磁頭總成和磁帶驅動器系統的制作方法

專利名稱：磁頭總成和磁帶驅動器系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及磁頭結構，更具體地說，本發明涉及一種具有外延支架(outrigger)以便建立磁帶包角(wrap angle)的磁頭結構。
技術背景圖1圖示了根據現有技術的傳統平面重疊的雙向X5U^塊磁頭100。如 圖所示，該磁頭包括一對基部102，每個基部都裝配有模塊104。所U部 通常是粘連在一起的U形陶瓷梁。每個模塊104都包括基板104A和擋板 (closure) 104B，并且讀裝置和寫裝置106位于它們之間。在使用中，磁 帶108以顯示的方式沿著磁帶承載表面109經過模塊104，以便使用讀裝 置和寫裝置106在磁帶108上讀出和寫入數據。通常，在磁帶108和磁帶 承載表面109之間形成部分真空，以保持磁帶108與讀裝置和寫裝置106 非常接近。這種設計的磁頭與兩個公共M有關. 一個^lt包括磁帶包角Oti、 oc。，其在磁帶108與磁帶承栽表面109的上表面所在的平面111之間限定。 應指出的是，磁帶包角0U、 CC。包括內包角OCi，其度數通常與外部或外包 角ct。相似。模塊104的磁帶承載表面109被設置為彼此形成預定角度，以 便在相對邊處實現期望的內包角a"此外，磁帶承載表面長度112被定義 為磁帶承載表面109的邊緣之間的距離(在磁帶移動的方向上)，包角(Xi、 oc。和磁帶承載表面長度112經常被調整，以適合如圖1所示的磁頭的各種 運行方位。圖2A是圖1中的畫團區域的放大視圖。在圖l的磁頭的使用過程中， 通常會出現各種效應。參考圖2A，與使用磁頭100有關的第一個已知效應
是，當磁帶108如圖所示的那樣移it/磁頭時，空氣通ilgjfeL 104A的切邊 204從磁帶108下面切入。磁帶108并沒有被^塊的磁帶承載表面109 上抬起(如直覺所感覺到的那樣)，相反，磁帶108和磁帶承栽表面109 之間的區域中降低的氣壓允許大氣壓強迫使磁帶靠向磁帶承載表面109。為了獲得此期望的效果，包角a。被認真地選取。示意性的包角大約是 0.9。 ±0.2。但M指出的是，任何大于0。的包角都會導致在磁帶108的 與磁帶承載表面109相對的邊上形成凸起(tents) 202。此效應是磁帶剛度 和張力的函數。例如對于給定的幾何包角，較硬的磁帶將具有較大的凸起 202。如果包角ai、 a。太大，則盡管存在真空，磁帶108仍將趨于從磁帶 承載表面109上抬起。包角越大，凸起202就越大，因此允許更多的空氣 ilA^磁帶承栽表面109和磁帶108之間。最后，會克服迫使磁帶108靠向 磁帶承栽表面109的壓力(大氣壓力)，并且磁帶108變得從磁帶承載表 面109上分離。如圖2B所示，如果包角(Xi、 a。太小，則磁帶將趨于沿著磁帶承載表 面109的側邊呈現出磁帶抬起205或巻曲。這是在邊緣處漏進空氣和磁帶 M效應的結果。具體地說，磁帶邊緣趨于從磁帶承栽表面109巻起，這 導致邊緣損失或磁帶邊緣與磁帶承栽表面109之間的空間增大。這是不希 望看到的，因為在承受邊緣損失的系統中，數據不能被可靠地寫入到磁帶 的邊緣部分.此外，磁帶抬起205在點206會導致額外的壓力，這又將引^^磁頭的 額外磨損.進一步增加這種磁帶抬起205的事實是，由于應用在視頻磁帶 領域中的技術的廣泛使用，磁帶108將自然具有上翻的邊緣。通常例如通過滾輪在驅動器中設定外包角a。。偏移軸產生了旋轉的軌 道弧，這允if^確校正包角a。。但是出現了這種情況，即滾輪并不^l^殳定 外包角a。的最期望的選擇。例如，滾輪在驅動器中需要額外的磁頭空間， 尤其是在其可被調節的情況下。此外，滾輪(尤其是可調節的滾輪系統)需要更多的花費將其安裝到驅動器中.該方法的另一個缺陷是M校正不
能獨立于信號讀取就緒來完成。
圖3圖示了一個所提出的解決方案來設定期望的外包角oc。，并且其比 安裝可調節滾輪花費更少。所提出的解決方案包括在模塊104上形成外延 支架150，如圖3所示。該外延支架150設定了外包角cx。。但是，由于磁 頭組件的制造傾向于使用更薄的晶片，模塊104的前面和后面之間的距離 被減小。當使用外延支架150時，需要橫跨外延支架內邊緣152與主要磁 帶承載表面109的外邊緣154之間的最小自由空間來補償前述的磁帶效應， 即形成凸起。具體地說，在外形平坦的磁頭(如圖所示)中，元件106被 放置在^S4！ 104A和擋板104B之間。主要磁帶承栽表面109在磁帶移動方 向上需要足夠長以使得在元件106上不會出現凸起，因為讀/寫功能的可靠 性部分取決于磁頭間隔。
由于主要磁帶承載表面109的必要長度，并結合磁帶的彎曲力矩從外 延支架傳輸出來的事實，主要磁帶承栽表面的外邊緣154與M 104A的 后端158之間的距離變得非常小以至于不能容納外延支架。因此，在其上 形成下一代磁頭中的傳感器的同一基板上不可能再制造外延支架。
減小的跨度帶來的另一個困難是外延支架的高度必需被保持為非常嚴 格的公差以維持合適的包角，因為外延支架和主要磁帶承栽表面之間的距 離越短，意味著偏差的機會就越小。因此本領域中明顯需要一種磁頭總成，其中關鍵的包角在磁頭總成自 身上是固定的。還明顯需要一種在小面積的磁頭總成上提供外延支架的方 法。

發明內容
根據本發明的 一個實施例的磁頭總成包括具有磁帶承栽表面的基板， 以及多個連接到所述基板并朝向所逸磁帶承栽表面布置的元件，所述元件 從包含讀裝置、寫裝置及其組合的組中來選擇。將基部連接到所g板， 該基部具有整體形成的外延支架，該外延支架用于使得經過其的磁帶以相 對于所iH4l的所逸磁帶承載表面的平面的笫一包角來接近所iLS41。
在本發明的一個實施例中，所^J41和外延支架的所逸磁帶承栽表面 位于基本平行的平面，所述平面彼此不重合。例如，所述外延支架磁帶承 載表面的所述平面可以位于所述基板磁帶承栽表面的所述平面下方約0.002毫米至0.014毫米的范圍內。在本發明的另 一個實施例中，所述外延支架磁帶承栽表面與以相對于 所述a磁帶承載表面的期望包角定向的磁帶近似平行。在本發明的另一 個實施例中，所述外延支架磁帶承栽表面與所述a磁帶承栽表面形成夾 角，該夾角大于相對于所述M磁帶承載表面的磁帶的期望包角。在一個特定優選實施例中，所i^l的厚度約小于1毫米并且可以約 小于0.75毫米。所述第一包角的示例性范圍約為0.7°至l.l。。在本發明的一個實施例中，所述外延支架具有磁帶承栽表面，其中在移動的磁帶之間限定了第二包角。例如，所述第二包角可以大約大于0.1 °并大約小于2。。在不同的實施例中，所述外延支架磁帶承載表面可以具有不同的形狀。 在某些實施例中，所述外延支架磁帶承栽表面是平面的。在其他實施例中， 所述外延支架磁帶承栽表面具有圓形部分和平面部分。在其他實施例中， 所述外延支架磁帶承栽表面是圓形的.在特定優選實施例中，磁頭總成還包括具有第二基板磁帶承栽表面 的第二基&,多個連接到所述第二基板并朝向所述笫二基水磁帶承載表面 布置的元件，以及連接到所述第二基&的第二基部，該第二基部具有與其 整體形成的外延支架。所述基fel和第二基板的所逸磁帶承栽表面的所述平 面彼此形成角度，以便設定磁帶相對于所ii!4l和第二J4l的所i^磁帶承 載表面的內包角。所述第一包角可以大約等于所述內包角或與其不同。一種磁帶驅動器系統，包括如上所述的磁頭總成；驅動器機構，用 于使磁性記錄帶通過所述磁頭總成；以及與所逸磁頭總成耦合的控制器。還提供了用于形成這種磁頭總成的方法。
從以下詳細描述，本發明的其他方面和優點將變得顯而易見，當結合 附圖時，以下詳細描述通過實例的方式說明了本發明的原理。


為了更全面地理解本發明的本質和優點以及優選的使用模式，應參考結合附圖閱讀的以下詳細描述現有技術圖l示出了根據現有技術的傳統平面重疊的磁頭；現有技術圖2A是圖1中的圍2A的放大視圖，其示出了與使用圖1的 磁頭關聯的第一和第二已知效應；現有技術圖2B是沿著圖2A中的線2B的截面圖，其示出了與使用圖 1的磁頭關聯的第三已知效應；現有技術圖3是具有整體外延支架的磁頭的側視圖；圖4是根據本發明的一個實施例的具有與基部整體形成的外延支架的 磁頭的側視圖；圖5是才艮據本發明的一個實施例的具有外延支架的磁頭側視圖，該外 延支架具有圓形的磁帶承載表面；圖6是根據本發明的一個實施例的具有外延支架的磁頭的側視圖，該 外延支架具有部分圓形的磁帶承栽表面；圖7是具有外延支架的磁頭的側視圖，該外延支架具有磁帶承栽表面，齊；圖8是具有外延支架的磁頭的側視圖，該外延支架具有磁帶承栽表面， 該磁帶承栽表面相對于所逸磁帶承栽表面形成角度以便產生重疊； 圖9是具有與基部整體形成的外延支架的模塊的側視圖；以及 圖IO是磁帶驅動器系統的示意圖。
具體實施方式
以下描述是目前構想的實施本發明的最佳模式。本說明書意在說明本 發明的總體原理，并非意在限制在此要求保護的發明性概念。進而，在每 個和任一各種可能組合和置換中，此處描述的特定特征可以與其他描述的特征結合使用。在附圖中，相同元件在各個附圖中都標以相同的數字， 下面描述的實施例披露了 一種新型磁頭設計，其在安裝微小磁頭的驅 動器中可以容許較寬范圍的初始磁帶包角而不犧牲驅動器性能。這通過使 磁頭H"如下所述的新型外延支架來實現。該外延支架控制磁頭內的關鍵包角，同時防止"外部"改變(由于磁頭定位引起)或外部引導定位4m 影響關鍵包角，因此允許驅動器級別巻繞的更大變化。本發明能夠對驅動 器中的磁頭進行純機械的或基于基線的定位。圖4圖示了具有與模塊304整體形成的外延支架302的平坦外形磁頭 總成300的一個實施例。如圖所示，磁頭包括相對模塊304，每個模塊304 都具有基部305、連接到基部305的141306、元件(讀裝置和/或寫裝置) 308，以及可選的擋板310。模塊304被連接在一起以使得基仗306的磁帶 承栽表面312以這種方式偏移，即在模塊304之間限定內包角a"為了當 前討論的目的，任何對基板306的磁帶承栽表面312的描述都可包括經過 擋板310 (如果存在)延伸的磁帶承載表面。電纜311或其它合適的配線 將元件308連接到控制器以及讀寫電子設備。在每個模塊304上形成外延支架302。外延支架302控制磁帶315相 對于I^L306的磁帶承載表面312的外包角a。。應指出的是，雖然術語"磁 帶承栽表面"似乎暗示面對磁帶315的表面與磁帶承栽表面物理接觸，但 是并非一定如此。確切地說，更常見的是磁帶的一部分與磁帶承載表面經 常性地或間歇性地接觸，而磁帶的其他部^it行在磁帶承栽表面上方的空 氣層(有時稱為"空氣軸承")上。如圖所示，每個外延支架302具有平坦的磁帶承栽表面314,后者在 經過其上的磁帶315與其磁帶承栽表面314之間引入了微小的空間。當磁 帶315移it/磁頭時，空氣從磁帶315下面通過切邊318切入，并且在磁帶 315和磁帶承載表面314之間的區域中的降低氣壓使得大氣壓強迫使磁帶
朝向磁帶承栽表面314，而不是將磁帶315 M塊的磁帶承載表面314上 抬起(如直覺所應感覺的那樣)。外延支架302位于141306的磁帶承載 表面312的平面317下方，由此產生了磁帶315相對于M 306的磁帶承 栽表面312的合適包角a。。在圖4所示的實施例中，磁帶承載表面312、 314位于平行平面317、 319，但是在垂直于平面317、 319的方向上不重合。當磁帶承栽表面312、 314沿著平行而不重合的平面時，直覺上，磁帶應從外延支架302的磁帶 承載表面314上脫離。但是，由外延支架302的切邊318產生的真空足以 保持磁帶附著于外延支架302的磁帶承載表面314.外延支架302的尾端 320 (磁帶離開外延支架302的一端)是限定基板306的磁帶承載表面312 上的包角a。的基準點。這樣，外包角a。近似為tan"(5/W),其中5是平 面317和319之間的高度差，而W是在如圖4所示的外延支架尾端320 和M引導端323之間形成的槽的寬度。圖4所示的實施例的一個令人注意的特性是磁帶沒有向下粘附(tack) 在外延支架尾部上。這轉而減少了對外延支架尾部的磨損。此實施例的另 一個好處在于，由于外延支架302直接形成在基部305上，所以外包角ot。 可以通it^加工表面314來切割(就#^塊304被連接在一起時內包角 cti是固定的那樣)。雖然外延支架302優選地與平坦的磁帶承載表面314 —起形成，但是 備選地，外延支架302可具有圓形的磁帶承載表面314，如圖5所示.在 這個和其他實施例中的圓形磁帶承栽表面可具有總體半圓的外形，通常為 弓形外形等，圖6顯示了另一個變型，其中外延支架302的磁帶承栽表面 314具有圓形引導部分340和平坦的尾部342。其他實施例包括例如多邊形 的非平面磁帶承載表面，其可以包括也可以不包括圓形部分.在示出的任一實施例中，因為外延支架302沒有元件，所以外延支架 的初始包角ot。。并不特別重要，并且因此允許更大的公差。具體地說，在 外延支架302的外(切)邊318處的磁帶巻繞變化并不改變內包角ex"外 延支架302的建議初始包角ct。。為0.6。 ±0.5。或0.7。 ±0.5° ，但是可以
到2。或更高。發明人已經發現，為了產生將磁帶移動到磁帶承載表面314 的期望粘附，只需存在非常微小的包角cc。。(比如O.l。)。小于0.1度的 巻繞具有更大的磁帶突然脫離外延支架302的風險，而大于1.1度的巻繞 可在磁帶中產生不希望的應力級別。此外，在磁帶運動方向上的磁帶承栽 表面314的長度優選地應長于凸起長度202 (圖2A)以確傲磁帶的合適的 向下粘附。繼續參考圖4，初始包角ct。。可通過在磁頭總成300自身中提供基線， 然后將磁頭定位到驅動器中的基線來實現。備選地，可以使用例如包括光 束的定位固定設備，所述光M跨磁頭300兩側上的導向裝置(其具有接 觸外延支架表面的部件)。另一種技術是通過激光束確定外延支架302上 的包角。另 一種方法包括與激光或固定裝置相結合的可調節滾輪以設定包 角oc。。(仍沒有使用磁帶信號)。此外，為了兼容性，可在已具有基于信號 的巻繞的驅動器中使用磁頭300。外延支架的磁帶承載表面不一定需要平行于并低于與元件相鄰的磁帶 承栽表面的平面，而是可有角度地和空間地偏移。在圖7所示的實施例中， 外延支架302具有磁帶承栽表面314，后者以相對于與元件308相鄰的磁 帶承栽表面312的期望包角oc。與磁帶平行.圖8圖示了另一個實施例，其中外部支架302具有磁帶承載表面314， 后者相對于與元件308相鄰的磁帶承栽表面312形成角度，該角度大于磁 帶相對于基板306的磁帶承栽表面312的期望包角ct。。磁帶承載表面312、 314的這種定向通常被稱作"覆蓋"配置，因為磁帶"巻繞"在外延支架 302的尾邊330之上，圖7和8的實施例提供的一個優點在于磁帶相對于特定模塊上的基 板的磁帶承載表面的內包角a。由外延支架來P艮定。圖7和8的實施例的另 一個優點是，接近引導外延支架的磁帶的初始包角不那么關鍵，因為不需 要將磁帶附著到外延支架磁帶承載表面。以下描述將提供多種用于制造具有作為基部整體部分的外延支架的磁 頭總成的方法，如圖4-8中所示的實施例那樣.除非另行說明，否則在典
型的制造過程中形成磁頭總成。此外，本領域的技術人員將理解，可以使用其他制造:磁頭總成的方法。在用于形成磁頭總成的一般方法中，基部與完成或未完成的外延支架 一起形成。M被連接到基部，例如通過粘性結合、聲波結合、緊固件等。 在某些實施例中，基部最終被連接在一起以形成磁頭總成，在其他實施例 中，基部被連接到公共基歐，但波此并不相連。根據一種優選的用于形成具有整體外延支架的基部的方法，通過傳統 處理形成晶片。然后晶片^皮M加工并被切片以形成各種邊、凹陷和凸出， 包括外延支架。外延支架磁帶承載表面此時可以完成也可以沒有完成。一 種優選的形成基部的方法包括將晶片切割成條(rows)。然后所述條被機 械加工以形成外延支架和I41將被連接到其的表面。然后使用傳統方法將 所述條切割成獨立的基部。另一種用于形成具有整體外延支架的方法包括注入模制，例如AlTiC 的注入模制。另 一種制造具有整體外延支架的方法包括機械加工金屬塊， 外延支架磁帶承載表面可以在將基板結合到基部之前完成。在其他實施例中，可以首先結合基仗和基部，可選地疊加結構，然后完成外延支架表面。基部的外延支架部分的磁帶承栽表面可以借助精密磨床來完成以限定 其高度、角度和曲率。 一種類型的磨床包括光學或Wfe傳感器，其檢測第 一表面(如J41將連接到其的基部的表面，或基敗的磁帶承栽表面，如果 141已與基部結合的話)，并使用該第一表面作為基準，將另一表面研磨 到距所述基準為期望的偏移，優選^巨目標深度l-2微米之內，這種磨床 可從Toshiba和Cranf ield Engineering購買。在此提供的任一實施例中的基部可以使用任何合適的材料來構建。合 適的材料包括但不局限于AlTiC、氧化鋁、陶瓷、NiZu、鐵氧體、氧化鋯、 鈦酸釣、鈦酸鋇、不銹鋼和其他材料等。此類材料可以是電絕緣的、電損 耗的等。優選的材料是諸如AlTiC和陶瓷之類的多孔材料，以最大化模塊
和141之間以及^^模塊之間的粘性結合的力度.參考圖9，與其表面垂直的基板306的示意性厚度T約小于1毫米。 基fel的另一個示意性厚度約小于0.75毫米。槽的示意性寬度W在大約0.2 毫米和大約0.75毫米之間，盡管0.4毫米及以上通常是優選的。外延支架 的磁帶承載表面位于J41的磁帶承載表面的平面下方.磁帶承載表面的平 面之間的距離5取決于槽寬和期望的包角。對于優選的約0.9。 ±0.2°的 包角a。和已知寬度W，磁帶承栽表面的平面之間的距離5可使用taiT1(5 AV)來計算。5的大體范圍在約0.002至0.014毫米之間。槽的深度優選地 足以允許從基板的切邊釋放空氣.通常，所述槽將深于外延支架的磁帶承 載表面。槽的示意性深度(從M的磁帶承載表面來測量)約為0.009毫 米至0.25毫米。采取另一種方式，槽的示意性深度(從外延支架302的磁 帶承載表面來測量)約為0.001毫米至0.24毫米.外延支架的示意性寬度 L約為0.28毫米，但是通常應大于所使用的或預期將被使用的磁帶的凸起 (圖2A中的202)的寬度，以允許足夠的向下粘附長度，同樣，1j板的磁 帶承載表面的寬度應大于磁帶的凸起(圖2A中的202)的寬度。等式taiT1(5 AV)說明了 W越寬，可允許的5的范圍就越大以達到合 適的包角。在一個示意性應用中，5被控制在約土l-2微米之內。圖9還說明了外延支架可以與主要基板具有間隔。本領域的技術人員將理解，以上和其他位置給出的尺寸只是通過實例 的方式給出，并可根據設計和制造限制、性能考慮等變得更大或更小。以上實施例中的任一 實施例及其各部分的組合也可被應用于任何類型 的磁頭和磁帶記錄系統，已知的和將被發明的均可。例如，這里的教導很 容易適合交錯(interleaved)磁頭，其通常包括相對的模塊，每個模塊都 具有交替的被配置為提供同時讀寫(read-while-write)能力的讀裝置和寫 裝置的陣列。圖10圖示了可在本發明的上下文中采用的簡化的磁帶驅動器。雖然圖 10中顯示了磁帶驅動器的一種特定實施方式，但是應指出，前面附圖中的 實施例可在任何類型的磁帶驅動器系統的上下文中實現，
如圖所示，提供了磁帶供給筒420和拾取巻筒421以支撐磁帶422。 這些部件可形成可移動盒式磁帶的一部分但并不一定是系統的一部分。引 導裝置425引導磁帶422經過優選的雙向磁頭426，該磁頭屬于在此描述 的類型。該磁頭426又經由MR連接器電纜430連接到控制器總成428。 控制器428又控制磁頭功能，如伺服跟蹤、寫突發、讀功能等。致動器432 控制磁頭426相對于磁帶422的位置。磁帶驅動器(如圖10中所示的磁帶驅動器)包括一個或多個驅動器電 機，以驅動磁帶供給筒420和拾取巻筒421，以便將磁帶422呈直線地移 i^磁頭426。磁帶驅動器還包括讀/寫通道，以便將數據傳輸到磁頭426以 記錄在磁帶422上以及接收磁頭426從磁帶422讀取的數據.還提供了接 口 ，用于在磁帶驅動器和主機(內部或外部)之間通信以便發送和接收數 據，以及用于控制磁帶驅動器的操作并將磁帶驅動器的狀態傳送給主機， 所有這些都像本領域的技術人員所理解的那樣。雖然上面描述了各種實施例，但是應理解，它們只是通過實例而不是 限制的方式來提供。因此，優選實施例的寬度和范圍不應由任何上述示意 性實施例來限制，而僅應根據以下權利要求及其等同物來限定。
權利要求
1. 一種磁頭總成，包括 具有磁帶承栽表面的基昧；多個連接到所i!S4l并朝向所逸磁帶承載表面布置的元件，所述無件 從包^裝置、寫裝置及其組合的組中來選擇；以及連接到所述a的基部，該基部具有整體形成的外延支架，該外延支第一包角來接近所述M。
2. 如權利要求1所述的磁頭總成，其中所述外延支架具有磁帶承載表 面，所述J4l和外延支架的所i^磁帶承栽表面位于基本平行的平面，所述 平面彼此不重合。
3. 如權利要求2所述的磁頭總成，其中所述外延支架磁帶承栽表面的 所述平面位于所^j^磁帶承載表面的所述平面下方約0.002毫米至0.014 毫米的范圍內。
4. 如權利要求1所述的磁頭總成，其中所述外延支架具有磁帶承載表 面，該外延支架磁帶承栽表面與以相對于所il^磁帶承栽表面的期望包 角定向的磁帶近似平行。
5. 如權利要求1所述的磁頭總成，其中所述外延支架具有磁帶承栽表 面，該外延支架磁帶承栽表面與所述J41磁帶承栽表面形成夾角，該夾角大于相對于所述^i^磁帶承載表面的磁帶的期望包角.
6. 如權利要求1所述的磁頭總成，其中所述基板的厚度約小于1毫米。
7. 如權利要求6所述的磁頭總成，其中所m4SL的厚度約小于0.75 毫米。
8. 如權利要求l所述的磁頭總成，其中所迷第一包角在約0.7。至l.l °的范圍內。
9. 如權利要求l所述的磁頭總成，其中所述外延支架具有磁帶承栽表 面，在所述外延支架磁帶承載表面的所述平面與朝向所述外延支架磁帶承 載表面移動的磁帶之間限定了第二包角，該第二包角約大于O.l。。
10. 如權利要求9所述的磁頭總成，其中所述第二包角約小于2。。
11. 如權利要求l所迷的磁頭總成，其中所述外延支架具有基本為平 面的磁帶承載表面。
12. 如權利要求1所述的磁頭總成，其中所述外延支架具有磁帶承載 表面，該外延支架磁帶承載表面具有圓形部分和平面部分.
13. 如權利要求1所迷的磁頭總成，其中所述外延支架具有圓形磁帶 承載表面。
14. 如權利要求1所述的磁頭總成，還包括 具有第二M磁帶承載表面的第二 1，多個連接到所述第二基敗并朝向所述第二141磁帶承載表面布置的元 件，以及連接到所述第二141的第二基部，該第二基部具有與其整體形成的外 延支架。
15. 如權利要求14所述的磁頭總成，其中所述基板和第二基板的所 述磁帶承栽表面的所述平面彼此形成角度，以便設定磁帶相對于所述141 和第二J^的所ii^帶承栽表面的內包角。
16. 如權利要求15所述的磁頭總成，其中所述第一包角大約等于所 述內包角。
17. —種磁帶驅動器系統，包括 如權利要求1所述的磁頭總成；驅動器機構，用于使磁性記錄帶通過所逸磁頭總成；以及 與所逸磁頭總成耦合的控制器，
18. —種磁頭總成，包括兩個以相對關系連接在一起的模塊，每個模塊都包括 具有磁帶承載表面的基板；多個連接到所*板并朝向所述磁帶承栽表面布置的元件，所述 元件從包含讀裝置、寫裝置及其組合的組中來選擇；以及連接到所述141的基部，該基部具有整體形成的外延支架，該外 延支架用于使得經過其的磁帶以相對于所述基板的所述磁帶承載表面 的平面的第一包角來接近所iiJ41。
19. 如權利要求18所迷的磁頭總成，其中所述模塊的所迷基板的所 it^帶承栽表面彼此形成角度，以便限定每個所述模塊的內包角。
20. 如權利要求19所述的磁頭總成，其中每個所述第一包角都約等 于所述內包角。
21. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所i^41 和外延支架的所ii^磁帶承載表面位于基本平行的平面，所述平面彼此不重 合。
22. 如權利要求21所述的磁頭總成，其中所述外延支架磁帶承載表 面的所述平面位于所述J4l磁帶承載表面的所迷平面下方約0.002毫米至 0.014毫米的范圍內。
23. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所述外延 支架磁帶承載表面與以相對于所述，磁帶承載表面的期望包角定向的磁 帶近似平行。
24. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所述外延 支架磁帶承載表面與所m4SL磁帶承栽表面形成夾角，該夾角大于相對于 所述^SL磁帶承載表面的磁帶的期望包角.
25. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中每個基板的厚度約小于1 毫米。
26. 如權利要求25所述的磁頭總成，其中每個基仗的厚度約小于0.75 毫米。
27. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中對于每個模塊，所述第一 包角在約0.7°至i.r的范圍內.
28. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中對于每個模塊，在所迷外磁帶之間限定了第二包角，該第二包角約大于0.1'
29. 如權利要求28所述的磁頭總成，其中所述第二包角約小于2。。
30. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所述外延 支架具有平面的磁帶承栽表面。
31. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所述外延 支架具有磁帶承栽表面，該外延支架磁帶承栽表面具有圓形部分和平面部 分。
32. 如權利要求18所述的磁頭總成，其中在每個模塊上，所述外延 支架具有圓形的磁帶承栽表面。
33. —種磁帶驅動器系統，包括 如權利要求18所述的磁頭總成；驅動器機構，用于使磁性記錄帶通過所逸磁頭總成；以及 與所逸磁頭總成耦合的控制器。
34. —種用于磁頭總成的部件，包括基部，其具有與之整體形成的外延支架，該外延支架具有磁帶承栽表面。
35. —種制造磁頭總成的方法，包括將M連接到基部，所ii^敗具有在其上形成的多個元件，所述基部 具有與其整體形成的外延支架部分；以及在所述基部的所述外延支架部分上形成磁帶承栽表面。
全文摘要
根據本發明的一個實施例的磁頭總成包括具有磁帶承載表面的基板。將多個元件連接到所述基板并朝向所述磁帶承載表面來布置所述元件。所述元件從包含讀裝置、寫裝置及其組合的組中來選擇。將基部連接到所述基板。所述基部具有與其整體形成的外延支架。所述外延支架使得經過其的磁帶以相對于所述基板的所述磁帶承載表面的平面的第一包角來接近所述基板。
文檔編號G11B15/60GK101123093SQ200710140229
公開日2008年2月13日 申請日期2007年8月6日 優先權日2006年8月8日
發明者R·G·比斯科伯恩, 穎 梁, 羅士忠 申請人:國際商業機器公司