專利名稱：碟片原版的制作方法
技術領域：
本發明涉及 一 種碟片原版，特別是涉及 一 種用以制備碟片模版
(stamper)的碟片原版。
背景技術：
隨著資訊與多媒體世代的來臨，電子產品對儲存介質的儲存密度及容 量的需求也不斷地增加。現有習知的儲存介質主要分成兩大類磁記錄介 質及光記錄介質。目前市場上是以光記錄介質占優勢，其包含只讀型光盤 (CD-R0M)、可寫一次型光盤(CD-R)、可重復讀寫型光盤(CD-RW)、只讀型 數字視頻光盤(DVD-ROM )、可寫一次型數字視頻光盤(DVD-R )、可重復讀 寫型數字視頻光盤(DVD-RW， DVD+RW)及動態隨機存儲數字視頻光盤 (DVD-RAM)等。
光記錄介質生產過程中， 一般都是利用具有溝槽或凹洞的碟片模版， 配合射出成形的方法，以制作與碟片模版具有相對應圖案的基板，再利用 此具有預溝槽的基板(pre-grooved substrate)來進行后續制程以大量生 產光記錄介質。
為獲得碟片模版，則需先制作一碟片原版。如圖l所示，一種現有習知 碟片原版制作過程包含步驟Sll至步驟S13。請同時參照圖2A至圖2D，方 便說明現有習知碟片原版的制作過程。
請參照圖1及圖2A所示，步驟Sll是涂布一光阻層13于一基板11上， 為了加強光阻層13與基板11之間的結合力，可先涂布一接著劑(primer) 12于基板11上再涂布光阻層13。而接著劑12可為一介面活化劑 (surfactant)或一粘著促進齊寸(adhesion promoter )。
請參照圖1、圖2B及圖2C所示，步驟S12是激光刻版(Laser Beam Recording, LBR )光阻層13并進行顯影步驟，藉由顯影把刻版的訊號顯像 出來，形成一圖案化光阻層13a于基板ll上。
請參照圖1及圖2D所示，步驟SI3是在顯影完成的圖案化光阻層13a 上'戚鍍一薄金屬層15。其中，金屬層的材質可為鎳釩合金，即完成碟片原 版的制作。
完成碟片原版后，可利用金屬層15作為后續電鑄(electroforming) 步驟的導電層。電鑄步驟是將金屬層加厚再將金屬層與碟片原版剝離，則 此金屬層即為父模版(father stamper )。
藉由父模版并重復電鑄及剝離步驟，即可制成復數個母模版(motherstamper),而每個母模版可繼續重復電鑄及剝離步驟，以制成復數個子模 版(son stamper )。父才莫版或子才莫版可用于大量生產光記錄介質，以射出 成形具有溝槽(groove)的碟片基板。
然而，現有習知技術的碟片原版利用圖案化光阻層13a來形成溝槽的 形狀，由于結構強度不夠，因此無法進行多次父模版的電鑄分離制程，溝 槽寬度亦不易精準控制。另外，為符合特定規格，以增進碟片與光盤機的 相容性，碟片原版需具有一資料區(data area)及一預錄區(embossed area),由于預錄區用于記錄燒錄策略或制造廠商資訊，因此資料區及預錄 區的溝槽需具有不同深度，但以上述制作方法并不易達成。
因此，如何提供一種碟片原版，能夠解決碟片原版無法重復使用，形 成不同溝槽深度，且能提高溝槽寬度控制的穩定性，已成為重要課題之一。
由此可見，上述現有的碟片原版在結構與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關廠商莫不 費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設計被發展完成，而 一般產品又沒有適切結構能夠解決上述問題，此顯然是相關業者急欲解決 的問題。因此如何能創設一種新型的碟片原版，實屬當前重要研發課題之 一，亦成為當前業界極需改進的目標。
有鑒于上述現有的碟片原版存在的缺陷，本發明人基于從事此類產品 設計制造多年豐富的實務經驗及專業知識，并配合學理的運用，積極加以研 究創新，以期創設一種新型的碟片原版，能夠改進一般現有的碟片原版，使 其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，并經過反復試作樣品及改進后， 終于創設出確具實用價值的本發明。
發明內容
本發明的目的在于，克服現有的碟片原版存在的缺陷，而提供一種新 型的碟片原版，所要解決的技術問題是使其結構強度高并具有不同于溝槽 深度的預錄凹槽，且圖案化光阻層的寬度控制較容易且穩定，非常適于實 用。
本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。為達 到上述目的，依據本發明的碟片原版包含 一基板，具有一預錄區及一資料 區，該預錄區具有至少一預錄凹槽； 一圖案化光阻層，設置于該資料區；以 及一金屬層，覆蓋該圖案化光阻層及該預錄凹槽。
前述的碟片原版，其中所述的預錄凹槽的深度大于該圖案化光阻層的 厚度。
前述的碟片原版，其中所述的預錄凹槽及該圖案化光阻層藉由反應性 離子蝕刻方式形成。前述的碟片原版，其中所述的預錄凹槽呈u型。 前述的碟片原版，其中所述的圖案化光阻層的厚度為內厚外薄或內薄 外厚。
前述的碟片原版，其中所述的基板的材質為玻璃、石英或陶瓷材料。 前述的碟片原版，其中所述的陶乾材料為一氧化物、 一氮化物或一碳 化物。
前述的碟片原版，其中更包含 一接著劑，設置于該基板與該圖案化 光阻層之間。
前述的碟片原版，其中所述的金屬層藉由沉積、涂布、印刷或電鍍方 式形成。
前述的碟片原版，其中所述的金屬層的材質為鎳釩合金。 本發明與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。借由上述技術方 案，本發明碟片原版至少具有下列優點及有益效果因依據本發明的一種碟 片原版具有溝槽深度不同于資料區溝槽的預錄凹槽。與現有習知技術相較， 本發明結構強度提高，因此可重復進行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案 化光阻層的溝槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的 技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本發明的上述和 其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附 圖，詳細i兌明如下。
圖1為一種現有習知碟片原版制作過程的流程圖； 圖2為圖1的碟片原版制作過程的示意圖； 圖3為應用于本發明的碟片原版制作過程的流程圖；以及 圖4A至圖4D為本發明較佳實施例的一種碟片原版及其制作過程的示 意圖。
主要元件符號說明
11、21:基板
12、22:接著劑
13、23:光阻層
13a、23a:圖案化光阻層
24:預錄凹槽
15、25:金屬層
A:預錄區
B:資料區S11~S13、 S20 S25:碟片原版制作過程的流程步驟
具體實施例方式
以下將參照相關圖式，說明依據本發明較佳實施例的一種碟片原版，其 中相同的元件將以相同的附圖標記加以說明。
如圖3所示， 一種應用于本發明的碟片原版制作過程包含步驟S21至 步驟S25。請同時參照圖4A至圖4D，方便說明碟片原版的制作過程。
請參照圖3及圖4A所示，步驟S21是于一具有一預錄區A及一資料區 B的基板21上設置一光阻層23。基板21的材質例如為一玻璃、 一石英或 一陶瓷材料，陶瓷材料例如為一氧化物、 一氮化物或一碳化物。依據實際 需求，基板可預先研磨及清洗，使表面平整。
形成光阻層23的方式例如為;^走轉涂布(spin-coating),藉由光阻層 23的厚度可決定資料區的溝槽深度，且厚度設置除了均勻厚度之外，亦可 使厚度不一致，例如為內厚外薄或內薄外厚，用以作出內深外淺或內淺外 深的溝槽。光阻層23的材質例如為聚酰亞胺(polyimide， PI )。
制作過程更可包含一步驟S20，以預先涂布一接著劑22于基板21上， 則光阻層23設置于接著劑22上，接著劑22可為一界面活性劑或是一粘合 促進劑。
請參照圖3及圖4B所示，步驟S2Z是激光刻版并顯影光阻層23。由于 激光刻版制程穩定性較高，因此藉由調整激光刻版制程的參數值來控制溝 槽寬度，其條件為預錄區A需蝕刻至光阻層23底部并呈現一U型，而資 料區B則不需蝕刻至光阻層23底部并呈現一V型。
步驟S23、 S24的主要目的是產生預錄區A與資料區B的深度差。請參 照圖3及圖4C所示，步驟S23是第一反應性離子蝕刻(Reactive Ion Etching, RIE)基板的預錄區A的光阻層，以形成至少一預錄凹槽24。第一 反應性離子蝕刻的反應氣體具有 一含氟氣體，例如三氟曱烷、氟化碳、 C5F10、 C3F8或C2F6。另外，含氟氣體可搭配氬氣(Ar )或氧氣(02 )來 作為反應氣體，以增加蝕刻能量。藉由控制氣體流量、壓力、功率及時間， 即能夠控制形成溝槽的形狀及深度，而精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
步驟S24是第二反應性離子蝕刻基板的資料區B的光阻層，以形成一 圖案化光阻層23a。第二反應性離子蝕刻的反應氣體具有一含氧氣體，例如 氧氣或一氧化碳。進4亍第二反應性離子蝕刻時，其反應氣體只對光阻層23 有反應，因此隨著光阻層23變薄，資料區B的光阻層"的溝槽形狀，可 由V型逐漸變成U型。藉由控制反應氣體蝕刻時間，可決定資料區B所剩 光阻厚度，直至與碟片原版要求的溝槽深度相同。
請參照圖3及圖4D所示，步驟S25設置一金屬層25覆蓋預錄凹槽24及圖案化光阻層23a。當然，金屬層25亦覆蓋基板21不具圖案化光阻層 23a的表面。其中，金屬層25藉由沉積、涂布、印刷或電鍍方式形成，且 其材質可為鎳釩合金。
如圖4D所示，本發明較佳實施例的一種碟片原版包含一基板21、 一圖 案化光阻層23a以及一金屬層25。基板21具有一預錄區A及一資料區B， 預錄區A具有至少一預錄凹槽24。圖案化光阻層23a設置于資料區B，金 屬層25覆蓋圖案化光阻層23a及預錄凹槽24。由于碟片原版及其制作方法 已詳述于上，故不再贅述。
綜上所述，因依據本發明的 一種碟片原版具有溝槽深度不同于資料區 溝槽的預錄凹槽。與現有習知技術相較，本發明結構強度提高，基板不會 有翻痕，因此可重復進行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案化光阻層的溝 槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，并非對本發明作任何形式 上的限制，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發 明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案范圍內，當可利 用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但 凡是未脫離本發明技術方案的內容，依據本發明的技術實質對以上實施例 所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍內。
權利要求
1、一種碟片原版，其特征在于包含一基板，具有一預錄區及一資料區，該預錄區具有至少一預錄凹槽；一圖案化光阻層，設置于該資料區；以及一金屬層，覆蓋該圖案化光阻層及該預錄凹槽。
2、 根據權利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預錄凹槽 的深度大于該圖案化光阻層的厚度。
3、 根據權利要求l所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預錄凹槽 及該圖案化光阻層藉由反應性離子蝕刻方式形成。
4、根據權利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的預錄凹槽 呈U型。
5、 根據權利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的圖案化光 阻層的厚度為內厚外薄或內薄外厚。
6、 根據權利要求l所述的碟片原版，其特征在于其中所述的基板的材 質為玻璃、石英或陶瓷材料。
7、 根據權利要求6所述的碟片原版，其特征在于其中所述的陶瓷材料 為一氧化物、 一氮化物或一碳化物。
8、 根據權利要求l所迷的碟片原版，其特征在于其中更包含 一接著劑，設置于該基板與該圖案化光阻層之間。
9、 根據權利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的金屬層藉 由沉積、涂布、印刷或電鍍方式形成。
10、 根據權利要求1所述的碟片原版，其特征在于其中所述的金屬層 的材質為鎳釩合金。
全文摘要
本發明是有關于一種碟片原版，其包含一基板、一圖案化光阻層以及一金屬層。基板具有一預錄區及一資料區，預錄區具有至少一預錄凹槽，圖案化光阻層設置于資料區，金屬層覆蓋圖案化光阻層及預錄凹槽。因依據本發明的一種碟片原版具有溝槽深度不同于資料區溝槽的預錄凹槽。與現有習知技術相較，本發明結構強度提高，因此可重復進行電鑄及剝離制程，并容易控制圖案化光阻層的溝槽形狀成為U字形，而能精確定義碟片原版的溝槽尺寸。
文檔編號G11B7/26GK101419816SQ200710165319
公開日2009年4月29日 申請日期2007年10月26日 優先權日2007年10月26日
發明者吳志蔚, 林家平, 趙賢文 申請人:精碟科技股份有限公司