雕刻可見標記的系統的制作方法

專利名稱：雕刻可見標記的系統的制作方法
技術領域：
本發明涉及在介質上雕刻可見標記的設備，這種介質具有設置輻射敏感層的標記面，以通過利用輻射束雕刻基本平行的點軌跡圖案而產生可見標記，這種設備包括機頭、控制單元和定位裝置，其中所述機頭提供在輻射敏感層上產生雕刻點用的輻射束以雕刻可見標記，所述控制單元包括根據標記數據控制雕刻用的標記控制裝置，所述定位裝置在與點軌跡的縱向方向橫切的橫向方向上對雕刻點進行定位，這種定位裝置包括線路定位裝置和精細定位裝置，其中所述線路定位裝置通過所述機頭的運動在橫向方向上對雕刻點進行線路定位，所述精細定位裝置在橫向方向上對雕刻點進行精細定位。
本發明還涉及一種用于掃描設備的使用輻射束在介質上雕刻可見標記的方法。
背景技術：
專利申請US2002/0191517描述了一種光盤設備和在光盤上打印標記的方法。通過利用從光盤設備的機頭輸出的激光束產生標記。應當注意，在本文獻中，使用詞語“雕刻”表示改變輻射敏感層的可見光特性以在介質上產生可見標記的過程，比如，在光盤上打印文本。
在光學記錄設備中，通過將符號寫入軌道以在記錄載體上存儲信息。光學記錄設備裝配有機頭，該機頭用于將激光束聚焦到記錄載體的記錄層的軌道的掃描點上。利用基于從軌道反射的輻射所獲得的徑向誤差信號的定位系統，在軌道的橫向方向上對這種機頭進行定位。通過控制機頭上的光學元件之一實現軌道上的掃描點的精細定位，比如利用線圈驅動傳動器。應當注意，線路定位和精細徑向定位都基于來自軌道的徑向誤差信號。
在已知文獻中描述了利用光學記錄設備的機頭雕刻標記。在從光盤的部分標記表面可以觀察的位置上形成可見光特性變化層，這種可見光特性變化層是由光敏或熱敏材料(即，對輻射束敏感的材料)形成。將光盤設置在光盤單元的轉盤上，同時光盤的標記表面朝向光學機頭。光盤和機頭相互運動，從而沿著光盤平面覆蓋標記區域。在與相對運動同步期間，根據構成圖像(比如將要雕刻的字符或圖形)的標記數據調制從光學傳感器輸出的激光束的功率，并且激光束發射到可見光特性變化層上。由于可見光特性變化層朝向激光束，所以改變了可見光特性變化層的可見光反射率，于是形成了與標記表面上的圖像數據相對應的圖像。根據該文獻，雕刻過程中輻射束的徑向定位是基于探測光盤上的光學傳感器的徑向位置用的徑向位置傳感器。相對運動機構可以包括使光學傳感器沿著光盤徑向運動的徑向饋送驅動器件。
已知標記雕刻系統的問題在于徑向位置傳感器決定標記的質量。

發明內容
因此，本發明的目的是提供一種當在介質上以所需質量雕刻標記時在橫向方向上對輻射束進行定位的設備和方法。
根據本發明的第一個方面，使用開頭段落中定義的設備實現這個目的，所述設備包括生成器裝置，所述生成器裝置在所述機頭運動之一的之前或之后基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號作用于所述精細定位裝置以在橫向方向上加寬邊界軌跡。
根據本發明的第二個方面，使用開頭段落中定義的方法實現這個目的，所述方法包括如下步驟在所述機頭運動之一的之前或之后基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號作用于所述精細定位裝置以在橫向方向上加寬邊界軌跡。
所述加寬信號是一種用于使雕刻點在橫向方向上運動的附加信號，例如增加到定位驅動器的控制信號中的噪音信號、DC信號和/或周期性信號。使用加寬信號的作用是，在進行機頭運動時，在機頭運動之前和/或之后加寬邊界軌跡。這種加寬信號的優點在于，加寬的邊界軌跡彌補了可能產生稱為空白帶的未寫入環形區域的機頭運動的錯誤。
本發明還基于以下認識。發明人注意到，在信息記錄設備中，光學機頭和探測器用于對基于來自軌道的錯誤信號的掃描點進行定位。US2002/0191517中提出，在標記雕刻過程中，沒有軌道可以用于控制橫向定位，并且定位系統可能裝配有精確徑向定位傳感器。然而，發明人注意到，所述機頭的可使用的橫向定位可以基于前饋系統，即，在沒有來自橫向定位傳感器的反饋信號的情況下將控制信號作用于橫向驅動器，或者精確度小而且便宜的傳感器。然而，在相反情況中，這種方法可能在機頭運動下導致稱為空白帶或有些重疊的軌跡。實際上，空白帶的出現極大地降低了可見標記的整體質量。通過在機頭運動下臨時使用加寬信號，基本上減小了可見劣化的影響。
在所述設備的一個實施例中，所述標記控制裝置用于控制所述生成器裝置，從而在相鄰邊界軌跡中控制加寬信號的振幅、相位和/或頻率，從而減少了由所述加寬信號引起的標記的可見劣化。在隨后的基于圖案的相鄰軌跡中控制(周期性信號的)振幅(例如噪音信號和/或DC電平的功率)、相位和/或頻率，例如軌跡可以進行軌跡到軌跡的變化。這樣的優點是，進一步減小了機頭運動或加寬信號自身的可見影響。
在所述設備的一個實施例中，所述標記控制裝置用于控制所述生成器裝置，從而控制相鄰邊界軌跡中的振幅，以便在機頭運動之前增加多數邊界軌跡并在機頭運動之后減少多數邊界軌跡。這樣的優點是，在跨越大量軌跡時逐步增加和減少軌跡寬度，因此可見軌跡更少。
在所述設備的一個實施例中，所述標記控制裝置用于控制所述生成器裝置，從而將振幅控制在機頭運動之前的邊界軌跡和機頭運動之后的邊界軌跡中的預定值，而在其他軌跡中基本上將振幅控制在零。這樣的優點是，通過剛好在邊界軌跡之前和之后施加預定振幅實現對振幅的簡單、低成本的有效控制。
在所附權利要求書中給出了本發明設備和方法的更多優選實施方式，在此引入其公開內容作為參考。


參照附圖和下面說明書中以示例方式描述的實施例，將清楚并進一步闡明本發明的這些和其他方面，附圖中圖1a顯示了盤形記錄載體，圖1b顯示了記錄載體的截面圖，圖1c顯示了記錄載體上的標記，圖2顯示了使標記雕刻的掃描設備，以及圖3顯示了使用加寬的標記雕刻的過程。
附圖中，與已經描述元件向對應的元件具有相同的引用標號。
具體實施例方式
圖1a顯示了盤形記錄載體。圖1b顯示了截面圖，圖1c顯示了記錄載體的標記面。記錄載體11具有信息層上的軌道9和中心孔10。按照螺旋或同心的旋轉圖案排列軌道9并在信息層上構成基本上平行的軌道。記錄載體可以是具有可記錄型信息層的光盤。可記錄光盤的例子是CD-R和CD-RW、DVD-R或DVD+RW和/或BD(藍光光盤，Blu-rayDisc)。可記錄型記錄載體上的軌道9由制造空白記錄載體過程中提供的預壓模的軌道結構(例如預制凹槽)顯示。記錄的信息通過沿著軌道記錄的光學可探測的符號體現在信息層上。利用輻射束(例如，由光盤驅動器中的光學機頭產生的激光束)，符號將被讀取并可選性地寫入。符號由一種或多種物理參數的變化組成，因此具有與其周圍設備不同的光學屬性，例如，當在諸如染料、合金或相位變化材料等材料上記錄時獲得的反射上的變化，或者當在磁光材料上記錄時獲得的極化方向上的變化。
圖1b顯示了沿著可記錄型記錄載體11的線b-b的截面圖，其中透明基材15配備有記錄層16和保護層17。例如，在掃描過程中能夠使光學機頭跟隨軌道9的預制凹槽14構成軌道結構。預制凹槽14可以由凹入或凸起實現，或者可以包括具有不同光學屬性的材料。軌道結構還可以由規則展開的子軌道形成，該子軌道周期性地使伺服信號出現。記錄載體可以用來運載實時信息(例如視頻或音頻信息)或其他信息(比如計算機數據)。在保護層17的頂部設置有對輻射敏感的標記層18以雕刻可見標記。雕刻是改變輻射敏感層18的可見光特性以產生可見標記的過程。
圖1c顯示了記錄載體上的標記。從標記面顯示了記錄載體11，并且在輻射敏感層上雕刻了可見標記19。當調制輻射束的功率時，通過運用雕刻點并在徑向上和有角度的位置上掃描標記層18將可見標記成分(例如黑點)雕刻在標記層18上。
應當注意，這些例子是基于記錄載體，該記錄載體具有在其不同面上的輻射敏感的標記層，然后輸入面用于記錄并讀取信息。然而，適當材料的標記層可以設置在輸入面上。這種標記層必須對輻射至少部分透明以記錄并從軌道上的符號中讀取信息。此外，標記層可以僅應用于部分標記面。顯然，標記成分可以僅雕刻在覆蓋標記層的部分。此外，標記層18可以再覆蓋保護層和透明層，或者可以包括提供不同顏色的各種材料。
圖2顯示了使標記雕刻的記錄設備。記錄設備裝配有掃描記錄載體11的裝置，該裝置包括使記錄載體11旋轉的驅動單元21、機頭22、在徑向上對機頭22進行定位的定位單元25和控制單元20。機頭22也稱為OPU(Optical Pickup Unit，光學拾取單元)，它包括產生輻射束24用的已知類型的光學系統，其中該輻射束經過光學元件聚焦在輻射點23。輻射束24由輻射源(例如激光二極管)產生。
在數據記錄模式中，輻射點產生于記錄載體的信息層的軌道上。在標記雕刻模式中，輻射點聚焦在介質11的標記面上的輻射敏感層上。機頭還包括聚焦驅動器和徑向驅動器36，其中聚焦驅動器通過使輻射束24的焦點沿著輻射束的光軸運動將所述輻射束聚焦到輻射點，徑向驅動器沿著徑向方向精細對輻射點23進行定位，例如使光學元件徑向運動的線圈。
機頭22中普通類型的探測器探測從介質反射的輻射。前端單元31與探測器鏈接以提供基于軌道反射輻射的探測器信號。如從CD或DVD系統中所熟知，探測器信號可以包括讀取符號的主掃描信號34和聚焦并對掃描點進行徑向定位的探測器信號。主掃描信號34由普通類型的讀取處理單元30處理以恢復信息，其中該讀取處理單元包括解調器、反格式器和輸出單元。對于標記模式，徑向定位用的探測器信號無效，因為標記層上不存在軌道。下面將詳細描述標記模式過程中的徑向定位。
控制單元20控制信息的記錄和恢復并可以用于接收來自用戶或主機的命令。控制單元20通過控制線路26(例如系統總線)與設備中的其他單元連接。控制單元20包括控制電路(例如微處理器)、程序存儲器和進行這些程序的接口，控制單元的功能將在下面描述。控制單元20還可以由邏輯電路中的狀態機構執行。
設備可以裝配有在可寫入或可復寫類型的記錄載體上記錄信息用的記錄裝置。記錄裝置與機頭22和前端單元31配合產生寫入輻射束，并且該記錄裝置包括處理輸入信號從而產生寫入信號以驅動機頭22的寫入處理裝置，該寫入處理裝置包括輸入單元27、格式器28和調制器29。為了寫入信息，輻射束的功率由調制器29控制以在記錄層上產生光學上可探測的符號。
在一個實施例中，輸入單元27包括適合于比如模擬音頻和/或視頻、或者數字未壓縮音頻/視頻等輸入信號的壓縮裝置。以MPEG標準的視頻為例描述適合的壓縮裝置，其中MPEG-1由ISO/IEC11172定義，MPEG-2由ISO/IEC13818定義。根據這種標準，已經選擇性地對輸入信號進行編碼。
控制單元20用于控制記錄模式中的記錄。控制單元包括用于控制標記模式中的雕刻的標記控制單元33。將要雕刻的標記數據可以通過主機接口或通過用戶輸入提供給標記控制單元。在一個實施例中，掃描設備可以僅用于標記寫入。該設備與上述記錄設備相似，但是省略了數據記錄和恢復的元件。
實際上，標記模式的意圖是在CD或DVD光盤的非數據面上雕刻標記。光學機頭上的激光器可以用于寫入標記，例如CD或DVD激光器。徑向控制和焦點控制都以開路方式進行。在標記模式中，記錄載體將進入設備，同時其標記面朝向光學機頭以使輻射束聚焦到輻射敏感層上的雕刻點。當記錄載體進入時，用戶可以發出命令并以標記模式運行。作為選擇的是，如果進入了適合標記寫入的記錄載體，那么這種設備可以自動地探測，例如，通過探測記錄載體的預定位置上的指定符號。
基于精確控制并測量記錄載體從已知基準位置上的旋轉可以測量機頭的角度位置。另外，記錄載體在標記面上可以具有附加符號，比如條形碼，這些符號可以由機頭或附加傳感器探測。此外，角度位置可以基于電機控制信號、電機響應信號或傳感器信號，例如來自與轉盤電機連接的Hall傳感器，如本申請人的共同未決申請(PHNL 040725)中所述。
可以使用基于最大限度提高反射率的方法進行在標記上聚焦，其中反射率由稱為中心孔(CA)的信號測量。這種信號有時稱為總和信號。信號基本上說明了從光盤反射的光的量。
應當注意，在標記模式中，定位單元25用于在橫向方向上(通常稱為光盤的徑向)對雕刻點進行定位，該橫向方向與點軌跡的縱向方向橫切。定位單元25包括線路定位元件37，其中該線路定位元件通過機頭的運動(例如，裝載機頭的活動滑板或支架)在橫向方向上對雕刻點進行線路定位。機頭的徑向線路定位系統可以基于使機頭以相等大小、數量的階梯進行運動的步進電機，或者可以基于使裝載機頭的滑板沿著心軸或沿著移動滑板的兩根支撐軸和齒條系統運動的與電機連接的旋轉傳感器。定位單元25還包括精細定位元件，其中該精細定位元件在橫向方向上對雕刻點進行定位，例如，與光學元件(如物鏡)連接的驅動器36影響輻射束。標記控制單元33在標記模式中控制橫向定位。
在標記模式中，為了在雕刻基本平行的軌跡的圖案過程中進行徑向定位，標記控制單元33以階梯式間距向定位單元25提供機頭運動控制信號，這種機頭運動控制信號表示將要通過線路定位系統使機頭運動。在這種階梯式間距中，即在機頭的運動之間，機頭基本上是穩定的，盡管雕刻點的橫向運動基本上僅由精確定位系統控制。當機頭進行運動時，控制雕刻點以有效進行向下一個軌跡的很小的向前步驟。較大的機頭運動的向前步驟由作用于精細定位系統的相應的反作用信號補償，即，相對于機頭的較大的向后步驟。
邊界軌跡是剛好在進行機頭運動和相應的較大向后步驟之前或之后的圖案中的軌跡。應當注意，實際上機頭的向前步驟或精細定位元件的相應的較大向后步驟可能是不完全補償的，例如，由于驅動器和電機的生產普及、溫度的變化、磨損、磁滯現象等。隨后，剛好在進行機頭運動之前或之后的應當直接相鄰的邊界軌跡由成為空白帶的未寫入區域分開，或者略微重疊。尤其，空白帶顯示出是清晰可見的，并且降低了標記的綜合感知質量。在目前的文獻中，邊界區域為環形區域，該環形區域包括機頭的向前步驟和向前步驟周圍的邊界軌跡，如后面所述，尤其包括使用加寬信號的軌跡。
這種設備裝配有信號生成器裝置32以向定位單元25提供加寬信號35。具體地說，在機頭運動之前或之后的基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號35作用于精細定位系統以在機頭運動下在橫向方向上加寬邊界軌跡。另外，標記控制單元33探測即將進行的機頭運動，并且控制信號生成器裝置32以在一個或多個所選的邊界軌跡中使用加寬信號。
加寬信號可以是指向精細定位系統的用于改變雕刻點的橫向位置的數字控制信號，例如，表示振幅、頻率和/或相位在橫向方向上的變化。作為選擇的是，信號生成器裝置32可以提供變化的信號并增加到徑向驅動器36的驅動信號中。
作為干擾信號的加寬信號可能由一個或多個信號分量形成，例如噪音信號分量、DC部件，和/或周期性的擺動信號或脈沖信號。具體地說，除了增加噪音信號和/或周期性信號以外，還增加DC部件可以是有利的。DC部件使點的“偏移軌道”相對于軌跡中心運動。在少數軌跡(比如說20條)中，DC部件在線路步驟之前可以增長，例如從0增長到10微米。在相似數量的軌跡中，DC部件在線路步驟之后應當從10微米減少到0。在實際實施例中，選擇加寬信號的振幅以產生10-50％的軌跡之間間距的橫向變化，或者如果需要，由于較大的機械公差，該值甚至大于軌道間距，例如150％或更高。
在一個實施例中，信號生成器裝置32為產生加寬信號的可編程信號生成器，其中該可編程信號生成器包括可選擇其周期性信號的頻率、脈沖波形、振幅可選地以及相位的周期性部件，還包括可以設置功率電平等的比如噪音部件或DC部件。可以在固件中實現可編程信號生成器。標記控制單元33用于控制生成器裝置32，從而在相鄰邊界軌跡中控制加寬信號的振幅、相位和/或頻率，從而減少了由該加寬信號引起的標記的可見劣化。例如，可以選擇相位以鎖定在有角度的位置，或者作為選擇的是，可以選擇頻率和/或相位以與相鄰邊界軌跡不同。在一個實施例中，相鄰邊界軌跡中的整個振幅可以設置為在機頭運動之前增加多數邊界軌跡，在機頭運動之后減少多數邊界軌跡。通過增加和減少這種漸進圖案，將會看到介于具有加寬信號的軌跡與沒有加寬信號的軌跡之間的沒有棱角的邊界。例如，振幅可以設置為增加25％、50％、75％和100％，隨后設置為降低100％、75％、50％和25％。
作為選擇的是，在一個不復雜的實施例中，標記控制單元33用于控制生成器裝置32，從而在相鄰邊界軌跡中將振幅控制在機頭運動之前的邊界軌跡和機頭運動之后的邊界軌跡中的預定值，而在其他軌跡中基本上將振幅控制在零。
在這種設備的一個實施例中，標記控制單元33用于控制輻射束功率以適于在邊界軌跡中的較高數值，從而補償由加寬信號引起的邊界軌跡的長度增加。實際上，為了在標記層上雕刻有色點，需要大量的輻射能量以在局部上對輻射敏感層起作用，例如通過加熱，現將輻射能量的量稱為雕刻功率。雕刻功率可以是存在的，在探測標記層類型之后選擇的，或者通過制造測試點測量的。然而，由于加寬信號，雕刻點移動更快、距離更長。為了進行補償而增加雕刻功率，這種增加優選與所述速度和距離的增加相應。
在一個實施例中，控制單元20用于探測介質的類型，標記控制裝置33用于根據探測到的介質類型控制生成器裝置32。例如，為探測到的標記層類型選擇加寬信號的振幅、相位和/或頻率。此外，可以基于探測到的標記層類型設置雕刻點的功率。
圖3顯示了使用加寬的標記雕刻的過程。在第一步驟PREPARE 41中，接收啟動標記雕刻模式的命令，然后可以接收或積極地搜集標記數據，然后根據掃描介質的圖案在點軌跡上準備進行雕刻，例如盤形介質上的徑向軌跡，或矩形介質上的線性軌跡。在步驟INIT POSITION42中，機頭和介質位于將要雕刻的第一軌跡的第一啟動位置。定位僅涉及橫向方向上的定位。沿著軌跡的縱向方向進行掃描，同時調制雕刻點用的輻射束功率(在此不作進一步論述)。現在重復如下循環在步驟SCRIBE 43中雕刻軌跡，在步驟FINE 46中使雕刻點移動到下一個相鄰軌跡，如果完成了所有標記軌跡則在TEST 44中進行測試，如果這樣，在END45中終止標記模式。在循環中，步驟BOUNDARY 47包括了用于探測是否即將進行機頭運動的另一個測試，即，要求在稱為邊界數量軌跡的相鄰少量軌跡之內。邊界數量軌跡是在上述機頭運動之前收到加寬信號的軌跡數量。例如，邊界數量可以為1(或者甚至為0)，或者為增加了加寬信號的圖案的少量軌跡。如果在步驟BOUNDARY47中進入邊界區域，則雕刻隨后的軌跡同時在步驟BROAD_PRE 48中使用加寬信號。隨后在步驟HEAD 49中進行較大的機頭運動，同時向上述精細定位裝置實施較大的向后步驟。在步驟BROAD_POST 50中，再次雕刻邊界數量的軌跡，同時運用加寬信號，例如運用加寬信號的減小的振幅。應當注意，在BROAD_PRE和BROAD_POST中，可以通過精細定位裝置進行大量較小的向前步驟以雕刻相鄰軌跡，同時在每一步都調節加寬信號。然后在上述循環中重新開始未加寬軌跡的雕刻。
盡管使用具有標記層的光盤并以實施例的方式大體上闡述了本發明，但是本發明也適合于其他記錄載體，比如矩形的光卡、磁光盤或者可以利用輻射束掃描的任何其他類型的介質。應當注意，不僅可以通過介質的運動實現掃描，也可以通過機頭的運動實現掃描，或者兩者都運動以起到掃描圖案的作用。應當注意，本文中，詞語“包括”不排除與所列舉的元件或步驟相比存在其他元件或步驟，一個元件之前的詞語“一種”不排除存在許多這種元件，任何引用標號都不限制權利要求書的范圍，本發明可以通過硬件和軟件的方式實施，并且幾個“裝置”或“單元”可以由硬件或軟件的相同物件表示。此外，本發明的范圍不限于所述實施例，并且本發明在于各個和全部新穎的特征或者上述特征的結合。
權利要求
1.一種在介質(11)上雕刻可見標記的設備，所述介質具有設置輻射敏感層的標記面，用于通過經輻射束(24)雕刻基本平行的點軌跡圖案而產生可見標記，所述設備包括機頭(22)，所述機頭用于提供在輻射敏感層上產生雕刻點用的輻射束以雕刻可見標記，控制單元(20)，所述控制單元包括根據標記數據控制雕刻用的標記控制裝置(33)，以及定位裝置(25)，所述定位裝置在與點軌跡的縱向方向橫切的橫向方向上對雕刻點進行定位，定位裝置(25)包括線路定位裝置和精細定位裝置，所述線路定位裝置通過所述機頭的運動在橫向方向上對雕刻點進行線路定位，所述精細定位裝置在橫向方向上對雕刻點進行精細定位，以及生成器裝置(32)，所述生成器裝置在所述機頭運動之一的之前或之后基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號(35)作用于所述精細定位裝置以在橫向方向上加寬邊界軌跡。
2.如權利要求1所述的設備，其中所述生成器裝置(32)布置成用于施加周期性信號分量、噪音信號分量或DC信號分量至少之一，以構成加寬信號(35)。
3.如權利要求2所述的設備，其中所述標記控制裝置(33)布置成用于控制所述生成器裝置(32)，從而在相鄰邊界軌跡中控制加寬信號的振幅、相位和/或頻率，從而減少由所述加寬信號引起的標記的可見劣化。
4.如權利要求3所述的設備，其中所述標記控制裝置(33)布置成用于控制所述生成器裝置(32)，從而控制相鄰邊界軌跡中的振幅，以便在機頭運動之前增加多數邊界軌跡并在機頭運動之后減少多數邊界軌跡。
5.如權利要求3所述的設備，其中所述標記控制裝置(33)用于控制所述生成器裝置(32)，從而將振幅控制在機頭運動之前的邊界軌跡和機頭運動之后的邊界軌跡中的預定值，而在其他軌跡中基本上將振幅控制在零值。
6.如權利要求1所述的設備，其中所述標記控制裝置(33)布置成用于控制輻射束功率以適于在邊界軌跡中的較高數值，從而補償由加寬信號引起的邊界軌跡的長度增加。
7.如權利要求1所述的設備，其中所述控制單元(20)布置成用于探測介質的類型，并且所述標記控制裝置(33)布置成用于根據探測到的介質類型控制所述生成器裝置(32)。
8.一種用于掃描設備的使用輻射束在介質上雕刻可見標記的方法，所述介質具有設置輻射敏感層的標記面，以便通過利用輻射束雕刻基本平行的點軌跡圖案而產生可見標記，所述設備包括機頭(22)，所述機頭提供在輻射敏感層上產生雕刻點用的輻射束以雕刻可見標記，定位裝置(25)，所述定位裝置在與點軌跡的縱向方向橫切的橫向方向上對雕刻點進行定位，定位裝置(25)包括線路定位裝置和精細定位裝置，所述線路定位裝置通過所述機頭的運動在橫向方向上對雕刻點進行線路定位，所述精細定位裝置在橫向方向上對雕刻點進行精細定位，以及所述方法包括在所述機頭運動之一的之前或之后基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號作用于所述精細定位裝置以在橫向方向上加寬邊界軌跡的步驟(48，50)。
全文摘要
一種在介質上雕刻可見標記的設備。該介質(11)，例如光盤，具有設置輻射敏感層的標記面，以便利用輻射束產生可見標記。該設備具有機頭(22)和在徑向上對雕刻點進行定位的定位單元(25)，該單元具有通過該機頭運動的線路定位系統和精細定位系統。該設備具有生成器裝置(32)，該生成器裝置在該機頭運動之前或之后的基本平行軌跡的至少一個邊界軌跡中，臨時將加寬信號(35)作用于該精細定位系統以在橫向方向上加寬邊界軌跡。這種設備的優點在于，降低或防止了因機頭運動與精細定位系統不匹配而產生的稱為空白帶的未寫入環形區域。
文檔編號G11B7/24094GK101088120SQ200580044521
公開日2007年12月12日 申請日期2005年12月21日 優先權日2004年12月23日
發明者J·A·L·J·拉伊馬克斯, G·A·L·利恩克尼格特, J·弗比斯特, I·P·D·尤本斯 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司