顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法
【專利摘要】本發明提供一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法，顯示面板包括：陣列基板，包括：基板；多個薄膜晶體管，位于基板之上；觸控功能層，位于薄膜晶體管之上；彩膜基板，與陣列基板設置薄膜晶體管的一側相對；密封層，位于彩膜基板和陣列基板之間，并使彩膜基板和陣列基板之間形成容置空間；液晶分子，位于容置空間內；其中，陣列基板還包括：第一金屬層，位于薄膜晶體管和密封層之間，對應于密封層的位置設置，第一金屬層與觸控功能層同層設置，第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。本發明提供的顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法改善顯示效果。
【專利說明】
顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法
技術領域
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法。
【背景技術】
[0002]隨著人機交互技術的發展，觸控技術越來越多地使用在各種顯示器上。電容性觸控技術由于其耐磨損、壽命長，用戶使用時維護成本低，并且可以支持手勢識別及多點觸控的優點而被廣泛地使用。
[0003]電容性觸控技術根據不同對象之間的電容的檢測方式，可以分為自電容式觸控技術和互電容式觸控技術。自電容式觸控技術根據輸入對象和電極之間的電容變化來檢測輸入對象在觸摸屏上的存在、位置及運動。互電容式觸控技術則根據輸入對象導致的電極間的電容變化來檢測輸入對象在觸摸屏上的存在、位置及運動。
[0004]現有技術中，集成有觸控功能的液晶顯示面板可以參見圖1及圖2。液晶顯示面板100可以劃分為顯示區120和圍繞顯示區120的非顯示區110。顯示區120用于顯示圖像，非顯示區110設置走線及驅動電路。圖2示出圖1所示的液晶顯示面板100的AA’截面圖。液晶顯示面板100包括陣列基板130、彩膜基板140、密封層150及液晶分子(未示出)。陣列基板130和彩膜基板140相對。密封層150設置在陣列基板130和彩膜基板140之間，位于液晶顯示面板100的邊緣區域。密封層150使得陣列基板130和彩膜基板140之間形成容置空間。液晶分子位于該容置空間內。
[0005]如圖2所示，在現有技術中，密封層150與陣列基板130的接觸界面平整，而平整的接觸界面結合力差。在液晶顯示面板100的可靠性驗證時，水汽易進入陣列基板130和彩膜基板140之間的容置空間，污染液晶分子，進而出現液晶顯示面板100邊緣顯示不良。
【發明內容】
[0006]本發明為了克服上述現有技術存在的缺陷，提供一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法，其提高顯示效果。
[0007]根據本發明的一個方面，提供一種顯示面板，包括:陣列基板，包括:基板；多個薄膜晶體管，位于所述基板之上;觸控功能層，位于所述薄膜晶體管之上;彩膜基板，與所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側相對;密封層，位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間，并使所述彩膜基板和所述陣列基板之間形成容置空間；液晶分子，位于所述容置空間內；其中，所述陣列基板還包括:第一金屬層，位于所述薄膜晶體管和所述密封層之間，對應于所述密封層的位置設置，所述第一金屬層與所述觸控功能層同層設置，所述第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。
[0008]根據本發明的另一個方面，還提供一種顯示裝置，包括:如上所述的顯示面板。
[0009]根據本發明的另一個方面，還提供一種顯示面板的制作方法，包括:提供陣列基板，所述陣列基板包括:基板;多個薄膜晶體管，位于所述基板之上;觸控功能層，位于所述薄膜晶體管之上;第一金屬層，位于所述薄膜晶體管之上，與所述觸控功能層同層形成;在所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側形成密封層，并形成容置空間；在所述容置空間內填充液晶分子;提供彩膜基板，所述彩膜基板與所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側相對，所述液晶分子位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間；其中，所述第一金屬層對應于所述密封層的位置設置，并且所述第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。
[0010]與現有技術相比，本發明通過在對應密封層的位置設置具有凹凸結構的第一金屬層，來具有如下優勢:
[0011]I)增具有凹凸結構的第一金屬層使得密封層與陣列基板的接觸界面具有凹凸結構，增加密封層與陣列基板的接觸界面的粗糙度，進而增加界面結合力，緩解由于水汽造成的顯示不良，提升顯示面板可靠性；
[0012]2)通過第一金屬層的圖案的排列，保證密封層透光率，滿足密封層固化效果；
[0013]3)通過第一金屬層的圖案的均勻排列，使得密封層與陣列基板的接觸界面粗糙度均勻，進一步增加界面結合力，提升顯示面板可靠性。
【附圖說明】
[0014]通過參照附圖詳細描述其示例實施方式，本發明的上述和其它特征及優點將變得更加明顯。
[00?5]圖1示出了現有技術的液晶顯示面板的示意圖。
[0016]圖2示出了圖1所述的液晶顯示面板的AA’截面圖。
[0017]圖3示出根據本發明實施例的顯示面板的截面圖。
[0018]圖4示出根據本發明第一實施例的顯示面板的局部示意圖。
[0019]圖5示出根據本發明第二實施例的顯示面板的局部示意圖。
[0020]圖6示出根據本發明實施例的顯示面板的制作方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0021]現在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而，示例實施方式能夠以多種形式實施，且不應被理解為限于在此闡述的實施方式;相反，提供這些實施方式使得本發明將全面和完整，并將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。在圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構，因而將省略對它們的重復描述。
[0022]所描述的特征、結構或特性可以以任何合適的方式結合在一個或更多實施方式中。在下面的描述中，提供許多具體細節從而給出對本發明的實施方式的充分理解。然而，本領域技術人員應意識到，沒有特定細節中的一個或更多，或者采用其它的方法、組元、材料等，也可以實踐本發明的技術方案。在某些情況下，不詳細示出或描述公知結構、材料或者操作以避免模糊本發明。
[0023]本發明的附圖僅用于示意相對位置關系，附圖中元件的大小并不代表實際大小的比例關系。
[0024]為了解決現有技術中由于密封層與陣列基板的接觸界面平整導致的顯示不良的問題，本發明提供一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法，該顯示面板，包括:陣列基板，包括:基板;多個薄膜晶體管，位于所述基板之上;觸控功能層，位于所述薄膜晶體管之上;彩膜基板，與所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側相對;密封層，位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間，并使所述彩膜基板和所述陣列基板之間形成容置空間；液晶分子，位于所述容置空間內；其中，所述陣列基板還包括:第一金屬層，位于所述薄膜晶體管和所述密封層之間，對應于所述密封層的位置設置，所述第一金屬層與所述觸控功能層同層設置，所述第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。
[0025]下面結合圖3描述本發明提供的顯示面板。圖3示出根據本發明實施例的顯示面板200的截面圖。顯示面板200包括陣列基板230、彩膜基板240、密封層250及液晶分子。
[0026]陣列基板230包括基板231、薄膜晶體管及觸控功能層。基板231可以是玻璃基板。薄膜晶體管位于基板231之上。薄膜晶體管包括多個第一薄膜晶體管232A及多個第二薄膜晶體管232B。第一薄膜晶體管232A用于驅動所述液晶分子翻轉，對應于所述液晶分子的位置設置。可選地，設置所述第一薄膜晶體管232A的區域為顯示區。多個第二薄膜晶體管232B圍繞多個第一薄膜晶體管232A設置。第二薄膜晶體管232B可以用于傳輸信號，或者第二薄膜晶體管232B可以用于測試顯示區內的電路元件。在圖3所示的實施例中，第一薄膜晶體管232A為雙柵極頂柵型薄膜晶體管，第二薄膜晶體管232B為頂柵型薄膜晶體管。本領域技術人員可以根據實際應用，實現更多的變化方式，例如，第一薄膜晶體管232A和第二薄膜晶體管232B具有相同的結構；例如，多個第二薄膜晶體管232B具有不同的結構；例如，第一薄膜晶體管232A或所述第二薄膜晶體管232B為底柵型薄膜晶體管。這些變化方式都在本發明的保護范圍之內，在此不予贅述。
[0027]觸控功能層位于薄膜晶體管之上。觸控功能層包括位于薄膜晶體管之上觸控電極層233及觸控引線層234。觸控電極層233包括多個觸控電極。可選地，觸控電極層233復用為共用電極層。共用電極層233與位于薄膜晶體管之上的像素電極層235配合，并經由第一薄膜晶體管232A驅動使得液晶分子翻轉進而顯示圖像。像素電極層235和共用電極層233之間設有絕緣層238。觸控引線層234包括多個觸控引線，各觸控引線連接觸控電極，進而將觸控電極連接至觸控驅動電路。圖3僅僅示出觸控電極層233、觸控引線層234及像素電極層235的一種配置。本領域技術人員還可以實現更多的變化方式，例如，觸控引線層234與像素電極層235同層設置，像素電極層235位于觸控電極層233之上;例如，觸控引線層234為單獨的一層，觸控電極層233位于像素電極層235和觸控引線層234之間；例如，觸控電極層233不復用為共用電極層。這些觸控功能層設置的變化方式都在本發明的保護范圍之內，在此不予贅述。
[0028]進一步地，陣列基板230上還可以形成有柵極線和數據線。多條柵極線及多條數據線正交設置，多條柵極線及多條數據線圍成的區域限定像素區。
[0029]彩膜基板240與陣列基板230設置薄膜晶體管的一側相對。彩膜基板240上設置有黑矩陣。黑矩陣具有對應多個像素區的開口，各開口內設置有色阻材料，以使得顯示面板200顯示的圖像具有不同的顏色。
[0030]密封層250位于彩膜基板240和陣列基板230之間，并使彩膜基板240和陣列基板230之間形成容置空間。可選地，密封層250位于陣列基板230的邊緣位置。密封層250通過光照固化以對顯示面板200進行密封。可選地，密封層250為框膠。
[0031]液晶分子位于彩膜基板240和陣列基板230之間的容置空間內。液晶分子在共用電極層233和像素電極層235的電場作用下發生偏轉，進而控制穿過液晶分子的光的亮度。
[0032]具體而言，在本發明提供的實施例中，陣列基板230還包括位于薄膜晶體管和密封層250之間的第一金屬層237。第一金屬層237電浮空。換言之，第一金屬層237不與其他電路元件連接通電。第一金屬層237對應于密封層250的位置設置。換言之，密封層250覆蓋第一金屬層237。第一金屬層237與觸控功能層同層設置。第一金屬層237的厚度與觸控功能層相同，例如可以是1000微米至4000微米。在本實施例中，第一金屬層237與觸控引線層234同層設置。在一些變化例中，第一金屬層237也可以與觸控電極層233同層設置。第一金屬層237具有凹凸結構，使密封層250與陣列基板230的接觸界面260具有凹凸結構。這樣設置，可以增加密封層250與陣列基板230的接觸界面260的粗糙度，進而增加界面結合力，緩解由于水汽造成的顯示不良，提升顯示面板可靠性。
[0033]在一些實施例中，第一金屬層237直接接觸密封層250，則密封層250與陣列基板230的接觸界面260為第一金屬層237與密封層250的接觸界面。
[0034]在另一些實施例中，陣列基板230還包括位于觸控功能層和密封層250之間的絕緣層238。絕緣層238直接接觸密封層250，則密封層250與陣列基板230的接觸界面260為絕緣層238與密封層250的接觸界面。第一金屬層237由于和觸控功能層同層設置，因此，絕緣層238位于第一金屬層237之上。第一金屬層237的凹凸結構使得對應于密封層250處的絕緣層238具有相應的凹凸結構，進而使得絕緣層238與密封層250的接觸界面260具有凹凸結構。
[0035]在又一些實施例中，陣列基板230還包括位于觸控功能層和密封層250之間的液晶配向層236。液晶配向層236直接接觸密封層250，則密封層250與陣列基板230的接觸界面260為液晶配向層236與密封層250的接觸界面。第一金屬層237由于和觸控功能層同層設置，因此，液晶配向層236位于第一金屬層237之上。第一金屬層237的凹凸結構使得對應于密封層250處的液晶配向層236具有相應的凹凸結構，進而使得液晶配向層236與密封層250的接觸界面260具有凹凸結構。
[0036]本領域技術人員可以理解，對于對應于密封層250處的、位于觸控功能層和密封層250之間的其他各層，也具有與第一金屬層237的凹凸結構相應的凹凸結構，進而使得陣列基板230與密封層250的接觸界面260具有凹凸結構。本發明并不限定位于觸控功能層和密封層250之間的層，本領域技術人員可以根據實際需求進行設置，在此不予贅述。
[0037]下面結合圖4及圖5說明本發明提供的多個實施例。
[0038I 首先參見圖4，圖4示出根據本發明第一實施例的顯示面板300的局部示意圖。顯示面板300具有與圖3所示的顯示面板200類似的結構。在顯示面板300中，密封層設置在密封區域330。密封層至少覆蓋部分第二薄膜晶體管，密封層覆蓋第二薄膜晶體管的區域為第一區域310。密封層至少覆蓋部分第二區域320，第二區域320為第一薄膜晶體管和第二薄膜晶體管之間的區域(可參見圖3中C區域)。在本實施例中，密封層完全覆蓋第二區域320。換言之，在本實施例中，第一區域310和第二區域320共同組成設置密封層的區域330。進一步地，在本實施例中，密封層僅設置在顯示面板300的非顯示區，上述第一區域310和第二區域320都位于顯示面板300的非顯示區中。
[0039]在第一區域310內，第一金屬層的圖案340與第二薄膜晶體管的金屬層的圖案在顯示面板300上的投影重疊(具體可參見圖3，第一金屬層237與第二薄膜晶體管的金屬層Ml及金屬層M2的圖案在顯示面板200上的投影重疊)。
[0040]在第二區域320內，第一金屬層的圖案340在顯示面板300上的投影面積小于第二區域320在顯示面板300上的投影面積的75%。
[0041]本領域技術人員理解，由于第一金屬層可能為不透光的金屬材料。因此，通過上述方式設置，保證設置密封層的區域330的透光率，進而在密封層光照固化時，不會對密封層的固化產生影響。
[0042]進一步地，在圖4所示的實施例中，第一金屬層的圖案340為沿第一方向X和第二方向Y排列的塊狀金屬陣列。可選地，第一方向X垂直于第二方向Y。各塊狀金屬341可以具有相同的形狀。各塊狀金屬341可以具有相同的大小。通過上述設置，可以使密封層與陣列基板的接觸界面的粗糙度均勻，進一步增加界面結合力，提升顯示面板可靠性。
[0043]圖5示出根據本發明第二實施例的顯示面板400的局部示意圖。圖5所示的顯示面板400與圖4所示的顯示面板300結構類似，與圖4所示的顯示面板300不同的是，密封層并未覆蓋第一薄膜晶體管和第二薄膜晶體管之間的區域(也就是第二區域420)，密封層僅覆蓋部分第二薄膜晶體管。換言之，設置密封層的區域430與密封層覆蓋第二薄膜晶體管的第一區域430重疊。在第一區域430中，第一金屬層的圖案440與第二薄膜晶體管的金屬層的圖案在顯示面板400上的投影重疊。
[0044]上述圖4及圖5僅僅是示意性地示出本發明的顯示面板的塊狀金屬陣列。本領域技術人員還可以實現更多的變化例，例如，塊狀金屬陣列的排列方向，第一方向X和第二方向Y不垂直;再例如，各塊狀金屬具有不同的形狀;又例如，各塊狀金屬具有不同的大小。這些變化方式都在本發明的保護范圍內，在此不予贅述。
[0045]根據本發明的又一方面，還提供一種包括本發明提供的顯示面板的顯示裝置。可選地，顯示裝置還包括背光模組，以向顯示面板提供背光。可選地，顯示裝置集成有處理器，以對顯示在顯示裝置上的圖像進行控制和處理，在此不予贅述。
[0046]根據本發明的又一方面，還提供一種顯示面板的制作方法，具體參見圖6。圖6共示出4個步驟:
[0047]S510:提供陣列基板。
[0048]具體而言，陣列基板包括基板、位于基板之上多個薄膜晶體管、位于多個薄膜晶體管之上的觸控功能層及第一金屬層。
[0049]觸控功能層包括位于薄膜晶體管之上的觸控電極層及觸控引線層。觸控電極層包括多個觸控電極。觸控引線層包括多個觸控引線，各觸控引線連接觸控電極并將觸控電極連接至觸控驅動電路，以進行觸控感測。第一金屬層可選地，與觸控電極層或觸控引線層同層設置。其中，第一金屬層設置在陣列基板的邊緣，并具有凹凸結構。
[0050]S520:在陣列基板設置薄膜晶體管的一側形成密封層，并形成容置空間。
[0051]密封層覆蓋第一金屬層，第一金屬層的凹凸結構使密封層與陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。密封層與陣列基板的接觸界面可以是第一金屬層與陣列基板接觸界面，也可以是位于密封層與陣列基板之間的其它層與陣列基板的接觸界面。
[0052 ] S530:在容置空間內填充液晶分子。
[0053]S540:提供彩膜基板。
[0054]彩膜基板與陣列基板設置薄膜晶體管的一側相對。液晶分子位于彩膜基板和陣列基板之間。
[0055]與現有技術相比，本發明通過在對應密封層的位置設置具有凹凸結構的第一金屬層，來具有如下優勢:
[0056]I)增具有凹凸結構的第一金屬層使得密封層與陣列基板的接觸界面具有凹凸結構，增加密封層與陣列基板的接觸界面的粗糙度，進而增加界面結合力，緩解由于水汽造成的顯示不良，提升顯示面板可靠性；
[0057]2)通過第一金屬層的圖案的排列，保證密封層透光率，滿足密封層固化效果；
[0058]3)通過第一金屬層的圖案的均勻排列，使得密封層與陣列基板的接觸界面粗糙度均勻，進一步增加界面結合力，提升顯示面板可靠性。
[0059]以上具體地示出和描述了本發明的示例性實施方式。應該理解，本發明不限于所公開的實施方式，相反，本發明意圖涵蓋包含在所附權利要求范圍內的各種修改和等效置換。
【主權項】
1.一種顯示面板，其特征在于，包括: 陣列基板，包括: 基板； 多個薄膜晶體管，位于所述基板之上； 觸控功能層，位于所述薄膜晶體管之上； 彩膜基板，與所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側相對； 密封層，位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間，并使所述彩膜基板和所述陣列基板之間形成容置空間； 液晶分子，位于所述容置空間內； 其中，所述陣列基板還包括: 第一金屬層，位于所述薄膜晶體管和所述密封層之間，對應于所述密封層的位置設置，所述第一金屬層與所述觸控功能層同層設置，所述第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。2.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述觸控功能層包括: 觸控電極層，位于所述薄膜晶體管之上，包括多個觸控電極；以及 觸控引線層，位于所述薄膜晶體管之上，包括多個觸控引線，各觸控引線連接所述觸控電極； 所述第一金屬層與所述觸控電極層或所述觸控引線層同層設置。3.如權利要求1或2所述的顯示面板，其特征在于，所述多個薄膜晶體管包括: 多個第一薄膜晶體管，用于驅動所述液晶分子翻轉，對應于所述液晶分子的位置設置； 多個第二薄膜晶體管，圍繞所述多個第一薄膜晶體管設置。4.如權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述密封層至少覆蓋部分所述多個第二薄膜晶體管，所述密封層覆蓋所述第二薄膜晶體管的區域為第一區域。5.如權利要求4所述的顯示面板，其特征在于，在所述第一區域內，所述第一金屬層的圖案與所述第二薄膜晶體管的金屬層的圖案在所述顯示面板上的投影重疊。6.如權利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述第一薄膜晶體管和所述第二薄膜晶體管之間為第二區域，所述密封層至少覆蓋部分所述第二區域。7.如權利要求6所述的顯示面板，其特征在于，在所述第二區域內，所述第一金屬層的圖案在所述顯示面板上的投影面板小于所述第二區域在所述顯示面板上的投影面積的75%。8.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一金屬層的圖案為沿第一方向和第二方向排列的塊狀金屬陣列。9.如權利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述第一方向垂直于所述第二方向。10.如權利要求8所述的顯示面板，其特征在于，各所述塊狀金屬具有相同的形狀。11.如權利要求10所述的顯示面板，其特征在于，各所述塊狀金屬具有相同的大小。12.如權利要求8至11任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述第一金屬層的厚度為1000微米至4000微米。13.如權利要求8至11任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述第一金屬層電浮空。14.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板還包括: 絕緣層，位于所述觸控功能層和所述密封層之間，對應于所述密封層處的所述絕緣層具有凹凸結構，使得所述絕緣層與所述密封層的接觸界面具有凹凸結構。15.如權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板還包括: 液晶配向層，位于所述觸控功能層和所述密封層之間，對應于所述密封層處的所述液晶配向層具有凹凸結構，使得所述液晶配向層與所述密封層的接觸界面具有凹凸結構。16.一種顯示裝置，其特征在于，包括: 如權利要求1至15任一項所述的顯示面板。17.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括: 提供陣列基板，所述陣列基板包括: 基板； 多個薄膜晶體管，位于所述基板之上； 觸控功能層，位于所述薄膜晶體管之上； 第一金屬層，位于所述薄膜晶體管之上，與所述觸控功能層同層形成； 在所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側形成密封層，并形成容置空間； 在所述容置空間內填充液晶分子； 提供彩膜基板，所述彩膜基板與所述陣列基板設置所述薄膜晶體管的一側相對，所述液晶分子位于所述彩膜基板和所述陣列基板之間； 其中，所述第一金屬層對應于所述密封層的位置設置，并且所述第一金屬層具有凹凸結構，使所述密封層與所述陣列基板的接觸界面具有凹凸結構。18.如權利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述觸控功能層包括: 觸控電極層，位于所述薄膜晶體管之上，包括多個觸控電極；以及 觸控引線層，位于所述薄膜晶體管之上，包括多個觸控引線，各觸控引線連接所述觸控電極； 所述第一金屬層與所述觸控電極層或所述觸控引線層同層設置。
【文檔編號】G06F3/041GK105867697SQ201610429130
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年6月16日
【發明人】吳昊
【申請人】廈門天馬微電子有限公司, 天馬微電子股份有限公司