多輻射束光學掃描設備的制作方法

專利名稱：多輻射束光學掃描設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種利用至少兩個輻射束的光學掃描設備，以及涉及 制造和運行這樣的設備的方法。本發明的具體實施例適合于在與兩種
或多種不同格式的光學記錄載體(諸如緊密盤(CD)、傳統的數字通 用盤(DVD)、和所謂的下一代DVD (諸如藍光盤(BD))兼容的光學 掃描設備中使用。
背景技術：
光學記錄載體以各種不同的格式存在，每種格式通常被設計成由 特定的波長的輻射束進行掃描。例如，CD是可提供的，尤其是作為CD-A (CD-音頻)、CD-ROM (CD-只讀存儲器)和CD-R ( CD-可記錄)，它 們被設計成藉助于具有約785nm的波長(X)的輻射束進行掃描，另一 方面，纟皮設計成藉助于具有約650nm的波長的輻射束進行掃描，以及 藍光盤被設計成藉助于具有約405nm的波長的輻射束進行掃描。通常， 波長越短，光盤相應的容量越大，例如，藍光盤-格式盤比起DVD-格式 盤具有更大的存儲容量。
希望光學掃描設備是與不同格式的光學記錄載體是可兼容的，例 如響應于具有不同波長的輻射束掃描不同格式的光學記錄載體，而優 選使用一個物鏡系統。例如，當引入具有更高存儲容量的新的光學記 錄載體時，希望被使用來讀出和/或寫入到新的光學記錄載體的相應的 新的光學掃描設備能后向兼容，即，能夠掃描具有現有格式的光學記 錄載體。
不幸地，被設計成以一定的波長被讀出的光盤在另一個波長下常 常是不可讀出的。例如，在CD-R格式盤中，在記錄堆棧上必須加上專 門的染色，以便得到人-785nm的掃描光束的高的調制。在入-"0mn時， 來自光盤的調制信號變得太小(由于染色的波長靈敏度)，這樣，在 這個波長下的讀出是不可行的。
為了允許在不同的格式之間的兼容性，光學掃描設備必須引入被 設置來提供每個相關的波長的輻射束的輻射源。分開的、分立的輻射
源可被利用于每個波長。替換地，利用利用多波長輻射源(例如，雙 波長激光器)。兩種方法典型地導致不同的輻射束從不同的位置和/或 以不同的角度被輸出，即，不同的輻射束不是沿單個共同的光學路徑 輸出的。
例如，在多激光器單芯片輻射源中，各個激光器典型地間隔開在
徑向掃描方向約100微米的距離(相對于光盤的掃描方向)。因此，
不同的激光器的光軸不一致，因此很難使用單個檢測器來檢測從光學 記錄載體反射的所有的輻射束。而且， 一個或多個光束將傾斜進入物 鏡系統，導致彗形像差，因此減小系統對于對準誤差的容忍度。 對于這個問題的一個解決方案是利用衍射光柵，試圖對準從兩個
不同的發射點發射的兩個輻射束的光學路徑。US 2002/01142527描述 了引用這樣的衍射元件的光學拾取設備。衍射元件是階梯狀衍射元 件。階梯尺寸被選擇為使得第一輻射束傳送通過衍射元件而沒有衍 射，而第二個不同的波長輻射束將被衍射元件衍射。
衍射元件可能是有相當損耗的。然而，對于使用三個或多個不同 的波長輻射束的光學掃描設備，設計具有入射的輻射的傳輸的高效率 和足夠的位置公差(允許制造公差)適用的衍射光柵是有問題的。
US 5，278，813描述楔形棱鏡的使用。棱鏡是可旋轉的，以便于提 供光點在光盤上的位置的移位。棱鏡被旋轉，以便保證來自第二光束 的光點入射在光盤的、與來自第一光束的光點的相同的位置。這樣的 系統的缺點在于，它利用棱鏡的機械運動。利用需要機械運動的光束 偏轉裝置是不希望的，因為這樣的設備易于機械疲勞和/或對于振動是 敏感的。

發明內容
本發明的實施例的目的是提供解決這里或其它地方提及的現有技 術的一個或多個問題的多輻射束光學掃描設備。本發明的具體實施例 的目的是提供利用至少三個不同的輻射束的改進的光學掃描設備。
按照本發明的第一方面，提供一種用于掃描光學記錄載體的信息 層的光學掃描設備，該設備包括輻射源，用于提供沿第一光學路徑 的至少第一輻射束，和沿不同的第二光學路徑的笫二輻射束；物鏡系 統，具有光軸，用于把所述輻射束會聚在所述信息層上；以及光束偏 轉元件，被設置來將至少所述第二輻射束向光軸折射，其中光束偏轉
元件包括至少一種流體和控制器，該控制器用于改變所述流體的配 置，以在預定的范圍上可控制地改變由光束偏轉元件提供的折射量。
有利地，這樣的設備利用流體來限定折射界面、邊界或表面。由 偏轉器元件所提供的折射度因此取決于流體的配置(例如，取向和形 狀)。折射度是折射量(波陣面的傳播方向的改變)，該折射量將被 提供給沿預定方向入射到界面上的輻射束。折射度可以通過改變以下
的至少一項來改變限定界面的材料的折射率，或界面相對于預定方 向的角度。
因此，由于不需要剛性物體的運動(即，沒有機械運動)，這樣 的光束配置元件不必易受機械疲勞的影響。另外，通過由偏轉元件所 提供的折射度的適當變化，有可能利用偏轉元件基本上對準多個輻射 束沿光軸的光學路徑。
所述流體可包括雙折射材料，以及控制器被設置來改變雙折射材 料的取向。
優選地，所述雙折射材料包括液晶，以及控制器凈皮設置來在液晶 上提供電場，用于改變液晶的取向。
所述元件可包括腔室，以及所述至少一個流體可包括第一、極性 流體和笫二、絕緣流體，兩種流體是不可混和的而且是沿界面分開的， 以及控制器被設置來經由電潤濕效應改變界面的配置。
控制器可被設置來改變界面的形狀。
控制器可被設置來改變界面相對于光軸的角度。
界面可以基本上是平面。
優選地，控制器被設置來根據表示哪個輻射束是由所述輻射源提 供的信號，改變由光束偏轉元件提供的折射。
優選地，提供了檢測器，該檢測器用于檢測從光學記錄載體反射 的至少 一部分的輻射束，以及其中控制器被設置來根據由所述檢測器 檢測的信號改變由光束偏轉元件提供的折射。
優選地，該設備包括檢測器，用于檢測從光學記錄栽體反射的至 少一部分輻射束；以及分束器，用于向光學記錄載體傳送從輻射源接 收到的入射的輻射束，和用于向檢測器傳送從光學記錄栽體反射的光 束；以及其中光束偏轉元件被放置在輻射源與分束器之間。
優選地，該設備還包括像散校正板，其被設置來抵消由光束偏轉
元件引入到光束中的像散。
光束偏轉元件可被設置來進一步折射第二輻射束，以便沿光軸引 導第二輻射束的光學路徑。
優選地，輻射源被設置來提供沿不同于所述第一和第二光學路徑 的第三光學路徑的第三輻射束，該光束偏轉元件還適用于朝光軸折射 所述第三輻射束。
按照本發明的第二方面，提供了制造用于掃描光學記錄載體的信
息層的光學掃描設備的方法，包括提供輻射源，該輻射源用于提供 沿第一光學路徑的至少第一輻射束，和沿不同的第二光學路徑的第二 輻射束；提供物鏡系統，其具有光軸，用于把所述輻射束會聚在所述 信息層上；以及提供光束偏轉元件，其被設置成向光軸折射至少所述 第二輻射束，其中光束偏轉元件包括至少一種流體和控制器，該控制 器用于改變所述流體的配置，以在預定的范圍上可控制地改變由光束 偏轉元件所提供的折射量。
按照本發明的第三方面，提供了運行用于掃描光學記錄栽體的信 息層的光學掃描設備的方法，該設備包括輻射源，用于提供沿第一 光學路徑的至少第一輻射束，和沿不同的第二光學路徑的第二輻射 束；物鏡系統，其具有光軸，用于把所述輻射束會聚在所述信息層上； 以及光束偏轉元件，其被設置成向光軸折射至少所述第二輻射束，其 中光束偏轉元件包括至少一種流體和控制器，該控制器用于改變所述 流體的配置，以可控制地改變由光束偏轉元件提供的折射量，其中運 行的方法包括根據由輻射源提供的輻射束，在預定的范圍上改變由光 束偏轉元件提供的折射。


現在參照附圖僅僅作為例子描述優選實施例，其中
圖1是按照本發明的實施例的光學掃描設備的示意圖2是按照本發明的可選實施例的光學掃描設備的一部分的示意
圖3， 4和5每個顯示適用于圖1和圖2的光學掃描設備的、結合 用于折射光束偏轉的凹凸透鏡設備的光束偏轉元件的簡化的側視圖截 面；
圖6A和6B顯示在圖3到5所示的任何一個光束偏轉元件中使用
的可選的電極配置的頂視圖截面；
圖7顯示適用于圖1和圖2的設備的、基于液晶的光束偏轉元件 的簡化的側視圖截面；以及
圖8顯示在掃描設備中光束偏轉元件的一個工作模式。
具體實施例方式
本發明人已認識到，代替利用剛性衍射光柵或剛性折射元件來改 變輻射束的路徑，可以利用能夠流動的折射元件，例如，它是流體。 通過在預定的范圍上改變流體的配置(例如，流體本體的形狀或流體 內分子的取向)，由該元件對入射的輻射束提供的折射度可以類似地 可控制地改變。典型地，利用易受電影響的流體，以及包括電極的控 制器被設置來提供電場，用于改變流體的配置。
因此，這樣的、引入流體的光束偏轉元件可被控制成通過改變由 光束偏轉元件對不同的輻射束提供的折射量，例如允許該元件與利用 三個或多個不同輻射束的光學掃描設備一起被利用，而使得從輻射源 發射的光束的輻射路徑的對準最佳化。
現在更詳細地描述包括這樣的光束偏轉元件的光學掃描設備，然 后描述光束偏轉元件的進一步的細節。
圖1顯示用于藉助于第一輻射束4掃描第一光學記錄載體3的第 一信息層2的設備1，該設備包括物鏡系統8。
光學記錄載體3包括透明層5，在透明層的一側上設置了信息層 2。背離透明層5的信息層2的一側由保護層6保護，免受環境影響。 透明層面對設備的一側被稱為入射面。透明層5通過提供對信息層2 的機械支撐而用作為光學記錄載體3的基板。替換地，透明層5可以 具有保護信息層的唯一的功能，而機械支撐由在信息層2的另一側上 的層提供，例如由保護層6或由被連接到最上面的信息層的另外的信 息層和透明層提供。應當指出，信息層具有第一信息層深度27，該深 度在圖1所示的這個實施例中對應于透明層5的厚度。信息層2是載 體3的表面。
信息以被布置在基本上平行的、同心的、或螺旋形的軌道上的光 學可檢測的標記的形式(圖上未示出)被存儲在記錄載體的信息層2。 軌道是可以由聚焦的輻射束的光點跟隨的路徑。標記可以是任何光學 上可讀的形式，例如凹坑的形式，或具有反射系數的平地(area)， 或不同于周圍環境的磁化的方向，或這些形式的組合，在光學記錄栽
體3具有圓盤形狀的情形下。
如圖1所示，光學掃描設備1包括輻射源7,準直器透鏡18，分 束器9，具有光軸19a的物鏡系統8，衍射部件24，和檢測系統IO。 另外，光學掃描設備l包括伺服電路ll，聚焦致動器12,徑向致動器 13，和用于糾錯的信息處理單元14。
在這個具體實施例中，輻射源7被設置來連續地或分開地提供第 一輻射束4，第二輻射束4，，和第三輻射束4"。例如，輻射源7可 包括用于連續地提供輻射束4，4' ，4"中的兩個的可調諧的半導體激光 器，分開的激光器提供第三光束，或用于分開地提供這些輻射束的三 個半導體激光器。輻射束4，4' ，4"的至少兩個的輸出路徑是不同的。 例如，兩個或多個輻射束可以從輻射源7的不同的物理位置和/或以相 對于物鏡系統的光軸19a的不同的角度被發射。典型地，每個輻射束 是發散的。典型地，每個輻射束沿平行的光軸被發射，光束從不同的 位置發射。例如，輻射束的光軸可以是平行的，相隔100微米，因為 來自輻射源7的輻射束的發射點相隔100微米。輻射束路徑的這種分 隔通常是在徑向掃描方向上(在光學記錄載體上相對于光束掃描的方 向)。
輻射束4具有波長、和偏振p。輻射束4，具有波長、和偏振P2， 以及輻射束4"具有波長h和偏振p"波長 u， ？w，和h都是不同的。 優選地，任何兩個波長之間的差值等于或大于20mn，更優選地，50mn。
兩個或多個P" p2，和P3可以互相不同。
準直器透鏡18被設置在光軸19a上，用于把發散的輻射束4變換 成基本上準直的光束20。類似地，它把輻射束4，和4"變換成兩個相 應的基本上準直的光束20，和20"(圖l中未示出)。
分束器9被設置用于向物鏡系統8傳送輻射束。在所顯示的例子 中，輻射束經由通過分束器9的傳輸向物鏡系統8發送。優選地，分 束器9用相對于光軸傾斜一個角度a的平面平行板形成，更優選地 a-45°。在這個具體實施例中，物鏡系統8的光軸19a是與輻射源7的 光軸共同的。
光束偏轉元件30位于光軸19a上。在本具體實施例中，光束偏轉 元件30被放置在準直器透鏡18與物鏡系統8之間。
每個輻射束被發射經過光束偏轉元件30 。另外，光束偏轉元件30 被設置來引導每個輻射束朝向物鏡系統8的光軸19a。在本具體實施例 中，光軸19a是與輻射源7的光軸共同的，即，至少一個輻射束具有 沿光軸19a的光學路徑。已經與光軸19a對準的任何這樣的輻射束被 發射而不用通過光束偏轉元件30的折射。沒有與光軸19a對準的任何 輻射束由光束偏轉元件30向光軸19a引導。優選地，光束偏轉元件 30被設置成折射每個未對準的光束，以便與光軸對準，即，使得每個 光束路徑是沿光軸19a的。
把每個輻射束與光軸19a對準，通常會需要兩個折射界面。第一 折射界面將折射在光軸19a的方向上的輻射束，即，以使得它以一角 度向光軸19a行進。然后第二折射界面再次折射該輻射束的光學路 徑，以使得它沿光軸19a 。
物鏡系統8被設置用于把準直的輻射束20變換成第一聚焦的輻射 束15，以便在信息層2的位置上形成第一掃描光點1"
在掃描期間，記錄載體3在主軸(圖1中未示出)上旋轉，然后 信息層2通過透明層5被掃描。聚焦的輻射束15在信息層2上反射， 由此形成反射光束21，該反射光束21在前向會聚光束l5的光學路徑 上返回。物鏡系統8把反射的輻射束21變換成反射的準直的輻射束 22。分束器9通過向檢測系統10傳送至少一部分反射的輻射22，而 把前向輻射束20與反射的輻射束22分隔開。在所顯示的例子中，反 射的輻射束22通過從在分束器9內的板的反射而向檢測系統10傳 送。在所顯示的具體實施例中，分束器9是偏振分束器。四分之一波 片9，沿光軸19被放置在分束器9與物鏡系統8之間。四分之一波片 9，與偏振分束器9的組合確保大多數被反射的輻射束22被沿著檢測 系統光軸19b向檢測系統10傳送。
檢測系統10包括會聚透鏡25和檢測器23，它們被設置用于獲取 所述的部分反射輻射束22。
檢測器被設置來把所述的部分反射束變換成一個或多個電信號。
信號之一是信息信號，它的數值代表在信息層2上掃描的信息。 信息信號由信息處理單元14處理，用于糾錯。
來自檢測系統10的其它信號是聚焦誤差信號和徑向跟蹤誤差信 號。聚焦誤差信號代表在掃描光點16與信息層2的位置之間沿Z軸的 高度上的軸向差值。優選地，這個信號通過"像散法"形成，該像散
法尤其是從G. Bouwhuis， J,Braat， A. Hui jiser等的書，"Priciples of Optical Disc Systems" ， pp.75-80 (Adam Hilger 1985， ISBN 0-85274-785-"獲知的。徑向跟蹤誤差信號代表在信息層2的XY平面 上在掃描光點l6與掃描光點16所要遵循的信息層2中的軌道的中心 之間的距離。這個信號可以從"徑向推挽方法"形成，該方法也從前 述的G. Bouwhuis的書，pp. 70-73獲知。
伺服電路ll被設置用于，響應于焦點和徑向跟蹤誤差信號，提供 用于分別控制聚焦致動器12和徑向致動器13的伺服控制信號。聚焦 致動器12控制物鏡8沿Z軸的位置，由此控制掃描光點16的位置， 使得它與信息層2的平面基本上一致。徑向致動器13控制掃描光點16 的徑向位置，使得它通過改變物鏡8的位置而與在信息層2中要遵循 的軌道的中心線基本上一致。
物鏡8被設置成用于把準直的輻射束20變換成具有第一數值孔徑 NAi的聚焦輻射束15，以便形成掃描光點16。換句話說，光學掃描設 備1能夠藉助于具有波長、、偏振P,、和數值孔徑NA,的輻射束l5掃 描第一信息層2。
另外，在本實施例中的光學掃描設備還能夠藉助于輻射束4，掃描 第二光學記錄載體3，的第二信息層2，，和藉助于輻射束4"掃描第 三光學記錄載體3"的第三信息層2，，。因此，物鏡系統8把準直的輻 射束20，變換成具有第二數值孔徑NA2的第二聚焦輻射束l5，，以便 形成在信息層2，的位置上的笫二掃描光點16，。物鏡8還把準直的
輻射束2o"變換成具有第三數值孔徑NA3的第三聚焦輻射束is"，以
便形成在信息層2，的位置上的第三掃描光點16"。
掃描光點16，16' ，16"的任何一個或多個可以通過兩個其它光點 一起來形成用于提供誤差信號。這些相關聯的其它光點可以通過在光 束20的路徑上提供適當的衍射元件而形成。
類似于光學記錄載體3，光學記錄載體3，包括第二透明層5'， 在第二透明層5，的一側上，設置了具有第二信息層深度27'的信息 層2，，以及光學記錄載體3"包括第三透明層"，在第三透明層5" 的一側上，設置了具有第三信息層深度27，，的信息層2，，。
在本實施例中，光學記錄載體3，3' ，3"，僅僅作為例子，分別是
"藍光盤"-格式盤、DVD-格式盤、和CD-格式盤。因此，波長、是處 在365與WSnm之間的范圍，優選地，是405nm。數值孔徑1^1在讀模 式和寫模式下約等于0. 85。波長、是處在620與700nm之間的范圍， 優選地，是6S0nm。數值孔徑NA2在讀模式下約等于0. 6,和在寫模式 下在O. 6以上，優選地為0.65。波長、是處在74 0與82 0nm之間的范 圍，優選地約為785nm。數值孔徑NA3 ，對于從CD格式盤讀信息，是在 0. 5以下，優選地是0.45，以及對于寫信息到CD格式盤，優選地是在 0. 5與0. 5 5之間。
圖2顯示通過按照本發明的替換實施例的掃描設備的一部分的輻 射路徑的簡化示意圖。圖2中所示的掃描設備大體對應于圖1中所示 的設備，相同的附圖標記用來表示相同的特征。在本具體實施例中， 光束偏轉元件被放置在輻射源7與分束器9之間的輻射路徑上，而不 是放置在準直器18與光學記錄載體3之間(如圖l所示)。這種設置 具有優點入射在檢測器23上的光點是同軸的，即，光點不相互移位。 然而，由于光束偏轉元件30被放置在輻射源7與準直器18之間的發 散光束中，所以像散可被引入到傳輸的輻射束中。為了防止任何這樣 的像散影響入射到光學記錄載體3的信息層2上的最終得到的光點 16，像散校正板32可被加到輻射束路徑。像散校正板32被放置在分 束器9與準直器18之間的輻射束路徑上。像散校正板是透明板。像散 校正板32被設置用于對傳輸的輻射束校正例如由光束偏轉元件30引 入到光束中的不想要的像散。板32被設置來把相反的像散施加到光 束，以便從光束中抵消不想要的像散。例如，像散校正板可包括一個 或多個折射界面，以便提供想要級別的像散給傳輸的光束，用于校正目的。
通過把像散校正板32放置在分束器9與準直器18之間，然后從 光學載體3反射的輻射將只通過這個校正板32，而不通過光束偏轉元 件30。因此，如由分束器9向檢測器23所傳送的這個反射光束將包含 像散。在上述的像散法中，典型地，圖1所示的透鏡"將被用來把像 散引入到所傳輸的光束中，用于確保入射到檢測器上的光束具有想要 的像散，用于確定聚焦誤差信號。在本具體實施例中，想要的像散量 由像散校正板提供，因此，透鏡"可以從光學掃描設備中除去。
光束偏轉元件可以以各種方式被實施。
優選地，光束偏轉元件被設置成提供入射的偏轉光束的偏轉預定 范圍
在優選實施例中，光束偏轉器將僅僅被設置來在一維上可控制地 偏轉光束。典型地，光束偏轉器將只需要在一維上改變任何輻射束的
路徑，以使得路徑對準光軸19a。例如，元件可以僅僅被設置來偏轉光 束路徑，以改變最終得到的光點在光學記錄栽體的表面上的徑向位 置。如果需要，光學掃描設備可包括第二光束偏轉元件。這個第二光 束偏轉元件可被取向以提供在與第一光束偏轉元件所提供的方向正交 的方向上的光束偏轉。替換地，第二光束偏轉元件可被取向以提供在 與第一光束偏轉元件所提供的方向相反的方向上的光束偏轉。
光束偏轉元件通常沿物鏡系統的光軸19a順序地放置。例如，如 果第一光束偏轉元件被設置來改變光點在X方向上的橫向位置，則第 二光束偏轉元件可被設置來改變光點在Y方向上的橫向位置(假設光 軸19a垂直于XY平面)。
替換地，如果第一光束偏轉元件被設置成朝向光點在X方向上的 橫向位置，則第二光束偏轉元件可被設置來朝向光點在負X方向上的 橫向位置。因此，第一光束偏轉元件將被設置來引導輻射束路徑朝向 光軸19a，笫二光束偏轉元件被設置來隨后重新引導輻射束路徑沿光軸 19a。
適當的光束偏轉元件例如是在作為W0 2004/051323 ，以 "Apparatus for forming variable fluid meniscus configulations"公布的國際申請No. PCT/IB2003/005325內描述 的。這樣的設備包括流體腔室，該腔室保持由界面(凹凸透鏡 (meniscus))分開的兩種不同的流體(A， B )。凹凸透鏡的邊緣由流 體腔室的側壁限制。兩種流體是不可混和的，并且具有不同的折射率。 一種流體不是電敏感的，例如，它是不導電的(絕緣的)非極性流體 (諸如硅油或烷烴)。另一種流體是電敏感的流體，例如，它是導電 的極性流體，諸如鹽水溶液。電敏感的流體是受電場影響的流體。任 何一種流體可以是液體、或氣體、或可流動的任何材料，例如液晶。 優選地，兩種流體具有基本上相等的密度，以便形成光束偏轉元件的 設備與取向無關地起作用，即，不取決于在兩種流體之間的重力作用。 這可以通過適當地選擇第 一和第二流體組成而達到。
被放置在腔室壁附近的電極被用來控制凹凸透鏡的邊緣與腔室側 壁的接觸角。電極被涂覆以電絕緣層，例如聚對二甲苯的電絕緣層。 腔室典型地是圓柱形，沿光學元件的光軸延伸。不同的光束偏轉元件
的各種實施例顯示于圖3, 4和5。在每種情形中，圓柱形腔室的截面 可以是任何想要的形狀，包括圓形(如圖6A所示)或方形(如圖6B 所示)。
圖6A和6B顯示垂直于光軸19a而取的腔室的兩個可選的截面。 在圖6A中，腔室具有圓形內壁60。多個分段電極位于光束偏轉元件的 光軸19b周圍。側壁分段電極62成隊地分組，示出了用標號62a與 62a， 和62b與62b，等等表示的例子。 一對的每個部件平行于在光 軸19b的相對側上的另一個部件。電壓控制電路(未示出)被連接到 電極結構，以將變化的電壓起伏圖(voltage pattern)施加到分段電 極2。圖6B顯示具有限定一個方形的側壁69的腔室的可選截面。兩組 軸向間隔開的、電潤濕側壁電極65，67和66，68圍繞腔室的周界#1間 隔開。四個矩形分段電極65. 66， 67， 68圍繞光束偏轉元件的光軸19b 間隔開。相對的分段電極65， 67被設置為一對，以及電極66，68被設 置為一對。每對電極的縱向邊緣是平行的。
典型地，另一個電極與^皮包含在腔室內的電敏感的(例如，導電 的)流體進行電接觸。典型地，該另一個電極位于腔室的末端。電壓 被施加到末端電極和各個側壁電極。加到末端電極和任何側壁電極上 的電壓將用來限定相鄰的側壁的表面接觸角，即，凹凸透鏡與側壁的 相鄰部分相接觸的角度。優選地，加到電極對上的電壓被設置成使得 在電極對上提供的接觸角等于180°，如果腔室壁是平行的。例如，如 果在末端電極與電極62a之間施加的電壓被選擇來在相鄰的側壁位置 處提供60。的接觸角，則被施加在末端電極與電極62a，之間的電壓使 得在與該電極相鄰處提供120°的接觸角。被施加到每個電極的電壓優 選地被選擇以使得通過控制凹凸透鏡的接觸角而提供大體平坦的 (即，平面)凹凸透鏡。凹凸透鏡優選地基本上是平面的，以便不給
折射界面提供光功率。
圖3顯示適用于折射式光偏轉(即用作為按照本發明的實施例的 光束偏轉元件)的流體凹凸透鏡配置的側視圖截面。側壁分段電極 141， 143沿腔室縱向延伸，平行于包含流體A， B的腔室的內部側壁
表面。凹凸透鏡80限定兩種流體A， B之間的界面。絕緣層110使兩 種流體隔開免與電極接觸。
在本具體實施例中，第二流體B是電敏感的流體。電極112與第 二流體B電接觸。在所示的具體實施例中，電極112在腔室的一端連 續延伸。在這樣的情形中，電極是透明的，例如由ITO (氧化銦錫)形 成。腔室也具有透明的的端壁104， 106。
電壓V4被施加到端壁電極112和側壁電極141上，導致產生在液 體A與流體接觸層110之間的流體接觸角& (例如，60°)。流體接觸 角是由凹凸透鏡80的邊緣與相鄰的側壁形成的角度。類似地，電壓Vs 被施加到端壁電極112和側壁電極143上，導致產生流體接觸角95。 在這個具體實施例中，選擇電壓V4和V5以使得接觸角"和95的總和等 于180°。這導致至少在圖上顯示的尺度上在液體A和B之間的平坦的 流體凹凸透鏡80。
具有第一光軸IOI入射光束由平坦的流體凹凸透鏡8 0在相關的尺 度上在垂直于側壁電極141和"3的方向上被偏轉，以產生具有第二 光軸82的出射光束，該第二光軸82相對于第一光軸101成角度e"入 射光在圖3中用箭頭表示。將會看到，在這個例子中，由于光束在它 從末端表面106出射時的輕微折射，光束偏轉元件l30的總的偏轉大
于e"
偏轉角e,可以通過改變施加的電極電壓v4， Vs而變化。優選地， 接觸角度a和e5的總和保持在180°，以便提供在所顯示的尺度上的平 i旦的凹凸透鏡。
通過互相交換所施加的電壓V4和v5,在相同角度平面上從第一光 軸101到第二光軸82之間得到負的e,的偏轉角。因此，通過改變電壓
V4和Vs的幅度，入射到光束偏轉元件130的光束的偏轉可以在連續的
偏轉角度范圍上可控制地變化。
優選地，圖3中所示的光束偏轉元件130的截面類似于圖6B中所 示的截面。例如，電極141， 143可以分別對應于電極65， 67。那么 另一對電極(未示出，但為了方便起見被標號為142和144)分別對應 于電極66， 68。這個第二電極對142, 144，當從截面觀看時，被放置 成垂直于第一電極對141, 143。以電壓V4和Vj皮施加到電極Hl和 143上而提供接觸角&和e5的相同的方式，電壓L和V7分別;故施加到
電極142和144，以限定各個清晰的接觸角06和97。優選地，06和67相 加為180°。如果電壓V6和V7被選擇以使得流體接觸角e6和A每個是 90°，則這將導致在液體A和B之間的平坦的流體凹凸透鏡80。換句話 說，通過確保流體接觸角96和^每個是9 0°，以及流體接觸角04和95的 和是180°,則會實現入射到光束偏轉元件130上的光束的一維偏轉。
在垂直于偏轉角e:的平面的平面上的入射光束的另一個一維偏轉 是通過分別控制在端壁電極112和側壁電極142或144上施加的電壓
V6和V7以使得相應的流體接觸角e6和e7的和也等于18 0°而達到的。通 過改變施加的電極電壓v6， v7，同時保持^和97的和等于180°,具有第 一光軸ioi的入射光束可以;故偏轉第二偏轉角e2 (未示出)，該第二 偏轉角&位于垂直于偏轉角度e,的平面上。因此，可以達到光束的偏
轉的二維控制，允許控制檢測器23上在X和Y方向上的光點位置。
圖4顯示按照本發明的另一個實施例的、結合適用于折射光偏轉 的流體凹凸透鏡配置的光束偏轉元件230的側視圖截面。在所顯示的 配置中，與圖3中所示的實施例相比較，可以達到更大的總的偏轉角 度(假設利用相同的流體)。這個實施例的特性類似于關于圖3所描 述的那些特性，但標號加增量100 (例如，端壁204對應于圖3中的 端壁104)。在本實施例中，提供第二端壁電極84，它的形狀是環形 的以及與前壁204相鄰(與前端壁電極212相比較，它的形狀是環形 的以及與后壁206相鄰)。該第二端壁電極至少一部分^^皮設置在流體 腔室中，以使得電極作用在流體B的第二流體層上，圖4中標記為B，。 流體B (流體B，)的第二層通過第一流體凹凸透鏡86與流體A的層 分隔開。第二流體凹凸透鏡88分隔開流體層A和B。在本具體實施例 中，流體B，包括與如在以前的實施例中所描述的流體B相同的流體。 然而，應當指出，流體B，可以是與流體A不可混和的、電敏感的任何 可選擇的流體，且優選地具有與流體A和B基本上相等的密度。
在本實施例中，兩組軸向間隔的電潤濕電極在側壁的周邊上凈皮間 隔開。優選地，電極被設置類似于圖6B中的電極65， 67 。 一組電極 包括電極241a，243a。另一組電極包括電極241b， 243b。分別施加到 第二端壁電極84和側壁電極241和243上的所施加的電壓L和V"的 變化，使得相應的流體接觸角e8和9i。改變。第一流體凹凸透鏡86在流 體接觸角es和&。的和等于180。時是平坦的。類似地，第二流體凹凸透
鏡88的形狀可以通過分別加到第一端壁電極206和側壁電極241和 243上的所施加的電壓V。和V"的改變而改變。笫二凹凸透鏡88當在 施加的電壓V,和V"下流體接觸角e,和eu的和等于180。時是平坦的。
沿第一光軸201的入射光束由平坦的第一流體凹凸透鏡86在側壁 電極241， "3的平面上一維地偏轉。偏轉的光束具有第二光軸90， 且它在角度上相對于第一光軸210有一個偏轉角69。。具有第二光軸90 的偏轉光束還^t平坦的第二流體凹凸透鏡88偏轉。最終得到的另外的 偏轉光束具有第三光軸92，該第三光軸92在角度上相對于第二光軸
9o有一個偏轉角e",，偏轉角&。和e"的和給出因流體之間的界面而引
起的入射光束的組合偏轉角。正如關于以前的實施例所詳細說明的， 通過把電壓垂直于側壁電極241， 243分別施加到每個端壁電極204， 206和每個側壁電極242, 244 (未示出)，平坦的凹凸透鏡86和88
可被控制成在與偏轉角e,。，e"的平面垂直的另一個角度平面上偏轉入 射光束，因此，二維地偏轉入射光束。
通過互相交換在側壁電極對上施加的電壓，可以得到偏轉角&。，e" 的負值。如果想要的話，如在其它實施例中那樣，本實施例的電潤濕 電極可以電氣地或通過使用所提供的旋轉機構(例如，機械致動器)
圍繞光軸201旋轉，以達到流體凹凸透鏡的正確的角度定位。
在優選實施例中，第一凹凸透鏡86被設置用來向光軸折射在光軸
的一側(例如，平行于光軸)上行進的第一輻射束。選擇折射的角度
和折射面的分隔(即，凹凸透鏡"，88 )以使得輻射束入射到第二折 射面上在折射面(凹凸透鏡88 )與光軸相交叉的點處。第二折射面(凹 凸透鏡88)然后被設置來折射輻射束，以使得光束的光學路徑是沿光 軸的。優選地，光束偏轉元件被設置得使得偏轉角可以是反向的，即， 從正交換到負(或反之亦然)，以使得光束偏轉元件可被設置來類似 地偏轉另一個輻射束的路徑，沿光軸的另一側(離第一光束有一個距 離，但在同一個平面上)行進，這樣，該另一個光束沿光軸被對準。 如果結合這樣的光束偏轉元件的光學掃描設備利用三種不同的輻射 束，則優選地另一個(第三)輻射束沿光軸入射到光束偏轉元件上， 該元件可被配置成不折射光束的路徑，例如通過改變凹凸透鏡的平面 垂直于光束而改變凹凸透鏡以不提供折射。替換地，這個另外的光束 也可以沿沒有與光軸對準的光學路徑提供，光束偏轉器可操作以偏轉
這個另外的光束的路徑，以便與光學掃描設備的光軸對準。
在另一個設想的實施例中，僅僅通過使用圍繞腔室的周邊間隔的
單個電極組，兩個平坦的流體凹凸透鏡86, 88被設置成互相平行。
圖5顯示使用適用于折射光偏轉的流體凹凸透鏡配置的光束偏轉 元件330的另一個實施例的側截面視圖。在關于圖3和4所描述的實 施例中，由流體凹凸透鏡可達到的總的偏轉由在相鄰的流體之間的折 射率差值和由于流體的固有特性而可行的流體接觸角度范圍限制。這 個實施例，與可能實現的別的方式相比較，使得能夠達到更大的總偏 轉角度。類似的特征通過使用類似的附圖標記表示，但與圖4相比較， 附圖標記加增量100,與圖3相比較，附圖標記加增量200 (即，來自 圖3和圖4的端面104， 204現在標記為304 )。在本實施例中，該側 壁電極對341， 343不是互相平行的。同樣的情形應用到垂直的側壁電 極對342， 344 (未示出)。在本實施例中，側壁電極被設置為截錐體 (frustum)。通過在末端電極313和各個側面電極341， 343上施加
適當的電壓Vu和Vu，當最終得到的流體接觸角eu和en具有適當的數
值時，在液體A和B之間得到平坦的流體凹凸透鏡94。應當明白的是， 因為側壁不互相平行，所以當流體接觸角912和913和等于180°時，不會 得到這樣的平坦的流體凹凸透鏡"。沿光軸301的入射光束然后會,皮 凹凸透鏡94 一維地偏轉到具有笫二光軸96的方向。第一和第二光軸 通過偏轉角996彼此相關。
在參照圖3-6B描述的實施例中，假設使用電潤濕效應提供光束偏 轉元件。然而，應當明白的是，可以利用其它機制來提供可以在連續 的范圍內可控制地改變的光束偏轉。因為機械致動器易于疲勞，所以， 有利地，光束偏轉元件通過控制流體和/或流體界面的配置(例如。形 狀或取向)而起作用。
例如，可以提供具有包含流體(即，能夠流動的材料)的腔室的 單元，包括具有兩個或多個折射率的材料，即雙折射材料。適當的材 料是處在向列相的液晶。通過適當地施加電壓，有可能改變液晶的取 向(配置)，因此控制沿預定方向的單元的折射率。
從一種材料傳遞到另 一種材料的光束被折射的角度取決于兩種材 料的折射率的差值。
因此，光束偏轉元件可以通過提供液晶層而被形成，該層的至少
一個表面橫穿(即，跨過)輻射束路徑(如在顯示的實施例中跨過光
軸"a)延伸。這個表面典型地是平面。平面表面和光軸19a是非正交 的，即，表面的平面不垂直于光軸19a延伸。因此，通過適當地施加 控制電壓到液晶層，液晶的指向矢(director)(即，雙4斤射材料的 優先軸)的取向可以被改變。因此，由沿光軸19a入射到該層上的偏 振光所經歷的層的折射率可被改變。這允許改變在液晶與相鄰的介質 (例如，空氣)之間的過渡面上折射的光束所經歷的偏轉角。
圖7顯示結合液晶732的光束偏轉元件730的一個例子。液晶祐L 夾心在兩個電極734， 736之間。通過把來自電壓源738的電壓施加到 兩個電極734， 736,液晶分子的取向可被改變。
在任一方向上液晶的折射率取決于液晶分子相對于那個方向的取 向。因此，通過控制施加到電極7 34， 7 36的電壓，液晶7 32沿光軸(以 及，在本實施例中，平行于光軸19a的所有方向)的折射率可被調節。 在本實施例中，電極橫穿光軸以與光軸的非正交的角度延伸。電極限 定液晶732的外表面。電極734， 736由透明材料(例如IT0 (氧化銦 錫))形成。為了提供機械支撐，電極734， 736被夾在剛性透明材料 (例如玻璃或塑料)之中。輻射可以在進入這樣的材料或從該材料出 射時折射，因此這樣的材料將對由光束偏轉元件7 3 0提供的光束路徑 上的總的偏差有貢獻。
液晶732具有橫穿入射的輻射束的路徑延伸的兩個表面。每個表 面與輻射束路徑(即，在本實施例中的光軸19a )非正交。第一表面以 電極734為邊界，以及第二表面以電極736為邊界。在本實施例中， 兩個表面是平行的。然而，兩個表面可以與輻射束路徑成任何預定的 角度，例如，第一表面可以與輻射束路徑成角度A，以及第二表面可以 與輻射束路徑成角度-A，這樣，兩個表面之間的角度是2A。因此，通 過適當地選擇相鄰的材料(例如，電極)的折射率，第一表面可被用 來向光軸19a折射光，以及第二表面被用來之后沿光軸19a折射光線。
替換地，如在上述任何一個實施例中那樣，兩個連續的光學元件 可被用來提供這種功能，即，第一光學元件朝向光軸折射，第二光學 元件使光折射遠離光軸。液晶是雙折射的，這樣，分子的取向可被改 變以為在取向矢的方向上的偏振提供第一折射率n"和為在正交于取 向矢方向的偏振提供第二折射率n2。因此，通過適當地控制液晶的取向(例如，通過4吏用適當的電場)，則可以提供在ih與112之間的范圍 內的折射率的任何數值。優選地，與液晶相鄰的材料的折射率是n3， 其中ri3的數值在ni與xi2之間，如果偏振是在由光軸與取向矢構成的平 面的話。因此，應明白，液晶可被控制以提供在第一方向上折射(例 如，液晶的折射率大于n3)的折射面，在第二個、與第一方向相反的 方向上折射(當液晶的折射率小于I!3時)的折射面，和沒有折射面(當 液晶的折射率被控制為等于ii3時)。
由橫穿液晶的輻射束經受的折射率典型地取決于輻射束的偏振。 在一些光學掃描設備中，有可能不同的輻射束具有不同的偏振。在這 樣的情形下，優選地，可以提供兩個液晶光束偏轉元件(或替換地， 單個光束偏轉元件包括兩個分開的液晶層)。每個分開的液晶層然后
在以上的實施例中，光束偏轉元件沒有光功率，即，它沒有被設 置來會聚(或發散)輻射束，而僅僅改變光束的路徑。在其它實施例
率。這樣的光功率;以適用于促進輻^束聚焦到光一學記錄載體的表面 上。
圖8顯示結合光束偏轉元件30a的光學掃描設備的簡化得多的工 作模式。在圖8中所示的光學掃描設備中，提供了三個輻射源 7a，7b，7c。每個輻射源7a，7b，7c被設置來提供分開的、不同的輻射 束。每個輻射束被利用來掃描各個光學記錄載體的信息層。來自輻射 源7a的輻射束被用來掃描第一類型光學記錄載體3的信息層2。為了 易于說明，沒有顯示介于其間的光學部件，例如，分束器、準直器、 物鏡等等。
每個輻射源7a， 7b， 7c被設置來提供基本上平行于光學掃描設備 的光軸19a的分開的輻射束。在圖8和9所示的例子中， 一個輻射源 7b被設置來提供與光軸19a對準的光束。其它的輻射源7a，k被設置 來提供平行于光軸19a、但與光軸19a分開的輻射束。為了易于說明起 見，這種分離被夸大。從輻射源所發射的輻射束與光軸19a分離的典 型數值小于200微米(通常，約為100微米)。
在圖8所示的工作模式下，光束偏轉元件30a被設置來不僅向光
軸折射輻射束，而且隨后沿光軸19a折射輻射束。單個光束偏轉 元件30a可被利用來提供這樣的功能，例如，類似于關于圖4所描述 的元件。替換地，兩個分開的光束偏轉元件可被利用來提供這樣的功能。
應明白，光束偏轉元件30a還會被設置成通過提供相反的折射度 而使得從輻射源7c發射的輻射束與光軸19a對準。
由光束偏轉器提供的折射度的控制可以以多種方式提供。例如， 光束偏轉元件可被設置成根據哪個輻射束被光學掃描設備利用，來提 供控制的折射度(包括沒有折射)。替換地，由光束偏轉元件提供的 折射度的有效控制(active control)可以通過測量到達(landing) 檢測器上的光束而被提供。最終得到的光束到達信號可被利用作為伺 服信號，用于控制由光束偏轉元件(或多個光束偏轉元件)提供的折 射度。光束到達可以通過在具有被用來控制物鏡系統的位置的致動器 的伺服鏈路沒有關閉(即，開環)時測量徑向誤差信號而被檢測。
測量光束到達的更直接的方式由所謂的三光點推挽方法提供，其 中測量主光點的推挽信號和兩個衛星光點的推挽信號。通過利用三個 推挽信號的適當選擇的預定加權的和，徑向跟蹤信息和光束到達信息 可被分隔開。通過引入利用流體的光束偏轉元件來提供可變的折射 量，多輻射束光學掃描設備可以使用光束偏轉元件來對準沿光軸的光 束而容易地實施，并且無需經受疲勞，且具有由于光束偏轉元件而帶 來的相對低的輻射損耗。
權利要求
1.一種光學掃描設備(1)，用于掃描光學記錄載體(3)的信息層(2)，該設備包括輻射源(7；7a，7b，7c)，用于提供沿第一光學路徑的至少第一輻射束，和沿不同的第二光學路徑的第二輻射束；物鏡系統(8)，具有光軸(19a)，用于把所述輻射束會聚在所述信息層(2)上；以及光束偏轉元件(30；130；230；330；730；30a)，被設置成向光軸(19a)折射至少所述第二輻射束，其中光束偏轉元件(30；130；230；330；730；30a)包括至少一種流體(A，B，B’；730)和控制器(112，141，143；241a，243a，212，241b，243b；341，343，312；734，736)，該控制器用于改變所述流體的配置以在預定的范圍上可控制地改變由光束偏轉元件所提供的折射量。
2. 如權利要求1要求的設備，其中所述流體包括雙折射材料 (732 )，以及控制器(734, 736 )被設置以改變雙折射材料的優先軸的取向。
3. 如權利要求2要求的設備，其中所述雙折射材料(732 )包括 液晶，以及控制器(734, 736 )被設置以在液晶(732 )上提供電場， 用于改變液晶的取向。
4. 如權利要求l要求的設備，其中所述元件包括腔室，以及所述 至少一個流體包括第一極性流體(B;B，)和第二絕緣流體(A)，這 兩種流體是不可混和的且沿界面(80; 86, 88;94)分隔開的，并且控制 器 (112，141，143;241a， 243a,212， 241b, 243b; 341， 343, 312; 734, 736 )被設置來經由電潤濕效應改變界面(80; 86, 88; 94)的配置。
5. 如權利要求4要求的設備，其中控制器(112,141,143; 241a， 243a,212,241b， 243b;341， 343， 312 ) #皮設置來改變界面(8 0; 86， 88; 94 )的形狀。
6. 如權利要求4或權利要求5要求的設備，其中所述控制器 (112， 141， 143; 241a， 243a， 212， 241b， 243b; 341， 343， 312 )被設置來改變界面相對于光軸的角度。
7. 如權利要求4到6中的任何一項所要求的設備，其中所述界面 (80; 86， 88; 94 )基本上是平面的。
8. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，其中控制器 (112，141,143;241a， 243a， 212， 241b， 243b; 341,343， 312; 734， 736 )被設置來根據表示由所述輻射源(7; 7a， 7b， 7c )提供哪個輻射束的 信號，改變由光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a )所提供的浙_ 射。
9. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，還包括檢測器(23 )， 用于檢測從光學記錄載體(3)反射的至少一部分輻射束，以及其中控 制器(112， 141， 143; 241a， 243a， 212， 241b， 243b; 341， 343， 312; 734， 736 )被設置來根據由所述檢測器檢測的的信號，改變由光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a )所提供的4斤射。
10. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，其中所述設備包括 檢測器(23)，用于檢測從光學記錄載體(3)反射的至少一部分輻射 束；以及分束器(9 )，用于向光學記錄載體(3 )傳送從輻射源接收的入 射輻射束，和用于向檢測器(23)傳送從光學記錄載體反射的光束； 以及其中光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a )被定位在輻射源 (7; 7a, 7b， 7c )與分束器(9 )之間。
11. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，還包括像散校正板 (32)，其用于抵消由光束偏轉元件(30)引入到光束中的像散。
12. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，其中光束偏轉元件 (30; 130; 230; 330; 730; 30a )被設置來進一步折射第二輻射束，以便沿光軸(19a)引導第二輻射束的光學路徑。
13. 如以上任何一項權利要求所要求的設備，其中輻射源(7; 7c) 被設置來提供沿不同于所述第一和第二光學路徑的第三光學路徑的第 三輻射束，光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a)還適用于向光 軸(19a)折射所述笫三輻射束。
14. 一種制造用于掃描光學記錄載體的信息層的光學掃描設備的 方法，該方法包括提供輻射源(7;7a，7b，7c)，用于提供沿第一光學路徑的至少第 一輻射束，和沿不同的第二光學路徑的第二輻射束； 提供物鏡系統(8)，其具有光軸(19a)，用于把所述輻射束會 聚在所述信息層(2)上；以及提供光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a ),其被設置來向 光軸(19a )折射至少所述第二輻射束，其中光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730;30a)包括至少一種流體(A， B, B ， ； 730 )和控制器(112，141，143;241a， 243a,212， 241b， 24 3b; 341， 34 3， 312; 7 34， 7 36 )，該控制器用于改變所述流體的配置，以在預定的范圍上可控制地 改變由光束偏轉元件所提供的折射量。
15. —種運行用于掃描光學記錄載體的信息層的光學掃描設備的 方法，該設備包括輻射源(7;7a，7b，7c)，用于提供沿第一光學路 徑的至少第一輻射束和沿不同的第二光學路徑的第二輻射束；物鏡系 統(8),其具有光軸(19a)，用于把所述輻射束會聚在所述信息層(2)上；以及光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a )，其^皮i殳 置來向光軸(19a )折射至少所述第二輻射束，其中光束偏轉元件(30; 130; 230; 330; 730; 30a)包括至少一種流體(A， B， B， ； 730 )和控制器(112，141，143;241a， 243a， 212， 241b, 243b;341， 343， 312; 734, 736 )，該控制器用于改變所述流體的配置，以便可控制地改變由光束偏 轉元件所提供的折射量；其中該運行的方法包括根據由輻射源提供的輻射束，在預定的范 圍上改變由光束偏轉元件所提供的折射。
全文摘要
一種用于掃描光學記錄載體(3)的信息層(2)的光學掃描設備(1)。該設備包括用于提供沿第一光學路徑的至少第一輻射束、和沿不同的第二光學路徑的第二輻射束的輻射源(7)。物鏡系統(8)把所述輻射束會聚在所述信息層(2)上。光束偏轉元件(30)被設置來向物鏡系統的光軸折射所述第二輻射束。光束偏轉元件包括至少一種流體(A)。控制器被提供來改變流體的配置以控制在預定的范圍上由光束偏轉元件所提供的折射量。
文檔編號G11B7/125GK101171630SQ200680015113
公開日2008年4月30日 申請日期2006年4月26日 優先權日2005年5月3日
發明者A·H·J·英明克, B·H·W·亨德里克斯, C·T·H·F·利登鮑姆, S·凱帕, S·斯塔林加, T·W·圖克 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司