專利名稱：判斷盤片反置的方法
技術領域：
本發明涉及一種光驅系統的工作方法，尤指一種判斷光驅盤片反置的方法。
背景技術：
隨著計算機硬件及網絡技術的進步，現今對數據儲存媒體的需求日益殷切，尤其是多媒體數據、例如影像或是音樂數據，即使經過壓縮技術的處理，仍然占有相當大的空間，因此對于數據儲存媒體，如MO(磁光盤)、可刻錄光盤(CD-R，CD-RW)或是高容量軟盤片(JAZZ)的開發不遺余力。尤其是光盤家族，由于音樂光盤(Audio CD)及只讀數據光盤(CD-ROM)的普及，因此可刻錄光盤(CD-R，CD-RW)也極易進入消費市場。尤其是隨著刻錄機(CD-recorder)及可刻錄盤片價格的急速下降；及光盤片普遍用于書及雜志的附贈數據，現今光盤已成為日常生活不可或缺的一部份。一般使用者往往利用光盤收藏盒或是收藏包來存放大量的備份數據光盤或是音樂/影像光盤。由于在許多情況下，使用者不會在光盤的印刷面上清楚注明檔案內容，因此使用者往往是用嘗試錯誤的方式，逐一檢查光盤內容，以找到所需數據，而如果光盤有刮傷甚或反置的狀況發生，光驅往往需要繁復的判斷過程來檢查盤片內容，如果有大量的盤片需要讀取，往往會造成對使用者時間的浪費。
如圖1所示，為現有光驅中光學頭及其相關組件讀取一盤片20的示意圖。該光學頭包含一激光二極管10，其發射一特定波長的激光束，此光束經過一極化分光器(polarizing beam splitter)11后，由一瞄準儀透鏡(collimator)12將其收斂成平行光束，以使后級的透鏡沿光軸方向移動時，仍不影響信號的判讀，平行光束經過一個四分之一波長板13將原來為線性極化的光束變成圓形極化，圓形極化光束經由目標物透鏡(objective lens)14的聚焦后形成一光點SP于盤片上。一驅動電路30驅動一目標物透鏡致動器32，以控制該目標物透鏡14可以沿光軸前后方向移動，并變化光點SP位置，使光點SP可以聚焦在盤片的數據層上。光點SP可被盤片數據層所反射，此反射光再經由目標物透鏡14、四分之一波長板13后，由原來的圓形極化變成線性極化，再經由瞄準儀透鏡12到達極化分光器11，此時反射光束由于線性極化方向和原先光束極化方向垂直，因此會被反射到一聚焦透鏡15后再由一檢光器16接收，檢光器16所感測到的電信號更送至一誤差檢測器3 1判讀，以由光束中取得數據信號(information signal)、及各種伺服信號，如聚焦誤差信號(focus error signal，FE)、循跡誤差信號(tracking error signal，TE)，側光束加成信號(sub beam add，SBAD)，RF信號、及馬達轉速控制信號(motor control signal)等。
在現有的盤片判讀機制中，是利用上述的伺服信號的變化，來得知聚焦狀況。然而，一般的光驅僅能判斷無盤片(No Disc)、或是幾種已知的盤片如CD-ROM，CD-R，CD-RW，如果使用者不經意將盤片反置，光驅因無法聚焦成功而會在一連串重試后才會回給計算機主機失敗的結論，十分浪費使用者的時間。
發明內容
本發明的目的是提供一種可快速判斷盤片反置的方法，以節省使用者操作時間。
為了實現上述目的，本發明提供的判斷盤片反置的方法，包含下列步驟；(a)在盤片機內置有盤片時，發射激光束；(b)將光驅聚焦裝置由第一位置移動至第二位置；及(c)于聚焦裝置移動時，持續記錄盤片對于激光束的反射量變化，以得到激光反射量分布圖形，并由激光反射量分布圖形判別該盤片的反置狀況。
本發明還提供一種判斷盤片反置的方法，是用以判別一光驅內的一盤片反置現象，該方法包含下列步驟(a)發射激光束；(b)將光驅的聚焦裝置由第一位置移至第二位置；(c)于聚焦裝置移動時，持續記錄盤片對于激光束的反射量變化，以得到激光反射量分布圖形；及(d)將激光反射量分布圖形與預定的參考反射量分布圖形比較，用以判別該盤片的反置狀況。
本發明的有益效果是，本發明的判斷盤片反置的方法，可快速判斷盤片反置狀況，以大幅節省使用者操作時間，能提高整體的使用價值。
為使本發明目的及特征更為清楚明了，現配合
本發明的較佳具體實例。
圖1是現有光驅讀取信號的系統示意圖；圖2說明盤片存在檢測程序的電壓、時間與主軸轉速關系；圖3說明盤片存在檢測程序中主軸轉速的帶狀分布狀況；圖4說明盤片正置及反置時的聚焦狀況；圖5說明盤片正置及反置時的反射圖形；及圖6說明本發明的流程。
具體實施例方式
本發明提供一種判斷盤片反置的方法，此方法包含一個盤片存在判斷程序，及一個光束反射圖形檢測程序。
在判斷盤片是否反置時，先要判斷盤片是否存在于光驅之中，本發明是利用一特定波形的電壓來驅動主軸馬達。如圖2所示，此特定波形的電壓包含在第一時間T1內的較大電壓及在第二時間T2內的較小電壓，較大電壓是用來克服靜摩擦力，而較小電壓是用來驅動已經開始轉動的主軸馬達。如圖2所示，如有一般盤片(12cm)存在，由于主軸馬達的轉動慣量較大，因此加速度較小，在加速一段時間后，所測量得的主軸馬達的速度較低(曲線C1)；如果沒有盤片，由于主軸馬達的轉動慣量較小，因此加速度較大，在加速一預定時間后，所測量得的主軸馬達的速度較大(曲線C3)；如果是為小型盤片(8cm)或是名片型盤片，由于質量比一般盤片(12cm)小，因此主軸馬達的轉動慣量介于前述兩種狀況之間，因此可以設定對于速度的臨界值(threshold)，如果速度V在一預定時間后小于一第一臨界速度值V1，則可判定為一般盤片；如果速度V在一預定時間后大于一第二臨界速度值V2，則可判定為無盤片；如果速度V在一預定時間后介于第一臨界速度值V1及第二臨界速度值V2之間，則可判定為小型盤片，在盤片存在檢測程序后，如確定光驅內有盤片，即可進行光束反射圖形檢測程序，以判定盤片是否反置。在此程序中主軸馬達的轉速測量可以借助光驅本身具有的傳感器，如霍爾傳感器(Hall sensor)測量，再傳遞回至光驅的處理器與存儲單元(如ROM)中的第一臨界速度值V1及第二臨界速度值V2做比對，以檢測盤片存在狀態。
在此盤片存在檢測程序中須知所加的主軸馬達驅動電壓波形還可鑒別出上述三種狀況，因為每一盤片在質量上均有誤差，所以在一預定時間后，其速度會有差異，會如圖3所顯示的帶狀分布(banded distribution)，因此施加電壓的大小及預定時間的設定要能利用已知的第一臨界速度值V1及第二臨界速度值V2鑒別出對應的盤片狀態。
如圖1所示，判斷盤片反置的方法是在確認盤片機內置有盤片之后先移動目標物透鏡14至一第一位置H，即盤片與目標物透鏡14之間的距離最長。接著，發射一激光束后將此目標物透鏡14以一預定速度沿光軸移動到一第二位置U，也即盤片與目標物透鏡14之間的距離最短。而檢光器16用來持續測量目標物透鏡14在移動的過程中盤片反射激光束的強度。并記錄成目標物透鏡的位置與反射量之間的關系。
如圖4與圖5所示，如果盤片是正置，也即透明基材41在下，而具有較高反射率的數據層42是在上方，則光束的聚焦光點則會在經過透明基材41后，為數據層42所反射，因此會出現如圖5中曲線N的反射量分布圖形，依照盤片機的設計，最大反射量約會發生在第一位置與第二位置的中點。
如果盤片是反置，則有下列三種情況之一發生(A)由于盤片反置，因此光束的聚焦光點會提前遇到較高反射率的數據層，囚此會出現如圖5中曲線A的提早反射(Early Reflection)的反射量分布圖形，由于對于一般的盤片(CD)，其透明基材厚度約為1.2mm，因此曲線A的反射量分布圖形的尖峰(peak)會比曲線1的反射量分布圖形的尖峰提早約1.0mm-1.4mm出現。
(B)某些狀況下，激光束會被盤片的印刷層所吸收，因此僅有微量的反射光，因此會出現如圖5中曲線B的提早反射、但是尖峰較低的反射量分布圖形。
(C)對于某些光驅，尤其是薄形光驅，由于目標物透鏡14的可移動距離不足，因此可能會有焦點無法碰觸到較高反射率的數據層的情形發生，也即，目標物的移動過程，激光束的聚焦光點皆位于盤片的透明基材41中，或是僅因基材_空氣界面的折射率差而有極微量的反射量，如圖5中曲線C所示。
因此可以預先將正反置盤片的反射量分布圖形參數置于一存儲單元中。例如設定正常尖峰位置及尖峰大小的臨界值，如尖峰大于此臨界值且位置較正常尖峰位置早，且相對應于正常尖峰位置的距離為1.0-1.4mm，則可判定為盤片反置狀況(A)，另外如果反射量的分布皆低于一臨界值，也可判斷為(B)或是(C)狀況，也可判定為盤片反置狀況。如圖5中陰影部份所顯示，此陰影部份為一近似L形的形狀，且包含一左側的反射量尖峰偏離區域，及一下側的低反射量區域，如果反射量分布圖形落在此陰影區間內，皆可判定為盤片反置狀況。
如圖1及圖6，本發明的判斷盤片反置方法流程可簡述如下步驟S100以一預定波形的電壓驅動一主軸馬達轉動；步驟S102測量主軸馬達轉速；步驟S104判斷主軸馬達轉速于一預定時間內是否大于一預定轉速？若是，則進行步驟S106，若否，則進行步驟S200。
步驟S106判定為無盤片狀況，并回復系統錯誤信息；步驟S200將光學頭的目標物透鏡(也即，聚焦裝置)14移至一第一位置H；步驟S202點亮一激光；步驟S204將光學頭的目標物透鏡14移至一第二位置U，并持續記錄移動于第一位置與第二位置之間的激光束反射量變化；及步驟S206由激光反射量分布圖形判別盤片是否有反置狀況。
上述的步驟S100中是以一預定波形的電壓驅動一主軸馬達轉動，且參見圖2，此預定波形的電壓包含在第一時間T1內的較大電壓Vt1及在第二時間T2內的較小電壓Vt2，較大電壓Vt1是用來克服靜摩擦力，而較小電壓Vt2是用來驅動已經開始轉動的主軸馬達。
步驟S102測量主軸馬達轉速，一般光驅皆有傳感器測量主軸馬達轉速，并由一信號送出主軸馬達轉速。
步驟S104判斷主軸馬達轉速于一預定時間內是否低于一預定轉速，為了判別不同的盤片，如一般盤片(12cm)、小型盤片(8cm)或是名片型盤片，最好是使用兩個不同的臨界速度值，如果主軸馬達轉速V在一預定時間后小于一第一臨界速度值V1，則可判定為一般盤片；如果速度V在一預定時間后大于于一第二臨界速度值V2，則可判定為無盤片；如果速度V在一預定時間后介于第一臨界速度值V1及第二臨界速度值V2之間，則可判定為小型盤片，參見圖2。如果轉速大于第二臨界速度值V2，則代表無盤片，接著進行步驟S106，判定為無盤片狀況，并回復系統錯誤信息；否則進行步驟S200。
步驟S200將光學頭的聚焦裝置移至一第一位置H，接著在步驟S202點亮一激光后于步驟S204將光學頭的聚焦裝置移至一第二位置U，并持續記錄移動時的激光束反射量變化。步驟S200還可將光學頭的聚焦裝置移至一第二位置U，在點亮激光后再將光學頭的聚焦裝置移至一第一位置H。
步驟S206由激光反射圖形判別盤片是否有反置狀況。可以由激光反射量分布圖形擷取出相關的尖峰位置及尖峰大小參數，并比較置于存儲單元中的正反置盤片的反射量分布圖形參數，例如設定正常尖峰位置及尖峰大小的臨界值，如尖峰位置較正常尖峰位置早，且相對應于正常尖峰位置的距離為1.0-1.4mm，則可判定為盤片反置狀況。另外如果反射量的分布皆低于一臨界值，也可判斷為光束會被盤片的印刷層所吸收或是目標物透鏡14的可移動距離不足，同樣可判定為盤片反置狀況。如圖5中陰影部份所顯示，如果反射量分布圖形落在此陰影區間內，均可判定為盤片反置狀況。
本發明的判斷盤片反置的方法，可快速判斷盤片反置狀況，以大幅節省使用者操作時間，能提高整體的使用價值。
上述所揭露的附圖、說明，僅為本發明的實施例而已，本技術領域的普通技術人員所做出的等效結構變換，如判斷盤片正反置的參數除了由反射率改變所得到的參數外，還可以包含由磁性改變或相變化所得到的參數，而這些改變仍屬于本發明的發明精神及本發明的專利范圍。
權利要求
1.一種判斷盤片反置的方法，其特征在于，該方法包含下列步驟(a)在一光驅內置有一盤片時，發射一激光束；(b)將該光驅的一聚焦裝置由一第一位置移動至一第二位置；及(c)在該聚焦裝置移動時，持續記錄該盤片對于該激光束的一反射量變化，以得到一激光反射量分布圖形，并由該激光反射量分布圖形判別該盤片的反置狀況。
2.如權利要求1所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的步驟(b)中該第一位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最長距離，該第二位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最短距離。
3.如權利要求1所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的步驟(b)中該第一位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最短距離，該第二位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最長距離。
4.如權利要求1所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的步驟(c)由該激光反射量分布圖形判別該盤片的反置狀況，是將測量到的該激光反射量分布圖形與預定的一參考反射量分布圖形做比較。
5.如權利要求4所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的參考反射量分布圖形至少包含一低反射量區域，當該激光反射量分布圖形落在該低反射量區域內，即可判定該盤片是反置。
6.如權利要求4所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的參考反射量分布圖形至少包含一反射量尖峰偏離區域，當該激光反射量分布圖形的較高反射量是落在該反射量尖峰偏離區域內，即可判定該盤片是反置。
7.如權利要求6所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的反射量尖峰偏離區域是指該激光反射量分布圖形中的較高反射量偏離一正置盤片的較高反射量一預定距離以上的區域。
8.如權利要求7所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的預定距離是在1.0mm與1.4mm之間。
9.一種判斷盤片反置的方法，是用以判別一光驅內的一盤片反置現象，其特征在于，該方法包含下列步驟(a)發射一激光束；(b)將該光驅的一聚焦裝置由一第一位置移至一第二位置；(c)于該聚焦裝置移動時，持續記錄該盤片對于該激光束的一反射量變化，以得到一激光反射量分布圖形；及(d)將該激光反射量分布圖形與預定的一參考反射量分布圖形比較，用以判別該盤片的反置狀況。
10.如權利要求9所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的步驟(b)中該第一位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最長距離，該第二位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最短距離。
11.如權利要求9所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的步驟(b)中該第一位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最短距離，該第二位置是使得該盤片與該聚焦裝置之間具有最長距離。
12.如權利要求9所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的參考反射量分布圖形至少包含一低反射量區域，當該激光反射量分布圖形均落在該低反射量區域內，即可判定該盤片是反置。
13.如權利要求9所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的參考反射量分布圖形至少包含一反射量尖峰偏離區域，當該激光反射量分布圖形的較高反射量是落在該反射量尖峰偏離區域內，即可判定該盤片是反置。
14.如權利要求13所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的反射量尖峰偏離區域是指該激光反射量分布圖形中的較高反射量偏離一正置盤片的較高反射量一預定距離以上的區域。
15.如權利要求14所述的判斷盤片反置的方法，其特征在于，所述的預定距離是在1.0mm與1.4mm之間。
全文摘要
本發明公開了一種判斷盤片反置的方法，該方法包含下列步驟在一光驅內置有一盤片時，發射一激光束；將該光驅的一聚焦裝置由一第一位置移動至一第二位置；及在該聚焦裝置移動時，持續記錄該盤片對于該激光束的一反射量變化，以得到一激光反射量分布圖形，并由該激光反射量分布圖形判別該盤片的反置狀況。本發明的判斷盤片反置的方法，可快速判斷盤片反置狀況，以大幅節省使用者操作時間，能提高整體的使用價值。
文檔編號G11B19/04GK1494076SQ0214810
公開日2004年5月5日 申請日期2002年10月30日 優先權日2002年10月30日
發明者洪建豊, 翁國倍, 洪建 申請人:建興電子科技股份有限公司