指紋識別系統處理方法及指紋識別系統的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種指紋識別系統處理方法及指紋識別系統，設計指紋識別技術領域。本發明的指紋識別系統處理方法包括：第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數據；將采集到的所述圖像數據傳送至處理單元；所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理，以形成指紋圖像。由于本發明指紋識別系統處理方法及指紋識別系統將兩個小面陣芯片拼接成大面陣芯片，分別采集圖像數據后，再集中處理后拼接成指紋識別圖像，使得用戶在設計小面陣芯片后，無需再設計大面陣芯片，減少了設計成本、開模成本以及開模時間。
【專利說明】
指紋識別系統處理方法及指紋識別系統
技術領域
[0001]本發明涉及指紋識別技術領域，特別是涉及指紋識別系統處理方法及指紋識別系統。
【背景技術】
[0002]為了辨別指紋，目前的指紋識別器主要可以分為光學式指紋識別器以及電容式指紋識別器。其中，電容式指紋識別器的指紋識別芯片一般包括小面陣的芯片和大面陣的芯片。
[0003]大面陣的芯片適合市面上大多指紋識別器，其要求識別精確、錄入次數少，其芯片的算法的代碼量少、計算量少，當存儲多個指紋時，可及時提取數據進行比對。而小面陣的芯片適合手機等移動終端，用于精準識別，由于其芯片的算法要求精準度，且代碼量大，無法支持多個指紋，該算法無法提取足夠的特征值，即小面陣的芯片不適合市面上大多精度要求不高的指紋識別器，所以小面陣的芯片與大面陣的芯片無法相互替代。而由于小面陣的芯片與大面陣的芯片設計、開模等均不相同，需要的流片成本增加，且開模的費用、開模的時間也會增加。
【發明內容】
[0004]本發明的主要目的在于提供一種指紋識別系統處理方法及指紋識別系統，旨在減少指紋識別系統的開模時間、開模成本。
[0005]為實現上述目的，本發明提供一種指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述指紋識別系統處理方法包括以下步驟:
第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數據；
將采集到的所述圖像數據傳送至處理單元；
所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理；
重復以上步驟，直至形成完整的指紋圖像。
[0006]
優選地，所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，包括:
將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設為空白點，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理，以形成指紋圖像。
[0007]
優選地，所述將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設為空白點，包括:
所述空白點的面積與所述第一芯片和所述芯片上的像素點面積相等，所述空白點的列數與所述像素點的列數相等，所述空白點的行數與所述第一芯片和所述第二芯片之間的距離相關。
[0008]
優選地，當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離是所述像素點邊長的整數倍時，所述處理單元將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離處理成與所述像素點面積相等的空白點，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，以形成指紋圖像。
[0009]
優選地，當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，則保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行空白點的寬度，以將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離分成所述像素點邊長的整數倍，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，以形成指紋圖像。
[0010]
優選地，所述保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行的所述空白點的寬度，包括:
當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，將該大于所述像素點邊長整數倍的部分平均分為空白點行數份，以使所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離被處理為近似于所述像素點的空白點。
[0011]
優選地，所述重復步驟包括:
用戶不斷移動手指與所述第一芯片和所述第二芯片的采集區的相對位置，以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指紋圖像數據。
[0012]
本發明還提供一種指紋識別系統，包括設置在同一基板上的第一芯片和第二芯片，所述第一芯片和所述第二芯片分別連接于處理器，并將兩者采集到的圖像數據傳送至處理器進行處理。
[0013]
優選地，所述處理器還包括拼接單元，用于將處理后的圖像數據進行拼接，以形成指紋圖像。
[0014]
與現有技術相比，本發明的有益效果是:由于本發明指紋識別系統處理方法及指紋識別系統將兩個小面陣芯片拼接成大面陣芯片，分別采集圖像數據后，再集中處理后拼接成指紋識別圖像，使得用戶在設計小面陣芯片后，無需再設計大面陣芯片，減少了設計成本、開模成本以及開模時間。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發明指紋識別系統處理方法的原理示意圖；
圖2為本發明指紋識別系統結構示意圖；
圖3為圖2中A的放大示意圖；
圖4為本發明第一芯片和第二芯片之間的空白部分示意圖。
[0016]本發明目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
[0017]
【具體實施方式】
[0018]應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。
[0019]下面結合附圖對本發明進一步說明。
[0020]如圖1至圖4所示，本發明的指紋識別系統處理方法，包括以下步驟:
51、第一芯片2和第二芯片3采集用戶的指紋圖像數據；
本發明的指紋識別系統通過兩個小面陣的芯片拼接而成，在使用時同時采集用戶的指紋信息。由于拼接而成的面陣同時增加了面積，更加適用于用戶的手指形狀，使得采集指紋信息更加完整、精確。
[0021]
52、將采集到的所述圖像數據傳送至處理單元；
在指紋識別系統中，設有一個處理單元，所述處理單元具體可以為MCU，即兩個小面陣的芯片同時與一個MCU連接。該MCU使用大面陣算法，即基于特征值算法，使得指紋識別系統在處理圖像數據時計算量更少，同時用戶在錄入指紋時的次數更少。
[0022]
53、處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，包括:
S31、如圖4所示，將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離設為空白點，所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點、第二芯片3的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理，以形成指紋圖像。
[0023]由于本發明的指紋識別系統中的芯片是由兩個小面陣的指紋識別芯片拼而成，在工藝上，兩個芯片之間會有一個微米級的縫隙，如圖3所示，即第一芯片2與第二芯片3之間的距離D。在處理單元處理圖像數據時，首先處理第一芯片2采集的圖像數據，然后處理兩芯片之間的空白部分，最后再處理第二芯片3采集的圖像數據。
[0024]在【具體實施方式】中，將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離設為空白點，包括:
空白點的面積與第一芯片2和第二芯片3上的像素點面積相等，所述空白點的列數與所述像素點的列數相等，所述空白點的行數與所述第一芯片2和所述第二芯片3之間的距離相關。
[0025]如圖3、圖4所示，本發明指紋識別系統處理方法將第一芯片2和第二芯片3之間的距離分為與像素點面積相等的空白點，以使處理器在處理兩芯片之間的空白時，將其識別為像素點，即該指紋識別系統的采集區域分別對應為:第一芯片2的采集區域、第二芯片3的采集區域，以及第一芯片2與第二芯片3之間的空白部分。
[0026]具體地，在一實施例中，當所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離是所述像素點邊長的整數倍時，所述處理單元將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離處理成與所述像素點面積相等的空白點，所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點、第二芯片3的圖像數據，以形成指紋圖像。如圖4所示，設像素點的邊長為d，當D=N*d，即當兩芯片之間的空白部分剛好可以被多數個空白點填充時，則處理器直接以第一芯片2、空白部分、第二芯片3的順序分別讀取、處理圖像數據。
[0027]在另一實施例中，當所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，則保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行空白點的寬度，以將所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離分成所述像素點邊長的整數倍，所述處理單元依次處理第一芯片2、空白點、第二芯片3的圖像數據，以形成指紋圖像。當D=N*d+A，A〈d，即當兩芯片之間的距離與像素點邊長除不盡時，則將Λ分為N行，這樣，將每行的空白點增加Λ/Ν的寬度，即可減小空白部分由于帶來的誤差。
[0028]具體地，保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行的所述空白點的寬度，包括:
當所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，將該大于所述像素點邊長整數倍的部分平均分為空白點行數份，以使所述第一芯片2與所述第二芯片3之間的距離被處理為近似于所述像素點的空白點。即，將Λ平均分成N行，以使每個空白點面積相當。
[0029]
54、將處理后的圖像數據進行拼接處理；
在進行拼接處理時，指紋圖像的上半部分和下半部分即可形成完整的指紋圖像，兩芯片之間無法讀取的部分標示為空白部分即可。
[0030]
55、重復S1~S4，直至形成完整的指紋圖像。
[0031]所述重復步驟包括:用戶不斷移動手指與所述第一芯片2和所述第二芯片3的采集區的相對位置，以使所述第一芯片2和所述第二芯片3采集到完整的指紋圖像數據。由于兩個芯片拼接形成的空白部分，在注冊指紋時，只需多次移動手指，即可讀取到芯片在第一次無法讀取的部分，以形成完整的指紋圖像。
[0032]
本發明還提供一種指紋識別系統，如圖2、圖3所示，包括設置在同一基板I上的第一芯片2和第二芯片3，所述第一芯片2和所述第二芯片3分別連接于處理器，并將兩者采集到的圖像數據傳送至處理器進行處理。
[0033]在一些實施例中，處理器還包括拼接單元，用于將處理后的圖像數據進行拼接，以形成指紋圖像。
[0034]應當理解的是，以上僅為本發明的優選實施例，不能因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述指紋識別系統處理方法包括以下步驟: 第一芯片和第二芯片采集用戶的指紋圖像數據； 將采集到的所述圖像數據傳送至處理單元； 所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理； 重復以上步驟，直至形成完整的指紋圖像。2.根據權利要求1所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述處理單元依次處理兩個芯片采集到的圖像數據，包括:將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設為空白點，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，并將處理后的圖像數據進行拼接處理，以形成指紋圖像。3.根據權利要求2所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離設為空白點，包括: 所述空白點的面積與所述第一芯片和所述第二芯片上的像素點面積相等，所述空白點的列數與所述像素點的列數相等，所述空白點的行數與所述第一芯片和所述第二芯片之間的距離相關。4.根據權利要求3所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離是所述像素點邊長的整數倍時，所述處理單元將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離處理成與所述像素點面積相等的空白點，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，以形成指紋圖像。5.根據權利要求3所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，則保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行空白點的寬度，以將所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離分成所述像素點邊長的整數倍，所述處理單元依次處理第一芯片、空白點、第二芯片的圖像數據，以形成指紋圖像。6.根據權利要求5所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述保持所述空白點的行數與該倍數相等，并增加每行的所述空白點的寬度，包括: 當所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離大于所述像素點邊長的整數倍時，將該大于所述像素點邊長整數倍的部分平均分為空白點行數份，以使所述第一芯片與所述第二芯片之間的距離被處理為近似于所述像素點的空白點。7.根據權利要求1所述的指紋識別系統處理方法，其特征在于，所述重復步驟包括: 用戶不斷移動手指與所述第一芯片和所述第二芯片的采集區的相對位置，以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指紋圖像數據。8.—種指紋識別系統，其特征在于，所述指紋識別系統包括設置在同一基板上的第一芯片和第二芯片，所述第一芯片和所述第二芯片分別連接于處理器，并將兩者采集到的圖像數據傳送至處理器進行處理。9.根據權利要求8所述的指紋識別系統，其特征在于，所述處理器還包括拼接單元，用于將處理后的圖像數據進行拼接，以形成指紋圖像。
【文檔編號】G06K9/00GK106067005SQ201610385119
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年6月3日 公開號201610385119.4, CN 106067005 A, CN 106067005A, CN 201610385119, CN-A-106067005, CN106067005 A, CN106067005A, CN201610385119, CN201610385119.4
【發明人】胡家安
【申請人】成都艾德沃傳感技術有限公司