專利名稱：光盤驅動聚焦設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及光盤驅動聚焦設備，更具體地說，涉及用于向光盤驅動器內動臂機構提供信號，讓光學系統聚焦在所述光盤驅動器內的光盤上的系統。
背景技術：
當向CD的數據面進行數據讀寫時，通常使用FES(聚焦誤差信號)來提供閉環反饋電路工作所需的信息，以便使光學拾取裝置(OPU)聚焦在塑料層的上表面的數據坑點上。
然而，新出現的技術允許將數據寫入CD的標記側，由此產生圖像、文本和/或圖形。可惜的是，傳統上不能有效地利用FES來聚焦在光盤的標記側。
初期在光盤標記側聚焦的困難在于FES所提供的信噪比低，部分原因是來自用來覆蓋光盤標記側的介質性質。由于信噪比低，傳統在閉環電路結構中使用FES不能為動臂機構聚焦線圈提供有效的信號，產生在預期的焦點(即光盤表面)的會聚。
在傳統方式中使用FES信號的第二個困難在于OPU配置成具有固定聚點，比起光盤的標記側，所述固定焦點離開激光器和光學系統更遠。這是因為OPU的設計成聚焦在形成于光盤內部的數據坑點上，離開光盤數據面表面約1.2mm。因此，激光器和光學系統在所述靜止位置是離焦的。
而且，光盤在光盤驅動器內的傾斜以及光盤的厚度的變化產生聚焦誤差，所述聚焦誤差往往以光盤旋轉一圈重復一次的正弦變化的形式出現。同樣，光盤的翹曲也造成聚焦誤差，所述聚焦誤差以光盤旋轉一圈重復兩次的正弦變化的形式出現。在沒有有效的閉環反饋電路的情況下，當把圖像標記到光盤的標記側時，這些聚焦誤差源會導致工作性能大為降低。
因此，需要一種把OPU聚焦在標記側的新的、經過改進的聚焦系統和方法。
發明內容
一種用于向光盤驅動器的光學拾取裝置的動臂機構提供動臂機構控制信號的系統把光學系統聚焦在光盤上面。在一個實施例中，通過對FES(聚焦誤差信號)取樣來獲取誤差項。根據自適應系數換算所述誤差項，所述自適應系數調整誤差項修正動臂機構控制信號的比例。動臂機構控制信號發生器產生動臂機構控制信號來控制動臂機構的運動，其中，所述動臂機構控制信號是動臂機構先前位置、誤差信號和自適應系數的函數。
下面的詳細說明將參照附圖進行。在附圖中，標號最左面的數位標識所述標號首先在其中出現的附圖。而且，在所有附圖中使用相同的標號來標記相同的特征和元件。
圖1是光盤驅動器示范實施例的示意圖。
圖2是圖1所示的光盤驅動器示意圖中固件內含有的前饋引擎示范實施例的方框圖。
圖3是光盤的視圖，說明將光盤劃分為多個扇區的范例。
圖4是前饋引擎各部分的示范實施例的方框圖。
圖5是說明在光學驅動器內聚焦光學系統示范實施例的流程。
圖6是四路傳感器的示意圖，說明對準焦點的狀態。
圖7和圖8是類似于圖6的示意圖，其中，四路傳感器檢測到離焦狀態，在所述離焦狀態下光學系統相對于所述焦點聚焦得太接近或太遠。
具體實施例方式
圖1顯示示范的光盤驅動器和光盤控制系統100的示意圖。將具有信息面104的光盤102這樣取向，以便確定用于標記的標記面106的位置。所述光盤由盤或受控于主軸控制器110的主軸電動機108驅動旋轉。激光束112通過光學系統，例如透鏡114投射到光盤102的標記面106的敷層表面。激光束116由滑板118承載，在滑板電動機120驅動下沿著徑向運動。典型的應用是，滑板電動機120驅動滑板118，載著激光器116，以步進方式沿著滑板控制器122指示的方向從標記區域的徑向內邊緣向標記區的徑向外邊緣運動。
激光器控制器124控制激光器116和關聯的跟蹤線圈和傳感器的操作。在圖1所示的實例中，四路傳感器126一般包含4個傳感器，并且設計成通常部分地通過檢測激光器與光盤的距離來促進聚焦。參閱圖6-8就可以明白四路聚焦傳感器的工作。在圖6中可以看到標號為A-D的4個傳感器。四路傳感器的的輸出可以用來既形成FES(聚焦誤差信號)又形成SUM信號。FES信號的定義是FES＝(VA+VC)-(VB+VD)，其中VA是傳感器的電壓，等等。SUM信號的定義是SUM＝VA+VB+VC+VD。在一般圓形的配置中可以看到反射光700，這意味著每個傳感器所受到的影響相似。因此，FES信號近似為0伏。圖7和圖8說明如下情況反射光800和900表明所述光學系統在所述焦點之前和之后面。4個傳感器的輸出結合起來形成SUM信號，(或利用對角線的差值用來形成FES信號)，這兩種情況下面都要討論到。動臂機構聚焦線圈128的配置成可以調節光學系統114來令激光器116聚焦在靠近或者離開光盤102的點上。
控制器130控制示范的光盤驅動器和控制器系統100。具體地說，控制器130配置成執行例如在固件102中包含的程序語句。
圖2示出示范的前饋引擎200，它可以由固件132所含的程序語句形成，由處理器或控制器130執行。前饋引擎200接收一個或多個輸入信號并提供動臂機構控制信號202作為輸出信號，所述輸出信號饋送到動臂機構線圈128(圖1)，以便控制激光器116、光學系統114和關聯的組件的聚焦。示范的前饋引擎200接收包括來自四路聚焦傳感器126(圖1)的FES(聚焦誤差信號)信號204、SUM信號203(也來自四路聚焦傳感器)和描述光盤驅動器100(圖1)內光盤102(圖1)的角度取向的角度Θ206的輸入信號。在某些實施例中，還向前饋引擎提供系數Mu 208。下面還會非常詳細地說明，系數Mu用來平衡FES信號204修正施加給動臂機構聚焦線圈128的電流電壓的比例。其重要性一部分是由于FES信號當被用來聚焦在光盤102的標記面106的時候通常都帶有噪聲；一部分是由于FES原來沒有打算用來把激光器光學系統聚焦在光盤102的標記面106，因此使用高帶寬反饋環的標準工作方式不能很好地工作。所以，利用一個或多個因子，如Mu對FES進行換算。通過了解如果允許FES信號過分影響輸入到動臂機構線圈128的當前電壓值則動臂機構線圈128可能劇烈擺動而不能會聚、即不能將激光器聚焦到光盤的標記面96，就可以完全理解輸入信號MU 208的價值了。這在很大程度上是由當聚焦在光盤102表面106的涂層上而不是像正常聚焦情況那樣聚焦在光盤內部的數據坑點上時遇到的差異引起的。最壞的情況是，如果Mu不用來衰減由FES信號值的強烈擺動所帶來的變化，那么，焦點可能離開FES信號所能夠檢測的區域，這可能導致完全不能聚焦。然而，如果FES信號被過分抑制，使之不能影響輸入到動臂機構線圈128的當前電壓，那么，激光器就不能針對情況變化作出迅速的反應，因而可能不能聚焦。因此，應該根據特定的應用選擇Mu輸入值208，以便產生適當的聚焦。
配置基線動臂機構定位例程210來確定基線電壓電平并將其施加到動臂機構聚焦線圈128，產生光盤102表面106上的關聯的基線動臂機構位置和聚焦光學系統位置。動臂機構128具有其固有的、初始的或固定的位置，這可能反映加到所述線圈的固有的或默認的電壓，或者反映允許線圈在初始電壓電平上”浮動”。其結果是，被動臂機構移動的聚焦光學系統具有固有的、默認的、固定的焦點。部分地由于光學系統114設計成聚焦在光盤內的某個位置，動臂機構128和光學系統的所述靜止位置通常太接近光盤，以致于如果不向動臂機構128施加信號，就不能在光盤表面106上準確聚焦。其結果是，最好產生基線電壓，將所述電壓施加到動臂機構線圈128，導致光學系統114近似地聚焦在光盤102的表面106上。因此，基線動臂機構定位例程210確定基線電壓電平。有時候基線電壓具有交流成分，也就是說，基線電壓將隨光盤(即主軸)角向取向而變化。這樣的交流成分將根據圖3的扇區或隨光盤角向取向而變化。這樣的交流成分允許基線電壓改變動臂機構聚焦線圈128，以便將光學系統114的焦點保持在光盤102的表面106的上，甚至在光盤存在卷曲、楔形或其它缺損的情況下也是如此。
在第一示范實施例中，配置基線動臂機構定位例程210以便向動臂機構線圈128施加起始電壓將光學系統114的焦點移動離開光盤102(圖1)一段經過計算的距離，以便抵消通常內建于動臂機構線圈的初始設計假定。初始設計假定是為了便于讀寫，焦點應該在塑料盤102的內部。但為了給光盤打標記，焦點應該在光盤表面。固此，應該估算基線電壓，令動臂機構線圈128運動，使光學系統114的焦點作出相應的變化。這種變化令焦點回縮一段等于光盤102厚度一部分的距離，由此使焦點(近似地)落在光盤102的表面106上。
上述基線定位例行程序的示范實施例作出第一假定(即，光學系統114聚焦在光盤102的表面106下面已知的深度的位置上)和第二假定(即，可以計算將焦點移動到光盤表面所需的電壓)。基線定位例行程序210的第二實施例基于利用目標測量結果。配置基線動臂機構定位例行程序210以便在聚焦的全范圍內移動光學系統114，也就是說從聚焦太近到聚焦太遠。基線動臂機構定位例程210配置成使動臂機構線圈128在此范圍內以遞增的方式步進，并記錄從SUM所獲得的數值。一當將整個電壓范圍施加到動臂機構線圈128之后，聚焦光學系統的移動、SUM的最大值就被記錄下來。可以假定當光學系統達到近似聚焦時，這個數值就會出現；而且，可以將這個使光學系統定位的電壓作為基線電壓。
或者，為了消除動臂機構聚焦線圈128操作的某種不精確性，可以將遞增步進式直流電壓再次施加到動臂機構聚焦線圈，以便移動光學系統114一直到SUM信號近似為在第一次將遞增電壓施加到動臂機構線圈128期間所記錄的最大值的75％(大約)。所述直流電壓電平可以用作基線電壓電平。
應當指出，如果需要的話，可以給光盤的不同扇區施加不同的基線電壓。例如，圖3表示光盤在邏輯上分為8個扇區302-316。每個扇區可以被賦予不同的基線電壓，從而減小在每一個扇區的聚焦誤差。因此，基線電壓可以包含交流成分。
只要稍微看一下圖4，就可以充分了解四路聚焦傳感器126的作用。四路傳感器126(先前在圖1中所看到的)是典型的對激光112反射作出反應的光學傳感器。FES(聚焦誤差信號)204是對角線傳感器的和的差值(即左上加右下減去右上加左下)。作為示例的FES信號400可以在圖4的方框402右邊看到。當光學系統114-116沒有聚焦的時候，FES信號為零。當光學系統達到聚焦時，FES信號變成正三角波。當光學系統散焦時，FES信號變成負三角波。應當指出，FES信號400僅僅用于說明的目的，而真實的FES信號會含有相當大的噪聲。
再來看圖2，誤差項發生器212配置成處理FES(聚焦誤差信號)402以便產生誤差項204(圖4)。在典型的應用中，模數轉換器404(圖4)使誤差項發生器212能夠將FES信號轉換成數字誤差項204。FES的數字值適合于插入到方程中以便產生傅立葉級數的系數，下面還要作更詳細的說明。
動臂機構控制信號發生器216產生加到動臂機構聚焦線圈128的信號202。在實際應用中，信號發生器216的輸出通常是數字值，所述數字值通過DAC(數模轉換器)被轉換成模擬信號，以便耦合到動臂機構聚焦線圈128。
可以以許多方式配置動臂機構控制信號發生器216。在第一實施例中，系數發生器218配置成產生傅立葉級數的系數。傅立葉級數和傅立葉子程序220配置成利用所產生的系數去產生施加于動臂機構聚焦線圈的信號。例如，在使用具有5項的傅立葉級數的時候，這5個系數可以根據如下方式產生A0(新的)＝A0(舊的)+(DC0*Ek*Mu)；A1(新的)＝A1(舊的)+(QS1*Ek*Mu)；B1(新的)＝B1(舊的)+(QC1*Ek*Mu)；A2(新的)＝A2(舊的)+(QS2*Ek*Mu)；以及B2(新的)＝B3(舊的)+(QC2*Ek*Mu)；上述方程利用先前舊的系數(例如A0(舊的))提供了5個新的系數(例如，A0(新的))。例如，在一個實施例中中，光盤每旋轉一圈每一個系數的新值被計算400次。(當每轉動一圈400次這種計算是有效的話，根據不同的應用，可以用其他計算速率替代)。隨著光盤的旋轉，隨著FES信號被取樣，誤差值Ek每旋轉一次就改變400次。而且，由于改變光盤旋轉角度的緣故，正弦項的值(QS1到QC2)也改變。應當指出，A0的值就是基線動臂機構定位子程序210所計算的基線值，而且A1-B2的初始值為零。
上述方程使用A0來表達非正弦第一項的系數，即標稱的直流電壓(DC0)。An和Bn項分別表示正弦項’n’的系數。格式QS1或QC2的各項表示一次或二次諧波的正弦或余弦的值，其中，應用于正弦函數的角度就是光盤驅動器內的光盤旋轉的角度(即角向取向)。應當指出，正弦和余弦的角度通常要乘以一個比例系數，例如1、2等，以便使系數具有不同的頻率。例如，QS1可以是sinθ，而QC2可以是cos(2θ)。自適應系數Mu關系到允許Ek改變新系數的快慢。例如，Mu影響到容許A1(新的)和A1(舊的)之間有多大的改變程度。
傅立葉例行程序220配置成利用來自系數產生器218的系數和光盤旋轉角度來產生動臂機構控制信號202。可以根據下面的原則應用新系數動臂機構控制信號＝(A0*DC0)+(A1*QS1)+(B1*QC1)+(A2*QS2)+(B2*QC2)在這種情況下，例如，QS1和QS2分別是針對角度θ和2θ的sine和cosine值，分別用于一次和二次諧波。
在另一個實施例中，可以不用系數和傅立葉級數來實現動臂機構控制信號發生器216。可以實現這種更廣泛的前饋方案，其中，形成沒有預定形狀的前饋信號。對每一個比特時間，序列的一個比特(在光盤旋轉的某點開始到光盤轉一圈再次回到所述點結束)存入存儲器。可以通過最小二乘法(LMS)更新所述序列的每一個比特，但此時算法是Wk(新的)＝Wk(舊的)-Mu*Ek。
應當指出，上面的方程的目的是使在低頻主軸速率(例如光盤102每分鐘300轉左右)和較低取樣速率下都能工作得很好。較低的光盤主軸速率和取樣速率使得動臂機構的運動低于動臂機構共振頻率。然而，動臂機構的共振頻率可能使在針對較高盤速(即每分鐘的旋轉圈數)和較高的取樣速率的光束聚焦失敗。這就是說，在主軸轉速較高時，必須考慮共振頻率；否則向動臂機構的輸入將得不到所預期的輸出，即，得不到使光學系統向會聚在焦點的位置移動的輸出信號。在基于傅立葉級數的實施例的情況下，如果主軸轉速增加到轉一圈的一次、二次和三次諧波處于聚焦動臂機構第一懸浮共振(suspension resonance)的頻率之上(約45Hz)，或者如果使用高次諧波，那么，sine和cosine波的值乘以Ek*Mu的乘積還將需要按照動臂機構對輸入信號作出反映的數值進行相位移動。動臂機構控制信號內各項的這種相移將降低動臂機構共振。例如，A1(新的)＝A1(舊的)+(QS1(θ)*Ek*Mu)，其中，QS1(θ)等于QS1在QS1頻率下動臂機構的相位移動。正如在上述方程中所看到的，動臂機構控制信號內各項的相位被移動到能補償動臂機構各次諧波所需的程度(例如動臂機構共振頻率)。如果光盤驅動器內的盤角速度足夠高的話，這可能是需要的。例如，示范的光盤速度(rpm)可以與動臂機構控制信號的相移程度聯系起來。施加的相移的程度一般必須通過對可利用的動臂機構進行實驗來確定。因此，可以用一張表格將光盤速度rpm與動臂機構控制信號的關系表示出來。
對于更一般的情形，如果取樣速率超過共振頻率，非傅立葉級數的應用，可能需要補償動臂機構的共振。其做法可以在調整每一個Wk之前用與動臂機構頻率響應相反的數字濾波器對Ek值進行濾波。讓Ek值通過反向濾波器函數后再使用自適應算法。Wk(新的)＝Wk(舊的)-Mu*Ek，可以從根本上消除動臂機構共振的影響。
存在上述處理動臂機構共振頻率問題的替換方法。例如，可以使用的X濾波法是一類已經知道與自適應LMS(最小二乘)濾波有關的算法。
圖5的流程圖表示又一個示范實施例。其中采用方法500來令光盤驅動器100的光學系統聚焦。所述方法的各個組成部分可以用任何所需的裝置來執行，記錄在處理器可讀媒體，如光盤、ROM或其它存儲設備上所規定的處理器可讀指令，或通過專用集成電路(ASIC)或其它硬件設備的操作來實現。在一個實施例中，ROM可能含有圖1所示固件132，由此根據一定的方法，如圖5所示流程圖的示范方法，來實現圖2所示的前饋引擎200。還有，任何方框中所述的操作可以與其它方框所述的操作并行地執行，也可以以用交替的順序執行，或者以分布的方式與多于一個其它方框規定的操作執行。
在方框502產生基線動臂機構控制信號。基線動臂機構控制信號當被施加到所述動臂機構聚焦線圈128的時候，能使激光器充分聚焦，致使從四路聚焦傳感器126所獲得的SUM和FES信號變為非零。基線動臂機構控制信號可以用許多方式產生。例如，可以使用上面所述的基線動臂機構定位例程210產生。記得在所述方法中，通過關于靜止焦點的位置和施加到動臂機構聚焦線圈128以便將焦點移動到光盤102的表面106所需的信號的假設，來產生所述基線動臂機構信號。或者，可以使用如上面所述的基線動臂機構例行程序210的第二示范實施方式。記得在所述方法中，一直監視施加到動臂機構聚焦線圈128的整個電壓范圍以及SUM和/或FES信號。施加到聚焦驅動器線圈128的信號，連同接近SUM的最佳值和/或FES信號的最佳值一起使用。換句話說，將步進電壓加到動臂機構線圈128，當SUM信號接近高的SUM值時，可以從所述步進電壓電平中選擇基線電壓。
在方框504，產生誤差項。上面已經看到，所述誤差項可以由誤差項發生器212使用上面所看到的FES(聚焦誤差信號)產生。所述FES信號被轉換成數字值，并可以作為誤差項使用。
在方框506，使用誤差項和其它項產生動臂機構控制信號202。具體地說，動臂機構控制信號202可以由前饋引擎200的動臂機構控制信號發生器216產生。在方框508-512中示出許多用來產生動臂機構控制信號202的示范的、替換的和/或補充的實施方法。在方框508的實施過程中，產生各項系數然后進行傅立葉級數求和。從上面可以看到，系數發生器216可以產生在傅立葉級數中使用的系數。傅立葉例程220使用各項系數和光盤取向角度值206來確定動臂機構控制信號202。所述動臂機構控制信號曾經通過系數發生器216更生，變成下一個自適應周期使用的基線信號。
在方框510中所看到的任選的實施例中，光盤主軸轉速足夠高使得可以和動臂機構線圈的懸浮共振相互作用，可以修改系數發生器218來補償所述相互作用。這個任選的實施例在上面討論圖2時，參照系數發生器218討論過。
在方框512看到的另一個任選實施例中，所述動臂機構控制信號發生器216執行時無須傅立葉系數和傅立葉級數。如上所示，可以執行這種推廣了的前饋方案，其中沒有規定所述前饋信號的預先確定的形狀。
在方框514，將標記圖像印在光盤102的標記表面106。當光盤轉動的時候，前饋引擎200連續地將動臂機構控制信號202提供到聚焦動臂機構線圈128。使光學系統114將激光器116的焦點保持在光盤的表面上。然后，激光束112將圖像施加到光盤102的表面106的涂層。
盡管已經用專用于結構特征和/或方法步驟的語言描述了本發明，但是，顯然，后附的權利要求書不限于所描述的具體特征和步驟。具體的特征和步驟是實施所述公開的示范性形式。例如，在執行流程圖方框中所描述的操作時可以并行地與在其它方框中描述的操作一起執行，這些操作可以以交替的次序執行，或可以分布地以相互聯絡的方式與多個其它方框聯合執行。還有，當打算用任何所需的方式執行所公開的方法的組成部分時，可以預料，計算機或處理器可讀的指令(通常設置在固件132內，由計算機或處理器執行，從計算機或處理器可讀媒體，如ROM、光盤或CD ROM等讀出)將是優選的方案，但是也可以用專用門陣列(ASIC)或類似硬件結構來代替。
權利要求
1.一種用于向光盤驅動器(100)內動臂機構(128)提供信號，讓光學系統(114)聚焦在所述光盤驅動器(100)內的光盤(102)上的系統，所述系統包括配置成產生誤差項的誤差項發生器(212)；配置成調節所述誤差項修正動臂機構控制信號(202)的比例的自適應系數(214)；以及用來產生所述動臂機構控制信號(202)的動臂機構控制信號發生器(216)，其中，所述動臂機構控制信號(202)是動臂機構(128)先前位置、所述誤差項和所述自適應系數的函數。
2.如權利要求1所述的系統，其特征在于所述誤差項發生器(212)配置成利用聚焦誤差信號(204)作為輸入信號來產生所述誤差項。
3.如權利要求2所述的系統，其特征在于所述誤差項發生器(212)配置成將所述聚焦誤差信號(204)取樣并利用模數轉換器來產生所述誤差項。
4.如權利要求1所述的系統，其特征在于所述誤差項發生器(212)配置成計算由所述動臂機構控制信號發生器(216)產生的每一個新的動臂機構控制信號(202)的所述誤差項。
5.如權利要求1所述的系統，其特征在于所述動臂機構控制信號發生器還包括用以產生系數的系數發生器218，所述系數是包含所述自適應系數(214)和所述誤差項的輸入信號的函數；以及用以利用所述產生的系數來產生所述動臂機構控制信號(202)的傅立葉子例程(220)。
6.一種包含用于聚焦光盤驅動器(100)內的光學系統(114)的處理器可執行指令的處理器可讀媒體，所述處理器可執行指令包括用于以下目的的指令產生(504)誤差項；調節所述誤差項利用自適應系數(214)來修改動臂機構控制信號(202)的比例；以及產生(506)作為動臂機構先前位置、所述誤差項和所述自適應系數(214)的函數的動臂機構控制信號(202)。
7.如權利要求6所述的處理器可讀媒體，其特征在于包括利用聚焦誤差信號(204)作為輸入信號產生(504)所述誤差項的處理器可執行指令。
8.如權利要求7所述的處理器可讀媒體，其特征在于包括用以對聚焦誤差信號(204)取樣并利用模數轉換器來產生所述誤差項的處理器可執行指令。
9.如權利要求6所述的處理器可讀媒體，其特征在于包括用以為由所述動臂機構控制信號發生器(216)產生的每一個新的動臂機構控制信號(202)計算所述誤差項的處理器可執行指令。
10.如權利要求6所述的處理器可讀媒體，其特征在于產生(506)所述動臂機構控制信號(202)包含用于如下目的的指令產生(510)作為包含所述自適應系數(214)和所述誤差項的輸入信號的函數的系數；以及計算(508)傅立葉級數并利用所述產生的系數來產生所述動臂機構控制信號(202)。
11.一種令光學系統聚焦在光盤驅動器(100)中的光盤(102)上面的方法，所述方法包括產生(504)誤差項；調節所述誤差項利用自適應系數(214)修改動臂機構控制信號(202)的比例；以及產生(506)作為動臂機構(128)先前位置、所述誤差項和所述自適應系數(214)的函數的動臂機構控制信號。
12.如權利要求11所述的方法，其特征在于還包括利用作為輸入信號的聚焦誤差信號(204)來產生(504)所述誤差項。
13.如權利要求11所述的方法，其特征在于還包括將所述聚焦誤差信號(204)取樣和利用模數轉換器來產生所述誤差項。
14.如權利要求11所述的方法，其特征在于還包括為由所述動臂機構控制信號發生器(216)產生的每一個新的動臂機構控制信號(202)計算所述誤差項。
15.如權利要求11所述的方法，其特征在于產生所述動臂機構控制信號(202)的步驟包括產生作為包含所述自適應系數(214)和所述誤差項的輸入信號的函數的系數；以及利用所述產生的系數來計算(508)傅立葉級數以便產生所述動臂機構控制信號(202)。
16.一種聚焦系統，它包括用于產生(212)誤差項的裝置；用于調整所述誤差項利用自適應系數(214)來修改動臂機構控制信號(202)的比例的裝置；以及用于產生(512)作為動臂機構先前位置、所述誤差項和所述自適應系數(214)的函數的動臂機構控制信號(202)的裝置。
17.如權利要求16所述的聚焦系統，其特征在于還包括用于利用作為輸入信號的聚焦誤差信號(204)來產生所述誤差項(504)的裝置。
18.如權利要求16所述的聚焦系統，其特征在于還包括用于對所述聚焦誤差信號(204)取樣并利用模數轉換器去產生所述誤差項的裝置。
19.如權利要求16所述的聚焦系統，其特征在于還包括用于為由所述動臂機構控制信號發生器(216)產生的每一個新的動臂機構控制信號(202)計算所述誤差項的裝置。
20.如權利要求16所述的聚焦系統，其特征在于用于產生所述動臂機構控制信號(202)的所述裝置包括用于產生(508)作為包含所述自適應系數(214)和所述誤差項的輸入信號的函數的系數的裝置；以及用于利用所述產生的系數計算(508)傅立葉級數以便產生所述動臂機構控制信號(202)的裝置。
全文摘要
一種用以向光盤驅動器(100)的光學拾取裝置(112－128)內的動臂機構(128)提供動臂機構控制信號(202)的系統，所述系統將光學系統(114)聚焦在光盤(102)上。在一個實施例中，通過對FES(聚焦誤差信號)(204)取樣來獲取誤差項。利用自適應系數(214)來換算所述誤差項，所述自適應系數調節誤差項修正動臂機構控制信號(202)的比率。動臂機構控制信號發生器(216)產生動臂機構控制信號(202)來控制動臂機構(128)的運動，其中，動臂機構控制信號(202)是先前動臂機構位置、誤差信號和自適應系數(214)的函數。
文檔編號G11B7/09GK1595509SQ20041006993
公開日2005年3月16日 申請日期2004年7月12日 優先權日2003年9月12日
發明者D·M·漢克斯 申請人:惠普開發有限公司