被寫入全息信息 存儲介質100。在圖3中，布置鏡230、240和250來改變光的前進路徑。控制部分300控制用于記錄/再現信息的記錄/再現部分200，并執行記錄信息和 再現信息的信號處理。具體地講，控制部分300控制缺陷的檢查，并還塊控制記錄/再現部 分200來將關于檢查的缺陷塊的缺陷條目記錄在全息信息存儲介質100的區域中。控制部 分300包括主RF放大器310、信號處理器320、主機I/F 330、系統控制器340和伺服系統 350。主機390從用戶接收信息記錄/再現命令，并通過主機I/F 330將接收的命令發送到 記錄/再現部分200。主機I/F 330是用于主機390與記錄/再現部分200之間的交互的 設備。系統控制器340根據來自主機390的記錄/再現命令控制信號處理器320和伺服系 統350。信號處理器320對從主機I/F 330接收的將被記錄在全息信息存儲介質100上的 數據編碼，并在再現期間解碼從全息信息存儲介質100讀取的數據。RF放大器310在記錄 期間，將從信號處理器320輸出的數據轉換為RF信號，并將轉換的信號發送到記錄/再現 部分200，在再現期間，將從全息信息存儲介質100檢測的光信號轉換為RF信號，并將從RF 信號獲得的調制數據提供給信號處理器320。此外，RF放大器310將從RF信號獲得的用于 控制記錄/再現部分200的伺服信號通過系統控制器340提供給伺服系統350。伺服系統 350從系統控制器340接收伺服控制所需的命令，并執行記錄/再現部分200的伺服控制。具體地講，系統控制器340包括缺陷管理部分342和存儲部分344來執行缺陷檢 查。例如，在對全息信息存儲介質100的參考信息層的缺陷檢查完成之后，系統控制器340 的缺陷管理部分342從檢查找到的缺陷塊來確定其他信息層中是否存在缺陷，產生缺陷信 息，并將產生的缺陷信息存儲在存儲部分344中。在將信息記錄在其他信息層上和/或從 其他信息層再現信息時，可使用所述缺陷信息。此外，系統控制器340控制記錄/再現部分 200來將缺陷條目記錄在全息信息存儲介質100的預定區域，所述缺陷條目包括存儲部分 344中存儲的參考信息層的缺陷塊位置信息，以及基于參考信息層的缺陷塊位置信息所確 定的關于其他信息層中的缺陷塊或疑似缺陷塊的信息。將在稍后詳細地描述所述缺陷檢查 過程或缺陷條目。圖4示出根據本發明實施例的全息信息存儲介質中的參考信息層和其他信息層 的缺陷塊之間的關系。參照圖4，全息信息存儲介質100包括由使用全息攝影術能夠記錄信 息的感光性材料形成的記錄層120以及覆蓋記錄層120的兩個表面的第一保護層110和第 二保護層190。全息信息存儲介質100是在記錄期間，從第一保護層110和第二保護層190 的兩層輸入參考光Ll和信號光L2的雙面入射類型全息信息存儲介質，以及在記錄期間，從 第一保護層110和第二保護層190中的僅一層輸入參考光Ll和信號光L2的單面入射類型 全息信息存儲介質。在雙面入射類型全息信息存儲介質中，所述第一保護層110和所述第 二保護層190均由透明介質形成，并且缺陷因素D可能會在第一保護層110和第二保護層190兩層上出現。在圖4中，在雙面入射類型的全息信息存儲介質100中，缺陷因素D出現 在第一保護層110。在信號發射類型中，例如，當光通過第一保護層110被輸入時，還能夠在 記錄層120和第二保護層190之間提供反射層(未示出)，并且缺陷因素D可能會出現在第 一保護層110上。根據當前實施例的全息信息存儲介質100能夠通過微全息方法形成，在所述微全 息方法中，通過參考光Ll和信號光L2之間的干涉產生的全息圖包含一比特信息。在所述
微全息方法中，能夠通過形成多個全息圖來在記錄層120上形成多個信息層IL1、IL2.....
ILn0缺陷因素D能夠由全息信息存儲介質100的表面上的灰塵、手印和劃痕造成。對 于用于在多個層中寫入信息的微全息方法的全息信息存儲介質100來說，缺陷因素D會影
響所有信息層IL1、IL2.....ILn。當缺陷因素D出現在第一保護層110上并且用于記錄/
再現的光沿與全息信息存儲介質100的表面垂直的方向照射在缺陷因素D的位置上時，受
缺陷因素D影響的光影響信息層IL1、IL2.....ILn。結果，很可能在位于與第一保護層110
層上缺陷因素D所在的位置垂直的方向的區域中產生缺陷，并且多個信息層的對應位置的 塊BL1、BL2、· · ·、BLn被確定為缺陷塊。在信息層IL1、IL2.....ILn之中最容易受缺陷因素D影響的層被設置為參考信
息層，并且能夠基于所述參考信息層確定其他層的缺陷。在參考光和信號光入射在相同表 面上的單面入射類型全息信息存儲介質中，參考信息層可以是最接近光入射的信息層的入 射表面的一層。此外，在參考光和信號光入射在介質的不同表面上的雙面入射類型全息信 息存儲介質中，參考信息層可以是與介質的兩面中的任何一面最近的層，或者是與任意一 面最近的層。選擇參考信息層是因為參考信息層最容易被缺陷因素D影響。然而，參考信 息層并不限于此。最容易受缺陷因素D影響的層能夠通過多種光學變量(例如，第一保護
層110和第二保護層190的厚度或記錄層120的厚度、信息層IL1、IL2.....ILn之間的間
隔、第一保護層110和第二保護層190的折射率或記錄標記的大小)被不同地設置。在本實施例中，描述了將第一信息層ILl設置為參考信息層的情況。當作為參考 信息層的第一信息層ILl的第一塊BLl被確定為缺陷塊時，位于與第一塊BLl所在位置的
全息信息存儲介質100的表面垂直的方向的其他信息層IL2.....ILn的塊BL2.....BLn被
確定為缺陷塊或被認為是疑似缺陷塊。因為位于與第一塊BLl所在位置的全息信息存儲介
質100的表面垂直的方向的其他信息層IL2.....ILn的塊BL2.....BLn被確定為缺陷塊，
所以可省略或簡化對其他信息層IL2.....ILn的缺陷檢查，從而減少用于缺陷檢查的初始時間。圖5示出根據本發明實施例的根據全息信息記錄/再現設備的缺陷條目的數據結 構。圖6示出圖5的狀態信息的詳細數據結構。全息信息記錄/再現設備檢查全息信息存儲介質100的參考信息層的缺陷，并寫 入關于參考信息層的缺陷信息和關于與此相關的其他信息層的缺陷信息的缺陷列表。缺陷 列表被記錄在全息信息存儲介質100的預定區域中提供的缺陷管理區域中，并防止由于缺 陷引起的記錄/再現錯誤。缺陷列表可包括多個缺陷條目，圖5顯示作為第i條目的缺陷 條目#i 410。缺陷條目射410包括狀態信息#1410和缺陷塊位置信息420。缺陷塊位置 信息420是關于缺陷塊(例如，從參考信息層檢查的圖4的BLl)的位置的信息。狀態信息
8#1410包含關于位于垂直于全息信息存儲介質100的表面方向上的與對應于的缺陷塊位置 信息420的位置相鄰的其他信息層的塊是否是缺陷塊的信息。在下面的描述中，位于存在 參考信息層的缺陷塊的位置的垂直方向的其他信息層的塊被稱為相關塊。所述相關塊可以 是參考信息層的缺陷塊的記錄/再現光穿過的塊。例如，狀態信息#1410指示除參考信息層以外的其他信息層的所有相關塊是缺陷 塊或者不是缺陷塊。例如，參照圖6，狀態信息“1”指示其他信息層的所有相關塊是缺陷塊， 狀態信息“0”指示其他信息層的所有相關塊不是缺陷塊。從而，由于基于參考信息層的缺 陷信息確定其他信息層的缺陷信息，因此能夠省略對其他信息層的缺陷檢查。作為本實施例的修改示例，例如，狀態信息#1 410能夠指示除參考信息層以外的 其他信息層的所有相關塊是否可能是缺陷塊。例如，在圖6中，狀態信息“1”指示其他信息 層的所有相關塊可能是缺陷塊，狀態信息“0”指示其他信息層的所有相關塊可能不是缺陷 塊或者不存在關于其他信息層的相關塊的缺陷信息。當其他信息層的所有相關塊可能是缺 陷塊時，能夠僅對相關塊執行缺陷檢查。圖7示出根據本發明的另一示例實施例的根據全息信息記錄/再現設備的缺陷條 目的數據結構。圖8示出圖7的狀態信息的詳細數據結構。參照圖7，缺陷條目#i 450包括狀態信息#1460和缺陷塊位置信息470。缺陷塊位 置信息470是關于缺陷塊(例如，從參考信息層檢查的圖4的BLl)的信息。狀態信息#1460
包含關于與缺陷塊位置信息470對應的第一信息層461、第二信息層462.....第η信息層
463中的每一個的缺陷信息。例如，當第一信息層461是參考信息層時，狀態信息#1460包 含第一信息層461中與缺陷塊位置信息470對應的塊的缺陷信息，以及位于作為第二信息 層462至第η信息層463的其他信息層中與缺陷塊位置信息470的垂直方向相鄰的塊(即， 相關塊)的缺陷信息。例如，狀態信息#1460指示其他信息層的相關塊是否是缺陷塊。參照圖8，狀態 信息中存儲的數字行中的數字的數量與信息層的數量對應。在數字行“1000. . . 000”和 "1100. . . 000”中，一比特的數字“1”或“0”包含關于各信息層的對應塊的信息。例如，當狀 態信息是“1000. . . 000”時，分配給關于第一信息層的對應塊的信息的數字“1”指示第一信 息層的對應塊是缺陷塊。分配給關于其他信息層的每一層的對應塊的信息的數字“0”指示 各個塊不是缺陷塊。在另一示例中，當狀態信息是“1111... 111”時，所有信息層的對應塊 都是缺陷塊。作為本實施例的修改示例，例如，狀態信息#1460能夠指示位于與缺陷塊位置信 息470對應的位置的垂直方向上的各個信息層的塊是否可能是缺陷塊。例如，在圖8中，狀 態信息“ 1，，指示對應信息層的相關塊可能是缺陷塊，狀態信息“0”指示對應信息層的相關 塊可能不是缺陷塊或者不存在關于相關塊的缺陷信息。當相關塊可能是缺陷塊時，在記錄 過程中可再次執行缺陷檢查，或者不允許記錄數據。圖9是用于說明根據本發明實施例的檢查全息信息存儲介質的缺陷的方法的過 程的流程圖。參照圖9，當全息信息記錄/再現設備從主機接收記錄命令時，首先對參考信 息層檢查缺陷(S500)。當在參考信息層中未找到缺陷時，完成缺陷檢查。當在參考信息層 中找到缺陷時，在找到缺陷的位置的塊(記錄/再現單元)被確定為缺陷塊(S510)。當如 上述的在參考信息層找到缺陷塊時，位于參考信息層的缺陷塊的位置的垂直方向的其他信息層的相關塊被確定為缺陷塊或疑似缺陷塊(S520)。然后，寫入包括找到缺陷的參考信息 層的塊的位置信息和關于其他信息層的相關塊的狀態信息的缺陷條目(S530)。通過執行如 上面的缺陷檢查，全息信息記錄/再現設備能夠更快速地轉到隨后的記錄/再現操作。所述缺陷檢查方法可被實施為計算機可讀記錄介質上的計算機可讀代碼。所述計 算機可讀記錄介質可以是任何可存儲其后可以被計算機系統讀取的數據的數據存儲設備。 所述計算機可讀記錄介質的示例包括只讀存儲器(ROM)、隨機存取存儲器(RAM)、CD-ROM、 磁帶、軟盤、光學數據存儲裝置和載波(例如，通過互聯網的數據傳輸)。所述計算機可讀記 錄介質也可以被分布在聯網的計算機系統上，從而所述計算機可讀代碼以分布式方式被存 儲和執行。此外，完成本發明一個方面的功能程序、代碼和代碼段能夠容易地被本發明所屬 領域的程序員解釋。盡管顯示和描述了本發明的示例實施例，但是本領域的技術人員以及技術開發人 員應該理解，在不脫離本發明的真實范圍的情況下，可以進行各種改變和修改，并且可用等 同物代替其元件。在不脫離本發明的范圍的情況下，可以進行多種修改、改變、添加和子組 合以適應本發明的教導。因此，應該注意，本發明并不限于公開的多種示例實施例，本發明 包括落入權利要求范圍內的所有實施例。
權利要求
一種全息信息存儲介質，包括多個信息層，以通過參考光和信號光之間的干涉產生的全息圖的形式記錄信息，其中，缺陷條目被記錄在全息信息存儲介質上，所述缺陷條目包括參考信息層的缺陷塊的位置信息和指示位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向的其他信息層的塊的缺陷狀態的狀態信息。
2.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，位于與參考信息層的缺陷塊相鄰和 垂直的位置的其他信息層的塊是用于記錄/再現參考信息層的缺陷塊的光穿過的塊。
3.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與參考信息 層的缺陷塊相鄰和垂直的位置的其他信息層的塊是否是缺陷塊。
4.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與參考信息 層的缺陷塊相鄰和垂直的位置的其他信息層的塊是否可能是缺陷塊。
5.如權利要求3所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與參考信息 層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的所有塊的缺陷狀態。
6.如權利要求3所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與參考信息 層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的每一塊的缺陷狀態。
7.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，在參考光和信號光入射在相同表面 上的單面入射類型全息信息存儲介質中，參考信息層是最接近于光入射到的入射表面的信 息層‘ ο
8.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，在參考光和信號光入射在不同表面 上的雙面入射類型全息信息存儲介質中，參考信息層是最接近于全息信息存儲介質的兩面 之一的信息層之一，或者參考信息層是分別最接近于全息信息存儲介質的兩面的兩層。
9.如權利要求1所述的全息信息存儲介質，其中，參考信息層是最可能受缺陷因素影 響的信息層之一。
10.一種用于在具有多個信息層的全息信息存儲介質中記錄信息和/或從具有多個信 息層的全息信息存儲介質再現信息的缺陷檢查設備，所述缺陷檢查設備包括控制部分，確定參考信息層中的塊是否是有缺陷的，以及位于參考信息層的缺陷塊的 垂直方向的其他信息層中的塊是否是有缺陷的。
11.如權利要求10所述的缺陷檢查設備，其中，基于參考信息層的缺陷塊檢查，控制部 分確定位于與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊是否是缺陷塊。
12.如權利要求10所述的缺陷檢查設備，其中，基于參考信息層的缺陷塊檢查，控制部 分確定位于與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊是否是疑似缺陷塊。
13.如權利要求10所述的缺陷檢查設備，其中，控制部分控制記錄/再現部分來將缺陷 條目記錄在全息信息存儲介質的區域中，所述缺陷條目包括參考信息層的缺陷塊的位置信 息字段和指示位于與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊的缺陷狀態的狀 態信息字段。
14.如權利要求13所述的缺陷檢查設備，其中，控制部分控制記錄/再現部分來將位于 與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的所有塊的缺陷狀態記錄在狀態信息字 段中。
15.如權利要求13所述的缺陷檢查設備，其中，控制部分控制記錄/再現部分來將位于 與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的每一層的缺陷狀態記錄在狀態信息字段中。
16.一種用于在包括多個信息層的全息信息存儲介質中檢查缺陷的方法，所述方法包括確定參考信息層中的塊是否是有缺陷的；基于參考信息層的確定，確定位于參考信息層的缺陷塊的垂直方向的其他信息層上的 塊是否是有缺陷的。
17.如權利要求16所述的方法，其中，位于與缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊是 用于記錄/再現參考信息層的缺陷塊的光穿過的塊。
18.如權利要求16所述的方法，其中，在確定其他信息層的塊的缺陷的步驟中，基于從 參考信息層檢查的缺陷塊，位于與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊被確 定為缺陷塊。
19.如權利要求16所述的方法，其中，在確定其他信息層的塊的步驟中，基于從參考信 息層檢查的缺陷塊，位于與參考信息層的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊被確定為疑 似缺陷塊。
20.如權利要求16所述的方法，還包括將缺陷條目記錄在全息信息存儲介質的區域 中，所述缺陷條目包括參考信息層的缺陷塊的位置信息字段和指示位于與缺陷塊垂直的位 置的其他信息層的塊的缺陷狀態的狀態信息字段。
21.如權利要求16所述的方法，其中，在參考光和信號光入射在相同表面上的單面入 射類型全息信息存儲介質中，參考信息層是最接近于光入射到的入射表面的信息層之一。
22.如權利要求16所述的方法，其中，在參考光和信號光入射在不同表面上的雙面入 射類型全息信息存儲介質中，參考信息層是最接近于全息信息存儲介質的兩面之一的信息 層之一，或者參考信息層包括分別最接近于全息信息存儲介質的兩面的兩層。
23.如權利要求16所述的方法，其中，參考信息層是最可能受缺陷因素影響的信息層 之一。
24.一種全息信息存儲介質，包括第一保護層和第二保護層；多個信息層，被布置在第一保護層和第二保護層之間，所述第一保護層和第二保護層 包括通過在多個信息層上參考光和信號光之間的干涉圖案產生的全息圖；第一保護層和第二保護層，覆蓋多個信息層，其中，缺陷條目被記錄在全息信息存儲介 質上，所述缺陷條目包括位于多個信息層之一上的缺陷塊的位置信息，以及指示位于與所 述多個信息層之一的缺陷塊垂直的位置的其他信息層的塊的缺陷狀態的狀態信息。
25.如權利要求24所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與所述缺 陷塊相鄰和垂直的位置的信息層中的另一信息層的塊是否是缺陷塊。
26.如權利要求24所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與所述缺 陷塊垂直的位置的其他信息層的所有塊的缺陷狀態。
27.如權利要求24所述的全息信息存儲介質，其中，所述狀態信息指示位于與所述缺 陷塊相鄰和垂直的位置的信息層中的另一信息層的塊的是否可能是缺陷塊。
全文摘要
在全息信息存儲介質上記錄缺陷條目，所述缺陷條目包括參考信息層的缺陷塊的位置信息和狀態信息，所述狀態信息指示位于與參考信息層的缺陷塊的位置的垂直方向相鄰的其他信息層的塊的缺陷狀態。一種檢查缺陷的方法，所述方法包括確定參考信息層中的塊是否是有缺陷的，并基于參考信息層的缺陷確定的結果，確定位于與參考信息層的缺陷塊的位置的垂直方向相鄰的其他信息層的塊是否是有缺陷的。
文檔編號G11B7/007GK101911190SQ200880124485
公開日2010年12月8日 申請日期2008年9月11日 優先權日2008年1月10日
發明者鄭澤成, 黃盛凞 申請人:三星電子株式會社