專利名稱：用于光磁記錄器材的鋁鎂合金涂膜工藝的制作方法
技術領域：
本發明涉及鋁鎂合金涂膜工藝，尤指一種用于光磁記錄器材的鋁鎂合金涂膜工藝。
本發明的優越功效在于1、材料的氧化層厚度≥1.5μm。
2、處理后的材料是明亮的銀白色光澤，沒有彩虹現象及花斑，亮度可達到光學全反射率70％以上。
3、氧化層鉛筆硬度≥6H。
4、材料拉伸強度≥270Mpa。
5、耐腐蝕性能，在200小時連續鹽霧試驗中，沒有發生任何的腐蝕現象，在室內常溫下不生銹。
附圖為本發明的生產工藝流程圖。
膜的成份為85％AL2O3+15％AL2O3H2O和N1(OH)2。
權利要求
1.一種用于光磁記錄器材的鋁鎂合金涂膜工藝，其特征在于其生產工藝流程先開卷、經過脫脂、水洗脫膜中和、再送入加工槽中進行氧化處理、再經水洗、然后用封閉劑對其進行封閉處理、再水洗、烘干、收卷；氧化過程的硫酸濃度20％，溫度33～35℃，電流密度0.8～1安培/分米2，時間60～90秒；膜的成份為85％AL2O3+15％AL2O3H2O和N1(OH)2；氧化層厚度≥1.5μm。
全文摘要
一種用于光磁記錄器材的鋁鎂合金涂膜工藝，其特點是將鋁鎂合金卷材先開卷，經過脫脂、水洗脫膜中和、再送入加工槽中進行氧化處理，通過獨特的化學配制藥液及嚴格的電極和溫度控制使其表面產生一層氧化膜后，再經水洗，然后用封閉劑對其進行封閉處理，經水洗，最后烘干、收卷。從開卷到收卷整個過程均未將箔材分割，而是直接進行連續的氧化處理。在整個氧化過程中溫度都通過專用冷凍和加熱設備進行控制。氧化過程的硫酸濃度為20％，溫度33～35℃，電流密度0.8～1安培/分米
文檔編號G11B11/00GK1461001SQ03116680
公開日2003年12月10日 申請日期2003年4月29日 優先權日2003年4月29日
發明者李凡 申請人:上海財大電子有限公司