專利名稱：自旋支架的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于測試磁頭或磁盤(disk)的自旋支架，特別地涉及具有底座以及通過滾動軸承與底座相連接的平臺的自旋支架。
背景技術：
在用于對作為硬盤驅動器的構成要素的磁頭和磁盤中的至少一個進行測試的裝置中，使用了自旋支架(例如，參照日本專利文獻特表2003-515859號公報的圖1，日本專利文獻特開2001-101853號公報的第5頁，以及日本專利文獻特開平6-150269號公報的第4頁)。
自旋支架是使磁盤旋轉，并相對于旋轉的磁盤來對磁頭進行相對定位的裝置。作為主要的結構元件，自旋支架包括底座、磁盤旋轉裝置以及定位裝置。磁盤旋轉裝置和定位裝置被安裝在底座上。定位裝置包括支撐磁頭的平臺、使平臺移動的驅動裝置，以及用于檢測平臺位置的位置檢測裝置。并且，平臺通過軸承被安裝在底座上。
平臺在不同于驅動裝置的力的外力的作用下會產生擾動。當前正在探求使自旋支架中的磁頭的定位精度在2～3毫微米以下。因此，在自旋支架中，為了維持所要求的定位精度，在將平臺移到預期位置之后使平臺固定在底座上，由此來穩定磁頭的位置。作為將平臺固定在底座上的代表性裝置有氣動卡盤(例如，參照日本專利文獻特表2003-515859號公報的第九頁以及日本專利文獻特開2001-101853號公報的第五頁)。
在自旋支架中，當通過滾球軸承等滾動軸承來連接底座和平臺時，在定位之后的平臺的位置穩定性方面會有問題。首先，通過板簧而被安裝在平臺上的氣動卡盤吸附在底座上，由此通過滾球軸承而連接到底座上的線性平臺被間接地固定在底座上。板簧雖然主要在一特定方向上變形，但在其它方向上仍會有輕微變形。從而使得氣動卡盤和平臺的相對位置關系并不穩定。此外，由于在以往的自旋支架中沒有采用旋轉式支架的示例，因此沒有將旋轉式支架固定在底座上的在先技術。簡而言之，當前在通過滾動軸承來連接底座和平臺的自旋支架中，沒有一種將平臺穩定地固定到底座上的方法。然而，自旋支架所要求的定位精度卻在年年提高。另外，由于自旋支架是頻繁進行定位的裝置，因此也同時要求其要快速進行定位動作。
發明內容
因此，本發明的目的在于提供一種可將通過滾動軸承而被安裝在底座上的平臺高穩定性且快速地固定在所述底座上的自旋支架。
本發明的第一方式是一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，包括底座和通過滾動軸承而被安裝在所述底座上的平臺，所述自旋支架的特征在于具有固定裝置，該固定裝置通過與所述底座的吸附以及與所述平臺的吸附而與所述底座以及所述平臺成為一體，由此將所述平臺固定在所述底座上，并能夠控制與所述底座和所述平臺的一體化以及與所述底座和所述平臺的分離。
本發明的第二方式的特征在于，在本發明的第一方式中，所述固定裝置的通過吸附來連接所述底座和所述平臺的部分由非可動部分的固體來構成。
另外，本發明的第三方式的特征在于，在本發明的第一方式或本發明的第二方式中，還包括對所述固定裝置和所述底座的吸附狀態或所述固定裝置和所述平臺的吸附狀態進行確認的裝置。
另外，本發明的第四方式的特征在于，在本發明的第一方式、本發明的第二方式或本發明的第三方式中，在所述固定裝置和所述底座以及所述平臺結合成為一體之后，所述固定裝置和所述底座相吸附的力以及所述固定裝置和所述平臺相吸附的力與結合成為一體之前相比有所減弱。
另外，本發明的第五方式的特征在于，在本發明的第一方式、本發明的第二方式、本發明的第三方式或本發明的第四方式中，所述平臺具有第一磁性體，所述底座具有第二磁性體，所述固定裝置具有在電磁力的作用下吸附在所述第一磁性體以及所述第二磁性體上的電磁鐵。
另外，本發明的第六方式的特征在于，在本發明的第五方式中，還具有當所述電磁鐵吸附在所述第一磁性體和所述第二磁性體上時，使所述電磁鐵與所述第一磁性體和所述第二磁性體分離開的裝置。
另外，本發明的第七方式的特征在于，在本發明的第一方式、本發明的第二方式、本發明的第三方式或本發明的第四方式中，所述平臺具有第一平滑面，所述底座具有第二平滑面，所述固定裝置具有可在氣壓的控制下而在所述第一平滑面以及所述第二平滑面上裝卸的氣動卡盤。
根據本發明，由于將非可動部分的固體吸附到底座和平臺上，因此可以強有力地將底座和平臺結合為一體，從而將平臺固定到底座上。另外，由于沒有對底座和平臺施壓，因此可以減輕附加到與底座和平臺相連的軸承部分等可動部分上的負荷。
另外，根據本發明，由于對底座和平臺的吸附狀態進行確認，因此可以穩定且可靠地發揮固定裝置的固定能力。
另外，根據本發明，由于強行將處于吸附狀態的電磁鐵分離，因此可以在預定時間內解除平臺的固定狀態。
另外，根據本發明，由于固定裝置吸附到平臺和底座上后，固定裝置的吸附力有所減弱，因此可以控制所需要的電能或抑制熱量的產生。由此，可以減輕例如對電磁鐵周邊的機械或電氣電路以及檢查對象的熱影響。
圖1是表示自旋支架100的上方斜視圖；圖2是表示自旋支架100的下方斜視圖；圖3是本發明的固定裝置300的截面圖；圖4是本發明的固定裝置300的截面圖；圖5是本發明的固定裝置300的截面圖；圖6是本發明的固定裝置400的截面圖；圖7是本發明的固定裝置400的截面圖；
圖8是表示自旋支架500的上方斜視圖；圖9是本發明的固定裝置700的截面圖；圖10是本發明的固定裝置700的截面圖。
具體實施例方式
下面根據附圖所示的優選實施方式對本發明進行說明。本發明的第一實施方式是用于檢查磁頭和磁盤中至少一個的自旋支架100。這里參照圖1和圖2。圖1是從上方斜視自旋支架100的圖。圖2是從下方斜視自旋支架100的圖。在圖2中，與圖1相同的元件被標注相同的參照編號。
自旋支架100具有底座110、磁盤旋轉裝置120、壓電平臺130以及旋轉平臺140。底座110具有頂板111和側板112。磁盤旋轉裝置120是用于使圖中未示出的磁盤旋轉的裝置。壓電平臺130是對磁頭200進行直線式精細定位的裝置，并被安裝在旋轉平臺140的頂板141上。壓電平臺130對磁頭200在箭頭A的方向上進行定位。該箭頭A的方向是與磁頭200的圖中未示出的間隙中心線相垂直的方向，或包含該方向的方向。旋轉平臺140通過滾動軸承150被安裝在底座110上。旋轉平臺140通過圖中未示出的驅動裝置和圖中未示出的位置檢測裝置對壓電平臺130在箭頭B的方向上進行旋轉定位。當對壓電平臺130進行了旋轉定位時，壓電平臺130的定位方向A也會有所變動。
此外，自旋支架100具有固定裝置300。固定裝置300是使用電磁鐵330將旋轉平臺140固定在底座110上的裝置。電磁鐵330磁力吸附在底座110和旋轉平臺140上并與之成為一體，由此將旋轉平臺140固定在底座110上。底座110具有用于吸附電磁鐵330的磁性板220。另外，旋轉平臺140具有用于吸附電磁鐵330的磁性板210。磁性板210和磁性板220為鐵制平板。
下面參照圖2和圖3。圖3是圖2中的C-C截面圖。圖3中和圖2相同的元件被標注了相同的參照編號。磁性板210的面211和磁性板220的面221之間無階梯差。另外，面211和面221與旋轉平臺140的旋轉軸相垂直。電磁鐵330以吸附面331與面211和面221相對的方式，通過板簧340被安裝在底座110上。電磁鐵330的吸附面331具有可同時與面211和面221緊密接觸的形狀。板簧340形成為橋形，且其端部341被固定在底座110上。此外，磁性板380被安裝在板簧340的安裝電磁鐵330的面的相反面上。磁性板380是鐵制平板。磁性板380和板簧340之間設有絕緣體370。絕緣體370例如由MC尼龍(商標)來成型形成。另外，通過支撐體360將電磁鐵350安裝在底座110上，使之與磁性板380相對。并且，電磁鐵350沒有被固定在磁性板380上。電磁鐵330和電磁鐵350通過圖中未示出的控制電路C來控制各自產生的磁力的打開/關閉和各自磁力的大小。控制電路C(圖中未示出)既可以是自旋支架100的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結構的固定裝置300的動作進行說明。圖3示出旋轉平臺140和底座110沒有被固定的狀態。該狀態為普通狀態。在這里，若對電磁鐵330施加電壓，則電磁鐵330在其產生的磁力的作用下吸附到磁性板210和磁性板220上。在這里參照圖4。雖然圖4和圖3相同，同樣也是圖2的C-C截面圖，但和圖3不同的是，電磁鐵330吸附到了磁性板210和磁性板220上。圖4中和圖3相同的元件被標注了相同的參照編號。在圖4中，磁性板210通過電磁鐵330被固定，使得與磁性板220成為一體。由于磁性板210被固定在旋轉平臺140上，而磁性板220被固定在底座110上，因此旋轉平臺140通過電磁鐵330而與底座110固定為一體。由于連接旋轉平臺140和底座110的電磁鐵330是非可動部分的一個固體，因此旋轉平臺140和底座110被強有力地結合成一體，從而可處于穩定的固定狀態。此外，由于電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上，因此不會因固定而向旋轉平臺140和底座110施加力。從而施加于旋轉平臺140的旋轉軸(圖中未示出)和滾動軸承150的負荷也很少。
如前所述，電磁鐵330的吸附面331具有可同時與面211和面221緊密接觸的形狀。因此，底座110和旋轉平臺140被強有力地結合成為一體。但是，若面211或面221與吸附面331之間有灰塵等，則面和面之間就不能達到完全地接觸，其結果是，旋轉平臺140和底座110的固定狀態就會變得不穩定。此外，當沒有精準控制電磁鐵330時，旋轉平臺140和底座110的固定狀態仍會不穩定。若在這樣的不穩定的固定狀態下，使壓電平臺130對磁頭200進行定位，則在驅動磁頭200的反作用力的作用下，旋轉平臺140有時會活動，在這種情況下旋轉平臺140和磁頭200就不會有高精度的定位。因此，本實施方式的固定裝置300通過給板簧340施加電壓以確認板簧340和磁性板220之間的導通狀態的方式來確認面221和吸附面331之間的接觸狀態。由此能夠確認磁性板210和電磁鐵330的吸附狀態以及磁性板220和電磁鐵330的吸附狀態，所以，可穩定地發揮固定裝置的固定能力。為了進行該導通確認，電磁鐵330和磁性板220具有導電性。并且，雖然也可以對磁性板210施加電壓來確認磁性板210和磁性板220之間的導通，但由于吸附面331具有可同時接觸面211和面221的形狀，所以難以考慮到吸附面331只和面211或面221中的一個面相接觸的情況。因此如上所述，足以確認面211或面221中的任一面和吸附面331的接觸狀態。
這里，電磁鐵330所產生的磁力線的路徑如圖5所示。圖中，電磁鐵330具有線圈332和磁心333。電磁鐵330的磁力由線圈332產生。當線圈332中有電流通過時，線圈332的中心附近為S極，外圍附近為N極。除了電磁鐵330與磁性板210以及磁性板220相對的面之外，磁心333覆蓋了電磁鐵330的全體。當電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上時，線圈332所產生的磁力線通過磁性板210和磁性板220而形成磁通量閉環334。此外，線圈332所產生的磁力線同樣與磁心333形成磁通量閉環(圖中未示出)。此外，磁性板210和磁性板220幾乎能夠覆蓋電磁鐵330的吸附面331的全部。從而當電磁鐵330吸附在磁性板210和磁性板220上時，線圈332所產生的磁力線不會泄漏到外部。此外，由于電磁鐵330的吸附面331以接近磁性板210和磁性板220的方式被配置，因此即使在電磁鐵330吸附到磁性板210和磁性板220上之前，線圈332所產生的磁力線也幾乎不會泄漏到外部。這對于檢查磁頭200等磁性元件的裝置是極為重要的。這是由于可以減輕檢查結果所受到的周圍電磁場的影響的緣故。
此外，電磁鐵330在吸附到磁性板210和磁性板220上之前產生強磁力，而在吸附之后所產生的磁力減弱。例如，當想要使電磁鐵330進行吸附時，給電磁鐵330施加20V電壓，而在吸附后將施加電壓下降到10V。這是由于若電磁鐵330吸附到了磁性板210和磁性板220上，則維持該吸附狀態所需的磁力與將要進行吸附時相比可以減小的緣故。通過這樣的對施加電壓的控制，可以降低電磁鐵330所產生的熱量。
下面對解除電磁鐵330的吸附狀態，即解除電磁鐵330和磁性板210的吸附狀態以及電磁鐵330和磁性板220的吸附狀態的操作進行說明。在圖4中，首先將施加到電磁鐵330上的電壓變為零。由于將施加到電磁鐵330上的電壓變為零并不意味著沒有了磁通量閉環334，因此可以維持電磁鐵330的吸附狀態。此外，當向電磁鐵330施加與吸附時相反的電壓時，也只是使圖5所示的磁通量閉環334的朝向相反，所以仍舊維持電磁鐵330的吸附狀態。因此，為了迅速解除電磁鐵330的吸附狀態，需要強行將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離。具體來說，由電磁鐵350來吸引磁性板380，從而將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離。其結果是，固定裝置300成為圖3所示狀態。并且，盡管圖中未示出，但電磁鐵350和電磁鐵330相同，具有線圈和磁心。而電磁鐵350和電磁鐵330不同的之處在于，雖然在吸附到磁性板380之前產生強磁力，但在吸附之后所產生的磁力變為零。若將電磁鐵330從磁性板210和磁性板220上分離，則在此之后，固定裝置300在板簧340的作用下回落到圖3所示的狀態，因此電磁鐵350沒有必要繼續產生磁力。并且，由于確保了磁性板380用于吸附的適當面積，并且電磁鐵350以接近磁性板380的方式被設置，因此可以抑制從電磁鐵350向外泄漏磁力線。該利用電磁鐵350的方法例如與在電磁鐵330上附帶上鉛錘，并在其重力的作用下進行分離的方法相比，能夠可靠地在確定的時間內進行分離，因此能夠穩定且高速地解除電磁鐵330的吸附狀態。
電磁鐵330和電磁鐵350產生磁場。該磁場有時成為測試磁頭200等磁性元件時產生誤差的主要原因。在自旋支架100中，由于在磁頭200和電磁鐵330以及電磁鐵350之間具有磁性板210，因此可以抑制磁場對磁頭200的測試的影響。
在第一實施方式中，面211和面221也可以有階梯差，且吸附面331也可以為與該階梯差相吻合的階梯狀。此外，面211、面221以及吸附面331也可以是曲面而不是平面。重要的是只要將其構成為可同時吸附即可，而對其形狀則并無要求。
下面對本發明的第二實施方式進行說明。本發明的第二實施方式為與圖1和圖2所示大體相同的、用于檢查磁頭或磁盤的自旋支架。但在本發明的第二實施方式中，在自旋支架100中使用固定裝置400以代替固定裝置300。并因該變動而去掉或改變了幾個元件。固定裝置400的特征在于，作為吸附裝置，其使用氣動卡盤來代替電磁鐵。
在這里，固定裝置400的截面圖如圖6所示。在圖6中，與圖2和圖3相同的元件被標注了相同的參照編號。在兩圖中，固定裝置400是使用吸附塊430將旋轉平臺140固定在底座110上的裝置。吸附塊430吸附在旋轉平臺140和底座110上而成為一體，由此將旋轉平臺140固定在底座110上。旋轉平臺140具有用于吸附塊430吸附的平滑板230。底座110具有用于吸附塊430吸附的平滑板240。平滑板230和平滑板240是鋁制平板。平滑板230和平滑板240分別具有平面度在5微米以下的平滑面231和平滑面241。平滑面231和平滑面241垂直于旋轉平臺140的旋轉軸。
吸附塊430具有氣動卡盤460和吸附面431。吸附塊430通過板簧340，以吸附面431與平滑面231和平滑面241相對的方式被安裝在底座110上。吸附塊430的吸附面431具有可同時吸附在平滑面231和平滑面241上的形狀。板簧340形成為橋形，且其端部341被固定在底座110上。并且，通過經由通氣道470而連接到氣動卡盤460上的給排氣裝置P(圖中未示出)來控制在氣動卡盤460中產生的氣壓的打開/關閉以及該氣壓的大小。給排氣裝置P(圖中未示出)既可以是自旋支架100的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結構的固定裝置400的動作進行說明。圖6示出旋轉平臺140和底座110沒有被固定的狀態。該狀態為固定裝置400的普通狀態。在這里，通過給排氣裝置P(圖中未示出)的作用使得氣動卡盤460吸氣。這樣在氣動卡盤460中就會產生負壓。吸附塊430在所產生的負壓的作用下吸附到平滑板230和平滑板240上。這里參照圖7。雖然圖7和圖6相同，也是固定裝置400的截面圖，但和圖6不同的是，吸附塊430吸附到平滑板230和平滑板240上。圖7中和圖6相同的元件被標注了相同的參照編號。在圖7中，平滑板230通過吸附塊430與平滑板240被固定成一體。由于平滑板230被固定在旋轉平臺140上，平滑板240被固定在底座110上，因此旋轉平臺140通過吸附塊430與底座110被固定成一體。由于連接旋轉平臺140和底座110的吸附塊430是非可動部分的一個固體，因此旋轉平臺140和底座110被強有力地結合成一體，從而可處于穩定的固定狀態。此外，由于吸附塊430吸附在旋轉平臺140和底座110上，因此不會因固定而向旋轉平臺140和底座110施加力。從而，施加于旋轉平臺140的旋轉軸(圖中未示出)和滾動軸承150的負荷也很少。
如前所述，吸附塊430的吸附面431具有可同時與平滑面231和平滑面241緊密接觸的形狀。由此，旋轉平臺140和底座110被強有力地結合成一體。但是，若平滑面231或平滑面241與吸附面431之間有灰塵等，則面和面之間就不能達到完全地接觸，其結果是，旋轉平臺140和底座110的固定狀態就會變得不穩定。此外，當沒有精準控制氣動卡盤460時，旋轉平臺140和底座110的固定狀態仍會不穩定。若在這樣的不穩定的固定狀態下使壓電平臺130對磁頭200進行定位，則在驅動磁頭200的反作用力的作用下，旋轉平臺140有時會活動，在這種情況下旋轉平臺140和磁頭200就不會有高精度的定位。因此，本實施方式的固定裝置400通過確認給排氣裝置P(圖中未示出)的負荷狀態來確認平滑面231和吸附面431的接觸狀態以及平滑面241和吸附面431的接觸狀態。這是利用了完全接觸和不完全接觸時附加到給排氣裝置P(圖中未示出)上的負荷的大小有所不同這一點。由此，固定裝置400的固定能力得以穩定地發揮。
此外，吸附塊430在吸附到平滑板230和平滑板240上之前產生強負壓，而在吸附之后所產生的負壓可以減弱。這是由于當吸附塊430吸附到平滑板230和平滑板240上時，維持該吸附狀態所需的負壓與將要吸附時相比可以減小的緣故。當然，在吸附后所產生的負壓也可以不減小。
下面對解除吸附塊430的吸附狀態，即解除平滑板230和吸附塊430的吸附狀態以及平滑板240和吸附塊430的吸附狀態的操作進行說明。在圖7中，在給排氣裝置P(圖中未示出)的作用下而從氣動卡盤460噴氣。這樣就在氣動卡盤460中產生正壓。吸附塊430在該產生的正壓的作用下從平滑板230和平滑板240上分離。解除吸附塊430的吸附狀態的固定裝置300如圖6所示。若將吸附塊430從平滑板230和平滑板240上分離，則在此之后的固定裝置400回落到圖6所示的狀態，因此氣動卡盤460沒有必要繼續產生正壓。使用該氣動卡盤460的解除方法與使用電磁鐵的情況相同，由于能夠可靠地在確定的時間內對吸附塊430進行分離，因此能夠穩定且高速地解除吸附塊430的吸附狀態。此外，該使用氣動卡盤460的方法與使用電磁鐵的情況相比，不需要追加用于解除吸附塊430的吸附狀態的裝置。另外，該使用氣動卡盤460的方法難以對磁頭的檢查結果產生影響。
下面對本發明的第三實施方式進行說明。本發明的第三實施方式是用于對磁頭和磁盤中至少一方進行檢查的自旋支架500。這里參照圖8。圖8是從上方斜視自旋支架500的圖。
自旋支架500具有底座510和線性平臺520。底座510具有頂板511和在頂板511上直立的支柱512以及支柱513。支柱512在其上部具有磁性板611。支柱513在其上部具有磁性板612。在磁性板611的上面安裝有作為滾動軸承的一個示例的直線導軌531。在磁性板612的上面安裝有作為滾動軸承的一個示例的直線導軌532。線性平臺520被直線導軌531和直線導軌532支撐，并由驅動源540在箭頭D的方向上定位。此外，線性平臺520在其下側具有磁性板620。
下面參照圖9和圖10。圖9是圖8的E-E截面圖。圖10是圖9的F-F截面圖。在圖9中和圖8相同的元件被標注了相同的參照編號。此外，在圖10中和圖9相同的元件被標注了相同的參照編號。自旋支架500具有固定裝置700。固定裝置700是使用電磁鐵710和電磁鐵750而將線性平臺520固定在底座510上的裝置。電磁鐵710吸附在磁性板611和磁性板620上而成為一體，電磁鐵750吸附在磁性板612和磁性板620上而成為一體。固定裝置700在這些部件一體化的作用下將旋轉平臺140固定在底座110上。
電磁鐵710通過板簧720被安裝在底座510上。電磁鐵750通過板簧760被安裝在底座510上。電磁鐵710具有可同時吸附在磁性板611和磁性板620上的形狀。電磁鐵750具有可同時吸附在磁性板612和磁性板620上的形狀。板簧720形成為橋形，且其端部721被固定在底座510上。板簧760形成為橋形，并被固定在底座510上。此外，磁性板730被安裝在板簧720的安裝電磁鐵710的面的相反面上。磁性板770被安裝在板簧760的安裝電磁鐵750的面的相反面上。磁性板730和磁性板770是鐵制平板。磁性板730和板簧720電絕緣。磁性板770和板簧760電絕緣。另外，電磁鐵740以與磁性板730相對的方式被安裝在底座510上。而電磁鐵780以與磁性板770相對的方式被安裝在底座510上。電磁鐵710、電磁鐵740、電磁鐵750以及電磁鐵780通過圖中未示出的控制電路G來控制各自產生的磁力的打開/關閉和各自磁力的大小。控制電路G(圖中未示出)既可以是自旋支架500的一部分，也可以是外部裝置。
下面對上述結構的固定裝置700的動作進行說明。圖9和圖10示出線性平臺520和底座510沒有被固定的狀態。該狀態為普通狀態。在這里，當對電磁鐵710和電磁鐵750施加電壓時，電磁鐵710磁力吸附到磁性板611和磁性板620上，而電磁鐵750磁力吸附到磁性板612和磁性板620上。電磁鐵710、磁性板611、磁性板612以及磁性板620具有導電性。由此和第一實施方式相同，電磁鐵710與磁性板611和磁性板620的吸附狀態以及電磁鐵750與磁性板612和磁性板620的吸附狀態可以進行電氣確認。由于磁性板620被固定在線性平臺520上，磁性板611和磁性板612被固定在底座510上，因此線性平臺520通過電磁鐵710和電磁鐵750而與底座510固定為一體。由于連接線性平臺520和底座510的電磁鐵710以及電磁鐵750是非可動部分的一個固體，因此線性平臺520和底座510被強有力地結合成一體，從而處于穩定的固定狀態。此外，也不會因固定而向線性平臺520和底座510施壓。另外，電磁鐵710和電磁鐵750在吸附到磁性板620等上之前產生強磁力，而在吸附之后減弱所產生的磁力。當解除電磁鐵710和電磁鐵750的吸附狀態時，向電磁鐵710和電磁鐵750施加的電壓變為零，并由電磁鐵740和電磁鐵780將電磁鐵710和電磁鐵750強行從磁性板620等上分離。
在第一實施方式和第三實施方式中，由于磁性板只要是電磁鐵可以吸附的磁性體即可，因此也可以由鎳或鈷來制成，而并不僅限于鐵。
此外在第二實施方式中，由于平滑板只要是吸附塊可以吸附的光滑的平面即可，因此也可以由鐵等其它金屬或樹脂等制成，而不僅限于鋁。
另外，在從第一實施方式到第三實施方式中的各個實施方式中，吸附狀態的確認也可以采用光學方法或機械方法，而不僅限于電氣方法。
另外，在從第一實施方式到第三實施方式中的各個實施方式中，吸附部分的形狀不是必須為平面。
另外，在從第一實施方式到第三實施方式中的各個實施方式中，由于絕緣體只要是具有電絕緣效果的材料即可，因此也可以由半導體或橡膠等來制成。
另外，在從第一實施方式到第三實施方式中的各個實施方式中，固定裝置也可以不依靠電磁力和負壓，而是采用其它的吸附方法。
權利要求
1.一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，包括底座和通過滾動軸承而被安裝在所述底座上的平臺，所述自旋支架的特征在于，其具有固定裝置，該固定裝置通過與所述底座的吸附以及與所述平臺的吸附而與所述底座以及所述平臺成為一體，由此將所述平臺固定在所述底座上，并能夠控制與所述底座和所述平臺的一體化以及與所述底座和所述平臺的分離。
2.如權利要求1所述的自旋支架，其特征在于，所述固定裝置的通過吸附來連接所述底座和所述平臺的部分由非可動部的固體來構成。
3.如權利要求1或2所述的自旋支架，其特征在于，還包括對所述固定裝置和所述底座的吸附狀態或所述固定裝置和所述平臺的吸附狀態進行確認的裝置。
4.如權利要求1至3中任一項所述的自旋支架，其特征在于，在所述固定裝置和所述底座以及所述平臺結合成為一體之后，所述固定裝置和所述底座相吸附的力以及所述固定裝置和所述平臺相吸附的力與結合成為一體之前相比變小了。
5.如權利要求1至4中任一項所述的自旋支架，其特征在于，所述平臺具有第一磁性體，所述底座具有第二磁性體，所述固定裝置具有在電磁力的作用下吸附在所述第一磁性體以及所述第二磁性體上的電磁鐵。
6.如權利要求5所述的固定裝置，其特征在于，還包括當所述電磁鐵吸附到所述第一磁性體和所述第二磁性體上時，將所述電磁鐵從所述第一磁性體和所述第二磁性體上分離的裝置。
7.如權利要求1至4中任一項所述的自旋支架，其特征在于，所述平臺具有第一平滑面，所述底座具有第二平滑面，所述固定裝置具有可通過氣壓的控制而在所述第一平滑面以及所述第二平滑面上裝卸的氣動卡盤。
全文摘要
本發明是一種用于測試磁頭或磁盤的自旋支架，該自旋支架包括底座和通過滾動軸承連接在底座上的平臺，并可將平臺快速且高穩定性地固定在底座上。在本發明的自旋支架中，固定裝置被吸附連接到底座和平臺上，從而將平臺固定到底座上。
文檔編號G11B5/84GK1813287SQ20048001785
公開日2006年8月2日 申請日期2004年6月23日 優先權日2003年6月25日
發明者石本英司 申請人:安捷倫科技有限公司