專利名稱：噻唑基－吡啶鎓染料用于光學數據記錄的用途的制作方法
技術領域：
本發明涉及基于噻唑基-吡啶的染料在光學層中用于光學數據記錄，優選利用波長高達450nm的激光用于光學數據記錄的用途。
本發明還涉及能用藍色激光的輻射記錄和復制信息的一次性寫入多次讀出(WORM)型光學記錄介質，其在光學層中使用基于噻唑基-吡啶的染料。
本發明還涉及新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物。
近來，在二極管-激光光學存儲器領域中有機染料已吸引了相當大的注意力。商業可記錄光盤(CD-R)和可記錄數字多用途光盤(DVD-R)可包含以酞菁、半菁、花菁和金屬化偶氮結構為基礎的許多染料作為記錄層。這些染料適用于具有激光波長標準的各領域。其他對于染料介質的一般要求是強吸收性、高反射比、高記錄靈敏度、低導熱性以及光和熱穩定性、存儲持久性或無毒性。
對于工業應用來說，這些染料必須適于旋涂方法以制備薄膜，即其必須充分地可溶于旋涂方法中通常所用的有機溶劑中。
WORM(一次性寫入多次讀出)型和可擦除型光學記錄介質在記錄之前和之后通過檢測由物理變形、光學特征的變化以及記錄層的相和磁特性引起的反射率的改變來復制信息。
可記錄光盤(CD-R)作為WORM型光學記錄介質而普遍熟悉。近來，具有高達4.7千兆字節的增加的信息存儲能力的數字多用途光盤(DVD)已經商業化。
DVD-R技術選定波長為630-670nm的紅色二極管激光作為光源。從而，凹坑尺寸和軌道間隔可降低，與CD-R相比，信息存儲容量增加高達6-8倍。
Blu-ray盤(Blu-ray盤是由Hitachi Ltd.、LG Electronics Inc.、Matsushita Electric Industrial Co.Ltd.、Pioneer Corporation、Royal PhilipsElectronics、Samsung Electronics Co.Ltd.、Sharp Corporation、SonyCorporation、Thomson Multimedia開發的標準)將是光學記錄技術中的下一個里程碑。Blu-ray盤的新技術規范對于直徑為12cm的盤增加高達27千兆字節/記錄層的數據存儲。通過采用波長為405nm的藍色二極管激光(GaN或SHG激光二極管)，凹坑尺寸和軌道間隔可進一步降低，再次增加存儲容量達數量級。
光學數據記錄介質的組成在本領域中是已知的。光學數據記錄介質通常包括底材和記錄層-光學層。通常，有機聚合材料的盤或波狀物(waver)用作底材。優選的底材為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。底材必須提供高光學品質的均勻且均一的表面。光學層以高光學品質和所規定厚度的薄且均一的薄膜形式沉積于其上。最后，反射層(例如鋁、金或銅)沉積在光學層上。
先進的光學數據記錄介質可包括其他層，例如保護層、粘合層或另外的光學層。
為了提供光學層的薄且均一的薄膜，材料通常通過旋涂、真空蒸發、噴涂、輥涂或浸漬來沉積。工業上優選的方法是旋涂以形成厚度為約70nm到250nm的光學層。對于以旋涂方法的應用來說，光學層的材料必須高度可溶于有機溶劑中。
DE 1795369和US 3,703,577(American Cyanamid Company)公開了下式的化合物，特別是噻唑基-吡啶鹽和唑基-吡啶鹽，其合成及這些化合物用于降低溫血動物的血糖水平的用途。
US 4,571,402(Schering Corporation)公開了2-(4-吡啶基)噻唑衍生物，特別是羧酸酯、羧酰胺和硫代羧酰胺，其制備及其作為支氣管擴張劑的用途。
Kerr等(J.Am.Chem.Soc.82，1960，186)描述了取代的唑和噻唑的鹽的形成。
Wallenfels等(Justus Liebigs Ann.Chem.621，1959，198)描述了溴化1-(2，6-二氯芐基)-4-(噻唑-2-基)吡啶鹽的合成。
令人驚訝地，已經發現如下所述的基于噻唑基-吡啶的染料在光學層中適合作為染料化合物用于光學數據記錄介質中。
本發明因此涉及基于噻唑基-吡啶的染料在如下所述的包含基于噻唑基-吡啶的染料的光學層中的用途，并且涉及所述光學層用于光學數據記錄介質的用途。
更具體來說，本發明涉及能用優選405nm的藍色激光的輻射記錄和復制信息的一次性寫入多次讀出(WORM)型光學數據記錄介質，其在光學層中使用基于噻唑基-吡啶的染料。
本發明還涉及新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物。
本發明提到包含至少一種式(I)或(II)的染料化合物的光學層 其中
R1表示直鏈或支鏈C1-12烷基；R2至R5彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R2和R3，R4和R5，R3和R4(僅對(II)來說)可形成飽和或不飽和碳環或雜環五元或六元環，所述雜環可另外含有氧或其他氮作為環成員。
R6和R7彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；直鏈或支鏈C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；或R6和R7可形成碳環六元環以得到由式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物 其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有機陰離子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
在一個優選的方面中，本發明涉及包含至少一種式(I)或(II)的染料化合物的光學層，其中R1表示直鏈或支鏈C1-12烷基，R2至R5彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R2和R3，R4和R5可形成飽和或不飽和碳環或雜環五元或六元環，所述雜環可另外含有氧或其他氮作為環成員，R6和R7彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9(其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基)或C1-C8烷氧基(-OR)取代；或R6和R7可形成碳環六元環以得到由如上式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有機陰離子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
在一個更優選的方面中，本發明涉及包含至少一種式(I)或(II)的染料化合物的光學層，其中R1表示直鏈或支鏈C1-6烷基，R2至R5表示氫，R6表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R7表示氫，或R6和R7可形成碳環六元環以得到由如上式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
在一個更優選的實施方案中，本發明提到包含式(I)的染料化合物的光學層，其中R1表示直鏈或支鏈C1-6烷基，R2至R5表示氫，R6表示氫、甲基、乙基、苯基、4-甲氧基苯基、叔丁基、三氟甲基，R7表示氫，或R6和R7可形成碳環六元環以得到由如上式(III)表示的式(I)的化合物，其中R10、R12和R13表示氫，并且R11表示甲基或氯，An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根或下式的陰離子偶氮鈷絡合物 本發明的光學層還可包含兩種或多種(優選兩種)如上所述的式(I)或(II)的染料化合物的混合物。
式(I)或(II)的基于噻唑基-吡啶的染料化合物在用于光學層中用作本發明的光學數據記錄介質時提供特別優選的特性。
在另一個方面中，本發明涉及式(V)或(VI)的新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物 其中R1選自甲基、乙基、正丙基或異丙基；R6選自叔丁基、甲氧基或CF3；An-如上定義；以及式(VII)或(VIII)的化合物
其中R1選自甲基、乙基、正丙基或異丙基；R11選自氫、氰基(-CN)、C1-8烷基(優選甲基)、鹵素(優選Cl)；An-如上定義。
此外，本發明涉及制備光學層的方法，所述方法包括以下步驟(a)提供底材；(b)將式(I)或(II)的一種染料化合物或多種染料化合物的混合物溶解于有機溶劑中，形成溶液；(c)將所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；(d)蒸發溶劑，形成染料層。
優選的底材為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
有機溶劑選自C1-8醇、鹵素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、鹵素取代的C1-4烷烴或酰胺。
優選的C1-8醇或鹵素取代的C1-8醇例如為甲醇、乙醇、異丙醇、雙丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇。
優選的C1-8酮例如為丙酮、甲基異丁基酮、甲乙酮或3-羥基-3-甲基-2-丁酮。
優選的鹵素取代的C1-4烷烴例如為氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷。
優選的酰胺例如為二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
得到的光學層(染料層)厚度優選為70-250nm。
在一個優選的方面中，本發明提供適于在350-450nm，優選約405nm的激光波長范圍內的高密度記錄材料(例如WORM盤格式的高密度記錄材料)的光學層。
式(I)或(II)的染料化合物具有所需的光學特征(例如高吸收性(absortivity)、高記錄敏感度)、在有機溶劑中優良的溶解性、優良的光穩定性和250-300℃的分解溫度。
本發明的基于噻唑基-吡啶類型染料的制備式(I)和(II)的基于噻唑基-吡啶的染料化合物通過以下步驟得到使吡啶-4-硫代酰胺(A)或吡啶-4-硫代酰胺(B)分別與α-鹵代酮(F)在極性溶劑中以1∶1的比率反應以分別得到(G)或(H)，接著使被取代的吡啶部分與烷基化劑在極性溶劑中反應。陰離子交換在惰性溶劑中在回流條件下在化合物(I)或(II)與適于交換的相應反離子之間進行。
基于苯并噻唑基吡啶的染料化合物的制備還可通過以下步驟來進行使吡啶-4-甲醛(C)或吡啶-2-甲醛(D)分別與式(E)的鄰羥基苯胺(o-hydroxyaniline)鋅鹽在極性溶劑中以1∶1的比率反應以分別得到(K)或(L)，接著使被取代的吡啶部分與烷基化劑在極性溶劑中反應。
其中R2至R13和An-如上定義。X表示鹵素。
制備式(I)和(II)的染料的方法可由以下步驟描述(a)使(A)或(B)或(C)或(D)和(E)或(F)反應形成噻唑基吡啶(G)或(H)或(K)或(L)。
(b)使用稍微過量的烷基化劑使噻唑基吡啶(G)或(H)或(K)或(L)進行烷基化反應分別得到染料(I)或(II)。
(c)使用惰性溶劑和合適的反荷離子對化合物(I)或(II)進行陰離子交換。
(A)或(B)或(C)或(D)和(E)或(F)的縮合步驟(步驟(a))的優選的溶劑選自酮(丙酮、甲乙酮)、醇(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇)或鹵代溶劑(二氯甲烷、三氯甲烷)。
步驟(b)的優選的溶劑選自酮(丙酮、甲乙酮)、鹵代溶劑(二氯甲烷、二氯乙烷)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)。
步驟(c)的最優選的溶劑為甲乙酮、二氯甲烷、乙腈或2-丙酮(propanole)。
制備光學層本發明的光學層包含一種式(I)或(II)的染料或多種式(I)或(II)的染料的混合物。
制備本發明的光學層的方法包括以下步驟(a)提供底材；(b)將式(I)或(II)的一種染料化合物或多種染料化合物的混合物溶解于有機溶劑中，形成溶液；(c)將所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；(d)蒸發溶劑，形成染料層。
制備高密度光學記錄介質制備包含本發明的光學層的光學記錄介質的方法還包括以下步驟(e)將金屬層濺射在所述染料層上；(f)涂覆基于第二聚合物的層，制成所述光盤。
因此優選本發明的高密度數據存儲介質為可錄光盤，所述介質包含第一底材，為帶有凹槽的透明底材；記錄層(光學層)，使用式(I)或(II)的染料在所述第一底材表面上形成；反射層，在所述記錄層上形成；第二底材，為帶有凹槽的透明底材，通過附著層與所述反射層相連。
固體薄膜形式的式(I)或(II)的染料在吸收譜帶的較長波長一側折光指數高，優選在350-500nm范圍內峰值為2.0-3.0。式(I)或(II)的染料能在所需的光譜范圍內提供具有高反射率以及高靈敏度且重放特性好的介質。
(a)底材用作在其上涂覆各層的載體的底材最好為半透明的(T＞10％)，或優選為透明的(T＞90％)。所述載體的厚度可為0.01-10mm，優選為0.1-5mm。
合適的底材的實例有玻璃、礦物、陶瓷和熱固性或熱塑性塑料。優選的載體為玻璃和均聚或共聚塑料。合適的塑料的實例有熱塑性聚碳酸酯、聚酰胺、聚酯、聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯、聚氨酯、聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、聚酰亞胺、熱固性聚酯和環氧樹脂。
最優選的底材為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
所述底材可為純形式或還可包含常用的添加劑，例如在JP04/167239中提出的作為記錄層的光-穩定劑的UV吸收劑或染料。在加入染料的情況下，最好將染料加至載體底材上，使其最大吸收比記錄層的染料向藍移至少10nm，優選至少20nm。
所述底材在350-500nm的至少一部分范圍內最好為透明的，使得對寫或讀出波長的入射光的透過率至少為90％。
(b)有機溶劑有機溶劑選自C1-8醇、鹵素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、鹵素取代的C1-4烷烴或酰胺。
優選的C1-8醇或鹵素取代的C1-8醇的實例有甲醇、乙醇、異丙醇、雙丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇。
優選的C1-8酮的實例有丙酮、甲基異丁基酮、甲基乙基酮或3-羥基-3-甲基-2-丁酮。
優選的鹵素取代的C1-4烷烴的實例有氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷。
優選的酰胺的實例有二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
(c)記錄層優選記錄層(光學層)布置在透明的底材和反射層之間。記錄層的厚度為10-1000nm，優選為30-300nm，特別為約80nm，例如60-120nm。
使用式(I)或(II)的染料有利地得到折光指數高的均勻、無定形和低散射的記錄層。即使在固相，吸收邊緣也是令人驚訝地陡。其他優點為在目光和低功率密度激光輻射下光穩定性高，同時在高功率密度激光輻射下靈敏度高，筆跡寬度均勻，對比度高且熱穩定性和存儲穩定性也好。
除了包含單種式(I)或(II)的化合物，所述記錄層還可包含本發明的多種所述化合物的混合物。使用混合物，例如各種異構體或同系物的混合物以及不同結構的混合物，通常可提高溶解性和/或改進無定形的含量。
為了進一步提高穩定性，如果需要，還可加入常用量的已知的穩定劑，例如nickel dithiolate作為光穩定劑，如JP04/025493中所述。
所述記錄層包含一種式(I)或(II)化合物或多種所述化合物的混合物，優選加入的量足以顯著影響折光指數，例如至少為30％重量，更優選為至少60％重量，最優選為至少80％重量。
其他常用的組分的實例有其他發色團(例如WO-01/75873中公開的那些或最大吸收為300-1000nm的其他發色團)、穩定劑、1O2-、三線態-或發光-猝滅劑、熔點降低劑、分解加速劑或在光學記錄介質中已經描述過的任何其他添加劑。如果需要，優選加入穩定劑或熒光-猝滅劑。
當記錄層包含其他發色團時，原則上可為在記錄過程中可在激光輻射下分解或改變的任何染料，或者對激光輻射可為惰性的。當在激光輻射下其他發色團分解或改變時，可通過吸收激光輻射直接發生，或可通過本發明的式(I)或(II)化合物分解(例如熱分解)間接誘導發生。
當然，其他發色團或有色穩定劑可影響記錄層的光學性能。因此優選使用光學性能與式(I)或(II)化合物盡可能一致或盡可能不同的其他發色團或有色穩定劑，或者其他發色團的量保持很少。
當使用光學性能與式(I)或(II)化合物盡可能一致的其他發色團時，優選用于在最長波長范圍一側吸收的情況。優選其他發色團和式(I)或(II)化合物的轉化點的波長相距最大為20nm，特別為最大相距10nm。在那種情況下，其他發色團和式(I)或(II)化合物在激光輻射方面行為相似，使得可使用已知的記錄試劑作為其他發色團，其作用通過式(I)或(II)化合物協同提高。
當使用光學性能與式(I)或(II)化合物盡可能不同的其他發色團或有色穩定劑時，最好最大吸收比式(I)或(II)的染料向藍移或向紅移。在那種情況下，優選最大吸收相距至少50nm，特別為至少100nm。
其實例有相對于式(I)或(II)的染料向藍移的UV吸收劑或相對于式(I)或(II)的染料向紅移的有色穩定劑，最大吸收例如位于NIR或IR區。
為了以色碼鑒定(color-coded identification)、顏色遮蔽(“金剛石染料(diamond dye)”)或提高記錄層的美觀，還可加入其他染料。在所有的這些情況下，優選其他發色團或有色穩定劑的行為應對光和激光輻射盡可能為惰性的。
當為了改變式(I)或(II)化合物的光學性能而加入另一種染料時，其用量取決于待得到的光學性能。本領域的技術人員可毫無困難地變化其他染料與式(I)或(II)化合物的比率，直至得到所需的結果。
當發色團或有色穩定劑用于其他目的時，其用量應優選很小，使得在350-500nm范圍內對記錄層總吸收的貢獻最大為20％，優選最大為10％。在這種情況下，最好其他染料或穩定劑的量最大占記錄層重量的50％，優選最大占10％。
除了式(I)或(II)化合物以外，可用于記錄層的其他發色團見述于下述專利
但是，最優選不加入其他發色團，除非其為有色穩定劑。
穩定劑、1O2-、三線態一或發光-猝滅劑的實例有以下物質的金屬絡合物含N或含S的烯醇化物、酚鹽、雙酚鹽、硫醇鹽、雙硫醇鹽，或者偶氮、偶氮甲堿或甲 染料，例如雙(4-二甲基氨基二硫代偶苯酰基)鎳[CAS N°38465-55.3]。受阻酚及其衍生物，例如鄰-羥基苯基-三唑或鄰一羥基苯基-三嗪或其他UV吸收劑，例如受阻胺(TEMPO或HALS以及氮氧化物或NOR-HALS)，還有陽離子二茚(diimmonium)、ParaquatTM或Orthoquat鹽，例如Kayasorb IRG 022、Kayasorb IRG 040，任選還有自由基離子，例如N，N，N’，N’-四(4-二丁基氨基苯基)-對-亞苯基胺-六氟磷酸銨、六氟銻酸鹽或高氯酸鹽。后者得自Organica(Wolfen/DE)；Kayasorb商標得自Nippon Kayaku Co.Ltd。
本領域的技術人員從其他光學信息介質得知，或很容易地確定何種濃度的何種添加劑最適合于何種目的。添加劑的合適濃度例如為0.001-1000％重量，優選為1-50％重量(％重量，基于式(II)的記錄介質計算)。
(e)反射層適用于反射層的反射材料特別包括對用于記錄和重放的激光輻射有很好反射的金屬，例如元素周期表的主族III、IV和V和副族的金屬。特別合適的有Al、In、Sn、Pb、Sb、Bi、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Hg、Sc、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu及其合金。由于反射率高和易制備，特別優選鋁、銀、銅、金或其合金的反射層。
(f)覆蓋層/保護層適用于覆蓋層/保護層的材料包括塑料，直接或借助粘附層間接以薄層覆于載體或最上層。最好選擇表面性能好的機械和熱穩定的塑料，可對該塑料進行進一步修飾。
所述塑料可為熱固性塑料和熱塑性塑料。優選輻射固化的(例如使用UV輻射)保護層，這樣的保護層特別簡單且制備很經濟。多種可輻射固化的材料為已知的。可輻射固化的單體和低聚物的實例有二醇、三醇和四醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、芳族四羧酸的聚酰亞胺和在氨基的至少兩個鄰位具有C1-C4烷基的芳族二胺，以及與二烷基順丁烯二酰亞氨基(例如二甲基順丁烯二酰亞氨基)的低聚物。
本發明的記錄介質還可具有其他層，例如干涉層。還可構造具有多層(例如兩層)記錄層的記錄介質。所述結構和所述材料的用途為本領域的技術人員已知的。如果存在干涉層，優選干涉層布置在記錄層和反射層之間和/或布置在記錄層和底材之間，并且干涉層由介電材料組成，例如EP 0 353 393中所述的TiO2、Si3N4、ZnS或有機硅樹脂。
本發明的記錄介質可采用本領域已知的方法制備。
涂布方法合適的涂布方法的實例有浸漬、傾涂、刷涂、刮涂和旋涂以及在高真空下進行的蒸汽淀積法。當使用傾涂法時，通常使用在有機溶劑中的溶液。當使用溶劑時，應注意所使用的載體對那些溶劑不敏感。合適的涂布方法和溶劑例如見述于EP-A-401 791。
優選采用旋涂用染料溶液涂覆記錄層，已證明令人滿意的溶劑優選為醇，例如2-甲氧基乙醇、正丙醇、異丙醇、異丁醇、正丁醇、戊醇或3-甲基-1-丁醇，或優選氟化的醇，例如2，2，2-三氟乙醇或2，2，3，3-四氟-1-丙醇、八氟戊醇及其混合物。應理解的是還可使用其他溶劑或溶劑混合物，例如EP-A-511 598和EP-A-833 316中所述的那些。還可使用醚(二丁基醚)、酮(2，6-二甲基-4-庚酮、5-甲基-2-己酮)或飽和或不飽和的烴(甲苯、二甲苯)，例如為混合物形式(例如二丁基醚/2，6-二甲基-4-庚酮)或混合的組分形式。
為了發現能得到高品質同時高性價比的包含所選固體組分的記錄層的溶劑或溶劑混合物，旋涂領域的技術人員通常常規地試用所有他熟悉的溶劑及其二元和三元混合物。在這種最優化方法中，可使用已知的工藝方法，使得可進行的實驗次數最少。
因此本發明涉及一種制備光學記錄介質的方法，其中將有機溶劑中的式(I)或(II)化合物的溶液涂覆于具有凹坑的底材。優選采用旋涂進行涂覆。
優選采用濺射、真空蒸汽淀積或化學蒸汽淀積(CVD)來涂覆金屬反射層。由于與載體的粘附程度高，特別優選采用濺射技術涂覆金屬反射層。這種技術為已知的并描述于專業文獻(例如J.L.Vossen和W.Kern，“Thin Film Processes”，Academic Press，1978)。
讀出方法本發明的記錄介質的結構主要取決于讀出方法、已知的工作原理包括測定透射的變化或優選反射的變化，但是還已知例如用測定熒光來代替測定透射或反射。
當構造反射變化的記錄材料時，可采用以下結構透明的載體/記錄層(任選多層)/反射層，在適當的情況下，保護層(不必是透明的)；或載體(不必是透明的)/反射層/記錄層，在適當的情況下，透明的保護層。在第一種情況下，光從載體一側入射，而在后一種情況下，輻射從記錄層一側入射或者，在適當的情況下，從保護層一側入射。在兩種情況下，光探測器置于與光源相同的一側。本發明通常優選使用記錄材料的第一種結構。
當構造光透射變化的記錄材料時，可考慮以下不同的結構透明的載體/記錄層(任選多層)，在適當的情況下，透明的保護層。用于記錄和讀出的光可從載體一側或從記錄層一側入射，在適當的情況下，從保護層一側入射，在這種情況下，光探測器總是位于相反的一側。
合適的激光的波長為350-500nm，例如市售的波長為405-414nm的激光，特別是半導體激光。根據標記的長度調制激光并將輻射聚焦于記錄層進行例如點對點記錄。從專業文獻得知目前正開發適用的其他方法。
本發明的方法使得信息的存儲安全穩定性高，突出之處在于機械和熱穩定性非常好、光穩定性好和凹坑的邊界區域清晰。特別的優點包括對比度高、起伏小和信號/噪聲比令人驚訝地高，使得讀出性優異。
根據本領域已知的方法，通過記錄使用激光輻射時吸收或反射的變化來讀出信息，例如在“CD-Player and R-DAT Recorder”(ClausBiaesch-Wiepke，Vogel Buchverlag，Würzburg 1992)所述的。
本發明的光學記錄介質優選為WORM型可錄光盤。可用作例如可播放的HD-DVD(高密度數字通用光盤)或Blu-ray、計算機的存儲介質或身份證和安全卡或用于生產衍射光學元件，例如全息圖。
因此，本發明涉及一種光學記錄、存儲和重放信息的方法，其中使用本發明的記錄介質。記錄和重放最好在350-500nm波長范圍內進行。
與本領域已知的染料相比，發現本發明的式(I)或(II)的新型染料提高了光敏性和對光和熱的穩定性。本發明的式(I)或(II)的新型染料的分解溫度為250-350℃。因此，這些化合物在有機溶劑中的溶解性極好，適于旋涂法制備光學層。
因此，本發明的一個很大的優點為在高密度可錄光盤的記錄層中使用這些新型化合物。
實施例所有基于噻唑基-吡啶的染料化合物均使用本領域已知的標準方法，尤其使用如上所述的反應來制備。
在下列實施例中，除非另外指出，否則“份”始終為重量份。
實施例1將13份吡啶-4-硫代酰胺懸浮于195份乙醇中。加入20份2-溴苯乙酮并且使混合物回流5小時。將粗產物過濾，用79份丙酮處理，在40℃下過濾且在80℃下真空干燥。加入100份氨水(13％)，在室溫下將混合物攪拌30分鐘，將產物過濾且用水洗滌。此后，將產物從250份含水甲醇(70％)中重結晶。得到15份4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶米色晶體。
實施例2-4下列化合物根據實施例1所述的方法來合成。
實施例2 (2)4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶實施例3
(3)4-[(4-甲氧基苯基)噻唑-2-基]吡啶實施例4 (4)4-[4-三氟甲基噻唑-2-基]吡啶實施例5將20份2-氨基-5-甲基苯硫酚鋅鹽在315份乙酸中回流并且用12.5份吡啶-4-甲醛處理。15分鐘后，將混合物冷卻到室溫，將其加到600份水中且攪拌1小時。將產物過濾且用水洗滌以產生22份6-甲基-2-吡啶-4-基-苯并噻唑。
實施例6根據實施例5所述的方法合成6-氯-2-吡啶-4-基-苯并噻唑。
實施例7將20份實施例1中所得的化合物和15份2-碘丙烷在158份丙酮中回流2小時。在室溫下，加入500份乙酸乙酯并且過濾沉淀得到0.7份碘化1-異丙基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)-吡啶。
UV-Vis(MeOH)λmax373nm；ε(λmax)31L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，20℃)＞50g/L；TGA(分解)＝270℃；MS(正模式)281(M+)，(負模式)127(I-)。
實施例8將85份實施例2中得到的化合物、277份碘甲烷和1200份2-丁酮在壓力容器中在100℃下攪拌8小時。將產物過濾，用乙酸乙酯洗滌并且干燥得到111份碘化1-甲基-4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶。
UV-Vis(MeOH)λmax359nm；ε(λmax)56L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)＞50g/L；1H-NMR(500MHz，CDCl3)δ＝1.40(9H)，4.71(3H)，7.35(1H)，8.46(2H)，9.35(2H)。
實施例9-11
下列化合物根據實施例8所述的方法來合成。
實施例9以實施例1的化合物為原料制備碘化1-甲基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶 UV-Vis(MeOH)λmax389nm；ε(λmax)32L·g-1cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)＞30g/L；TGA(分解)＝260℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝4.37(3H)，7.46(1H)，7.53(2H)，8.12(2H)，8.68(3H)，9.07(2H)。
實施例10以實施例3的化合物為原料制備碘化4-[4-(4-甲氧基-苯基)-噻唑-2-基]-1-甲基-吡啶 UV-Vis(MeOH)λmax403nm；ε(λmax18.3L·g-1cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)＞50g/L；TGA(分解)＝250℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝3.83(3H)，4.37(3H)，7.07(2H)，8.05(2H)，8.52(1H)，8.66(2H)，9.05(2H)。
實施例11以實施例3的化合物為原料制備
碘化1-異丙基-4-[4-(4-甲氧基-苯基)-噻唑-2-基]-1-甲基-吡啶 UV-Vis(MeOH)λmax405nm；ε(λmax)19.4L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)＞50g/L；TGA(分解)＝240℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝1.65(6H)，3.83(3H)，5.07(1H)，7.08(2H)，8.06(2H)，8.53(1H)，8.66(2H)，9.25(2H)。
實施例12將10份實施例6中得到的化合物和7份硫酸二甲酯在100℃下攪拌30分鐘。在室溫下，加入100份水和12份碘化鉀并且過濾產物。將產物用水洗滌并且干燥得到11份碘化1-甲基-4-(6-氯-苯并噻唑-2-基)吡啶 UV-Vis(MeOH)λmax351nm；ε(λmax)46L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)＞50g/L；TGA(分解)＝244℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝4.41(3H)，7.74(1H)，8.26(1H)，8.55(1H)，8.75(2H)，9.13(2H)。
實施例13將2.5份實施例8的碘化1-甲基-4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶和6.3份以三乙銨作為反荷離子的鈷絡合物混合到50份乙腈中。接著將混合物在回流下攪拌12小時。將混合物冷卻到25℃，過濾并且用乙腈洗滌。將紫紅色壓濾餅干燥，得到最終染料，產率為95％。
UV-Vis(CH2Cl2)λmax512nm；ε(λmax)55.0L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，25℃)20g/l；DSC(分解)=341℃；放熱(W/g)＝15；在旋涂盤上(On spin coated disc)n(405nm)＝1.61，k(405nm)＝0.26。
實施例14將2.0份實施例9的碘化1-甲基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶錨和7.2份以三乙銨作為反荷離子的鈷絡合物混合到50份乙腈中。接著將混合物在回流下攪拌12小時。將混合物冷卻到25℃，過濾并且用乙腈洗滌。將紫紅色壓濾餅干燥，得到最終染料，產率為90％。
UV-Vis(CH2Cl2)λmax479nm；ε(λmax)50L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，25℃)20g/l；DSC(分解)＝322℃；放熱(W/g)＝6；在蘊涂盤上n(405nm)＝1.58，k(405nm)＝0.34。
應用實施例研究基于噻唑基吡啶的染料化合物的光學和熱性質。在所要波長下，所述染料顯示高吸收。另外，吸收光譜的形狀(對光盤反射率和清晰標記邊緣的形成仍為關鍵)由一個主帶組成，所述主帶的范圍在350-500nm范圍內，優選在350-400nm范圍內。
更明確地說，估計折射率n值為1.0-2.7(見實施例13、14)。可發現用于光學數據記錄時光穩定性與用淬滅劑穩定的市售染料相當。
在所需溫度范圍內熱分解的明顯閾值表征了認為適用于光學數據記錄的光學層的所述新噻唑基吡啶基染料。
結論是，所述基于噻唑基吡啶的染料化合物的技術規范在主要為工業上將染料用于光數據記錄，尤其用于下一代在藍激光范圍內的光數據記錄介質所需的技術規范內。
權利要求
1.一種光學層，所述光學層包含至少一種式(I)或(II)的染料化合物 其中R1表示直鏈或支鏈C1-12烷基，R2至R5彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R2和R3，R4和R5，R3和R4(僅對(II)來說)可形成飽和或不飽和碳環或雜環五元或六元環，所述雜環可另外含有氧或其他氮作為環成員，R6至R7彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；直鏈或支鏈C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C6-12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；或R6和R7可形成碳環六元環以得到由式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物 其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有機陰離子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
2.權利要求1的光學層，其中R1表示直鏈或支鏈C1-12烷基，R2至R5彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R2和R3，R4和R5，可形成飽和或不飽和碳環或雜環五元或六元環，所述雜環可另外含有氧或其他氮作為環成員，R6至R7彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；或R6和R7可形成碳環六元環以得到由權利要求1所定義的式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有機陰離子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
3.權利要求1的光學層，其中R1表示直鏈或支鏈C1-6烷基，R2至R5表示氫，R6表示氫、氰基(-CN)、鹵素、硝基(NO2)、羥基、直鏈或支鏈C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；直鏈或支鏈C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、c1-8烷基或C6-12芳基；CX3，其中X可為氯、氟、溴；C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、鹵素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；R7表示氫，或R6和R7可形成碳環六元環以得到由權利要求1所定義的式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此獨立地表示氫、氰基(-CN)、鹵素、C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羥基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9獨立為氫、C1-8烷基或C6-12芳基；An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氟離子、溴離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根；或An-還可為基于鈷金屬的陰離子偶氮金屬絡合物。
4.權利要求1的光學層，其中所述染料化合物為式(I)的染料化合物，且R1表示直鏈或支鏈C1-6烷基，R2至R5表示氫，R6表示氫、甲基、乙基、苯基、4-甲氧基苯基、叔丁基、三氟甲基，R7表示氫，或R6和R7可形成碳環六元環以得到由權利要求1所定義的式(III)表示的式(I)的化合物，其中R10、R12和R13表示氫，并且R11表示甲基或氯，An-表示反荷陰離子，選自無機陰離子，例如碘離子、氯離子、高氯酸根、六氟銻酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根或下式的陰離子偶氮鈷絡合物
5.一種光學層，所述光學層包含至少兩種權利要求1-4所定義的式(I)或式(II)的染料化合物的混合物。
6.一種制備權利要求1-5的光學層的方法，所述方法包括以下步驟(a)提供底材；(b)將權利要求1-4所定義的式(I)或(II)的一種染料化合物或多種染料化合物的混合物溶解于有機溶劑中，形成溶液；(c)將所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；(d)蒸發溶劑，形成染料層。
7.權利要求6的方法，其中所述底材為聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
8.權利要求6的方法，其中所述有機溶劑選自C1-8醇、鹵素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、鹵素取代的C1-4烷烴或酰胺。
9.一種光學記錄介質，所述光學記錄介質包括權利要求1-5的光學層。
10.一種式(V)、(VI)或(VIII)的染料化合物 其中R1選自甲基、乙基、正丙基或異丙基；R6選自叔丁基、甲氧基或CF3；R11選自氫；氰基；C1-8烷基，優選甲基；鹵素，優選Cl；An-如上定義。
全文摘要
本發明涉及基于噻唑基－吡啶的染料(I)和(II)在光學層中用于光學數據記錄，優選利用波長高達450nm的激光用于光學數據記錄的用途。本發明還涉及能用藍色激光的輻射記錄和復制信息的一次性寫入多次讀出(WORM)型光學數據記錄介質，該光學記錄介質的光學層中使用基于噻唑基－吡啶類型的染料。本發明還涉及式(V)、(VI)或(VIII)的新的基于噻唑基－吡啶的染料。
文檔編號G11B7/246GK101023139SQ200580029504
公開日2007年8月22日 申請日期2005年8月31日 優先權日2004年9月2日
發明者A·韋斯 申請人:克萊里安特財務(Bvi)有限公司