一種復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板的制作方法

一種復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板的制作方法
【專利摘要】本實用新型為一種復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板。復合基板結構包括一透明基板；一疏水性層，設置在該透明基板上；一類鉆碳層，設置于該透明基板與該疏水性層之間；其中，該疏水性層與無塵布之間的動摩擦因數小于等于0.1。本實用新型另提供一種具有復合基板結構的觸控面板。藉此，來達到強化透明基材表面抗刮抗磨之性能。進一步的使得具有該復合基板結構的觸控面板兼具抗磨抗刮性，透光性以及視覺美感性。
【專利說明】一種復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板
【技術領域】
[0001]本實用新型系關于一種強化基板技術，特別是一種應用于觸控面板的復合基板結構。
【背景技術】
[0002]隨著科技的發展，觸控面板(Touch Panel)已廣泛應用于各種消費電子裝置，例如:智能型手機、平板計算機、相機、電子書、MP3播放器等攜帶式電子產品，或是應用于操作控制設備的顯示屏幕。
[0003]然而，由于使用者在使用上述電子裝置過程中需要以手指或者觸控筆在觸控面板的基板表面按壓或者滑動來達到人機互動。因此，在使用者長時間的使用后，往往會造成觸控面板的基板表面在外力作用下出現刮痕或者孔洞，進而嚴重影響觸控面板基板表面的平整性，透光性以及視覺美感性。
實用新型內容
[0004]本實用新型之主要目的系在提供一種復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板，其藉由在透明基材表面復合類鉆碳層和疏水性層來達到強化透明基材表面抗刮抗磨之效果。
[0005]為達成上述之目的，本實用新型提供了一種復合基板結構，其特征在于，包括:一透明基板；一疏水性層，設置在該透明基板上；一類鉆碳層，設置于該透明基板與該疏水性層之間；其中，該疏水性層與無塵布之間的動摩擦因數小于等于0.1。
[0006]本實用新型另提供了一種具有復合基板結構的觸控面板，其特征在于，包括:一透明基板，包括第一表面及與第一表面平行的第二表面；一類鉆碳層，設置于該透明基板上，且至少位于該第一表面上一疏水性層，設置在該類鉆碳層相對該透明基板的另一側面上；一觸控組件，設置于該透明基板的第二表面的下方。其中，該疏水性層與無塵布之間的動摩擦因數小于等于0.1。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1系本實用新型之復合基板結構之第一實施方式之剖視圖。
[0008]圖2系本實用新型之復合基板結構之第二實施方式之剖視圖。
[0009]圖3系本實用新型之復合基板結構之第三實施方式之剖視圖。
[0010]圖4系本實用新型之復合基板結構之第四實施方式之剖視圖。
[0011]圖5系本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第一實施方式之剖視圖。
[0012]圖6系本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第二實施方式之剖視圖。
[0013]圖7系本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第三實施方式之剖視圖。
[0014]圖8系本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第四實施方式之剖視圖。【具體實施方式】
[0015]為讓本實用新型之特征能更明顯易懂，下文特舉實施方式，并配合所附圖式，作詳細說明如下:
[0016]本說明書中所稱的方位“上”及“下”，僅是用來表示相對的位置關系，對于本說明書的圖式而言，復合基板結構或者觸控面板的上方較接近使用者，而下方則較遠離使用者。
[0017]請先參考圖1本實用新型之復合基板結構之第一實施方式之剖視圖。于本實用新型之第一實施方式中復合基板結構10包括透明基板100，透明基板100具有一第一表面101及與第一表面101平行相對的第二表面102。透明基板100的材料可為乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、玻璃等。透明基板100可為硬質基板或可撓式基板。透明基板100可為平面形狀、曲面形狀或其他不規則形狀，于本實施方式中，僅以透明基板100為平面形狀為例。
[0018]類鉆碳層200形成在透明基板100的第一表面101上。但類鉆碳層200與透明基板100的位置關系并不限于此，在其它實施方式中，類鉆碳層200也可以僅設置在透明基板100的其中一個或者多個表面上。
[0019]第一實施方式中類鉆碳層200需要經過設計以滿足本實用新型目的，主要考量點有以下兩方面:
[0020]一方面，類鉆碳層200包含Sp2鍵之石墨結構及Sp3鍵之鉆石立方結構。其中，Sp3鍵之鉆石立方結構的硬度較高，耐刮、耐磨性較佳。然而，其相對亦具有較高的內應力，與透明基板100的結合力不好，以致含SP3鍵較高的類鉆碳層200在透明基板100上的附著效果不好。因此，通常于透明基板100上制作類鉆碳層200，需要另于制程進行適當調整以提升該類鉆碳層200在透明基板100上的附著力。例如，可選擇將類鉆碳層200制作至較薄之厚度，以達到低內應力之效果。
[0021]另一方面，就類鉆碳層200的透光性而言，Sp2鍵之石墨結構比SP3鍵之鉆石立方結構對類鉆碳層200的透光性的影響更大，具體為，Sp2鍵之石墨結構的含量越多，相應的類鉆碳層200的透光性就越差，而Sp2鍵之石墨結構的含量越少，相應的類鉆碳層200的透光性就越好。
[0022]因此，綜合考量類鉆碳層200的附著性與透光性，于本實用新型之第一實施方式中類鉆碳層200的厚度小于等于15nm，類鉆碳層200的sp3鍵含量大于sp2鍵含量，且sp3鍵含量大于50%。
[0023]特別的，本實用新型之類鉆碳層200主要通過真空濺鍍的方式形成在透明基板100表面。類鉆碳層200的sp3鍵含量是通過控制真空濺鍍時氫氣流量及解離能量來控制的。具體為，當氫氣流量大于12sccm及解離能量為介于100?700ev之間,類鉆碳層200中的sp3鍵含量會大于sp2鍵含量，且sp3鍵含量大于50%。
[0024]值得注意的，除考量復合基板結構10的透光性以及附著性以外，本實施方式中就復合基板結構10的視覺效果還有更進一步的考量:
[0025]值得注意的，除考量復合基板結構10的透光性以及附著性以外，本實施方式中就復合基板結構10的視覺效果還有更進一步的考量:
[0026]類鉆碳層200的厚度的選用不當，容易影響復合基板結構10的視覺效果。實驗證明:當復合基板結構10中類鉆碳層200的厚度越大，復合基板結構10外觀變黃現象就越明顯，業內稱為黃化現象。當類鉆碳層200的厚度大于10nm，這種黃化現象已經能為人眼察覺。而當類鉆碳層200的厚度大于15nm，這種黃化現象清晰可見，嚴重影響復合基板結構10的視覺效果。
[0027]因此，綜合考量復合基板結構10的透光性，附著性，及黃化現象，于本實用新型之第一實施方式中類鉆碳層200的優先厚度小于等于IOnm,更優選為介于2nm到5nm之間時，復合基板結構10在視覺效果以及附著效果之間能夠取到一個較好的平衡點。
[0028]疏水性層300設置在類鉆碳層200相對該透明基板100的另一側面上。疏水性層300相對于該類鉆碳層200的另一側面具有一接觸角，該接觸角大于110度，因此疏水性層300的該側面整體上呈現出較強的疏水性質(實驗證明，當固體表面接觸角大于90度時，固體表面是疏水性的，即液體不容易潤濕固體，容易在其表面上移動)。其中該疏水性層300的材料主要選自氟、氮、氧及其混合物其中之一，用以改善復合基板結構10的疏水性。
[0029]以下，將具有疏水性層300的復合基板結構10和不具有的疏水性層300復合基板結構分別進行第一組耐刮、耐磨性實驗測試:
[0030]實驗條件:
[0031]采用超精細度的鋼絲絨包覆在2cm*2cm的摩擦頭上，在70N的作用力下對復合基板結構進行測試。
[0032]實驗結果:
[0033]鍍上疏水性層300的復合基板結構30比未鍍上疏水性層300的復合基板結構20具有更好的耐刮、耐磨性。
[0034]實驗證明:
[0035]鍍上疏水性層300的復合基板結構10的表面摩擦因數比未鍍上疏水性層300的復合基板結構的表面摩擦因數小，且復合基板結構表面摩擦因數對其耐刮、耐磨性有影響，具體為，復合基板結構表面摩擦因數越大，其耐刮、耐磨性就越差；復合基板結構表面摩擦因數越小，其耐刮、耐磨性就越好。
[0036]綜上，疏水性層300 —方面增加了復合基板結構10的疏水性，從而起到防止結構表面受到油污或者水汽的附著；另一方面疏水性層300也降低了復合基板結構10的表面摩擦因數，使復合基板結構10在發生外力刮擦作用的時候，更有效的減少外力對其的刮傷與磨損。
[0037]特別的，當疏水性層300中疏水性原子的含量百分比越大時，疏水性層300的疏水性就越好，表面摩擦因數就越小。因此，于本實用新型之第一實施方式中疏水性層300中疏水性原子(例如，氟)含量百分比大于50%。
[0038]又，在實際生產過程中發現，疏水性層300中碳氟鍵與硅氧鍵比例會影響到疏水性層的表面摩擦因數。
[0039]以下，將具有不同比例的碳氟鍵與硅氧鍵的疏水性層300的復合基板結構10進行第二組耐刮、耐磨性實驗測試:
[0040]實驗條件:
[0041]在復合基板結構10上放置百級無塵布(百級無塵室用的無塵布)，采用200g的砝碼放置在無塵布上，在速度為100mm/min下對復合基板結構10進行測試。
[0042]實驗結果:[0043]疏水性層300中碳氟鍵與硅氧鍵比例大于等于50:1時，疏水性層300的靜摩擦因數小于等于0.1，疏水性層300與無塵布之間動摩擦因數小于等于0.1。此時疏水性層300表面呈現出良好的順滑性，復合基板結構10的耐刮、耐磨性有顯著提高。
[0044]實驗證明:
[0045]疏水性層300在復合基板結構中可以起到順滑作用，在外力作用在復合基板結構表面時，由于疏水性層300的的存在，可以大幅度提升觸控面板抗刮，抗磨能力。
[0046]于本實用新型之第一實施方式中，疏水性層300進一步采用烘烤等方式使其成為結晶型。通過烘烤等方式得到的結晶型疏水性層300中，由于多數分子鏈已經排列成有序而致密結構，從而大大提高了疏水性層300的致密性，疏水性層300致密性越好，其維持低摩擦因數的能力就越好。當疏水性層300結晶率大于50%時，復合基板結構10的耐刮、耐磨性有顯著提高。
[0047]更進一步的，當復合基板結構10中疏水性層300的厚度越大，其體現出的透光性就越差。綜合考量復合基板結構10的透光性及疏水性，疏水性層300的厚度介于5nm到30nm之間時，復合基板結構10在疏水效果以及光學效果之間能夠取到一點較好的平衡點。
[0048]請先參考圖2本實用新型之復合基板結構之第二實施方式之剖視圖。第二實施方式與第一實施方式在結構上大致相同，以下僅就兩者之差異加以說明。于第二實施方式中，復合基板結構20更包括一設置于透明基板100與類鉆碳層200之間的附著層400，其中，附著層400包括硅系材料。本實施方式中，附著層400主要起到增加類鉆碳層200在透明基板100上的附著力的作用，其增加附著效果是由于附著層400中的硅原子即可以滲透到透明基板100 (例如，玻璃)的二氧化硅網狀結構中，也可以滲透到類鉆碳層200的碳-氫網狀結構中，從而有利于透明基板100與類鉆碳層200之間的鍵結交換，以增加兩者之間的附著力。在一優選實施方式中，附著層400可為二氧化娃層。值得注意的是,在其他實施方式中，附著層400的材料并不限于二氧化硅。
[0049]于第二實施方式中，藉由附著層400的設置，一方面可避免類鉆碳層200與透明基板100之間因組成材料不同所產生的內應力作用，而發生互相脫離的現象，讓類鉆碳層200穩固的結合在透明基板100上；另一方面可以利用附著層400 (例如，二氧化硅)的顆粒較為精細，設置在透明基板100的表面上，可以為后續類鉆碳層200的設置提供一個較為平坦的加工表面。
[0050]更進一步的，當復合基板結構20中附著層400的厚度越大，其體現出的透光性就越差。綜合考量復合基板結構20的透光性及附著性，附著層400的厚度介于介于5nm到IOnm之間時，復合基板結構20在附著效果以及光學效果之間能夠取到一點較好的平衡點。
[0051]請先參考圖3本實用新型之復合基板結構之第三實施方式之剖視圖。第三實施方式與第一實施方式在結構上大致相同，以下僅就兩者之差異加以說明。于第三實施方式中，復合基板結構30更包括一設置于該類鉆碳層200與該疏水性層300之間的中間層500。其中中間層500為硅碳系材料，其硅原子含量百分比介于10%到20%之間，碳原子含量百分比介于80%到90%之間。
[0052]于第三實施方式中，藉由中間層500的設置，通過中間層500與疏水性層300的結合界面和類鉆碳層200的結合界面都具有相似的原子結構，可以讓疏水性層300穩固的結合在類鉆碳層200上，并且可避免類鉆碳層200與疏水性層300之間因組成材料不同所產生的內應力作用，而發生互相脫離的現象；
[0053]更進一步的，當復合基板結構30的中間層500的厚度越大，其體現出的透光性就越差。綜合考量復合基板結構30的透光性及附著性，中間層500的厚度介于介于IOnm到13nm之間時，復合基板結構30在附著效果以及光學效果之間能夠取到一點較好的平衡點。
[0054]請先參考圖4本實用新型之復合基板結構之第四實施方式之剖視圖。第四實施方式與第三實施方式在結構上大致相同，兩者之差異僅在于第四實施方式中的復合基板結構40更包括一設置于透明基板100與類鉆碳層200之間的附著層400。
[0055]請先參考圖5本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第一實施方式之剖視圖。于該實施方式中，觸控面板I包括透明基板100,透明基板100包括第一表面101及與第一表面101平行相對的第二表面102。透明基板100的材料可為乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、玻璃或其類似物。透明基板100可為硬質基板或可撓式基板。透明基板100可為平面形狀、曲面形狀或其他不規則形狀。
[0056]于本實施方式中，僅以類鉆碳層200設置于透明基板100的第一表面101上為例。而透明基板100的的第一表面101上設置類鉆碳層200的原因在于:觸控面板I需要組裝成觸控電子裝置(例如，組裝成智能型手機或平板計算機)，此時，透明基板100除了作為觸控操作面的的第一表面101上需要裸露在觸控電子裝置外，其他表面都會被觸控電子裝置的組件所包覆。而透明基板100的第一表面101上在使用過程中，容易在外力作用下出現刮痕或者孔洞，因此有被保護的必要。但本實用新型并不限于此，在其他實施方式中，類鉆碳層200可以設置在透明基板100的其他表面上。觸控組件11設置于透明基板100上，且位于透明基板100的第二表面102下方。
[0057]特別的，該實施方式中類鉆碳層200需要經過設計以滿足其在觸控面板上應用的，主要考量點有以下兩方面:
[0058]一方面，類鉆碳層200通常以sp2鍵之石墨結構及sp3鍵之鉆石立方結構為主要結構。其中，SP3鍵之鉆石立方結構的硬度較高，耐刮、耐磨性較佳。然而，其相對亦具有較高的內應力，與透明基板100的附著力也不好。因此，通常于透明基板100上制作類鉆碳層200，需要另于制程進行適當調整以提升該類鉆碳層200在透明基板100上的附著力。例如，可選擇將類鉆碳層200制作至較薄之厚度，以達到低內應力之效果。
[0059]另一方面，類鉆碳層200的透光性與類鉆碳層200的sp2鍵之石墨結構的含量成反t匕，具體為，sp2鍵之石墨結構的含量越多，相應的類鉆碳層200的透光性就越差，而sp2鍵之石墨結構的含量越少，相應的類鉆碳層200的透光性就越好。
[0060]因此，綜合考量類鉆碳層200的附著性與透光性，于本實用新型之第一實施方式中類鉆碳層200的厚度小于等于15nm，類鉆碳層200的sp3鍵含量大于50%。
[0061]本實用新型之類鉆碳層200主要通過真空濺鍍的方式形成在透明基板100表面。類鉆碳層200的sp3鍵含量是通過控制真空濺鍍時氫氣流量及解離能量來控制的。具體為，當氫氣流量大于12sccm為解離能量為介于100?700ev之間，類鉆碳層200中的sp3鍵含量會大于Sp2鍵含量。
[0062]另外，經實驗證明，當觸控面板I中類鉆碳層200的厚度越大，觸控面板I外觀變黃現象就越明顯。當類鉆碳層200的厚度大于IOnm后，這種黃化現象已經能夠被人眼所識另Ij，從而嚴重影響觸控面板I的視覺效果。
[0063]因此，綜合考量觸控面板I的透光性，附著性，及黃化現象，類鉆碳層200的厚度小于等于IOnm時，更佳為介于2nm到5nm之間時，觸控面板I在視覺效果以及附著效果之間能夠取到一個較好的平衡點。
[0064]疏水性層300設置在類鉆碳層200相對該透明基板100的另一側面上。疏水性層300相對于該類鉆碳層200的另一側面具有一接觸角，該接觸角大于110度。其中該疏水性層300主要選自氟、氮、氧及其混合物其中之一，用以改善觸控面板I的疏水性。
[0065]以下，將具有疏水性層300的觸控面板I和不具有的疏水性層300觸控面板分別進行第一組耐刮、耐磨性實驗測試:
[0066]實驗條件:
[0067]采用超精細度的鋼絲絨包覆在2cm*2cm的摩擦頭上，在70N的作用力下對觸控面板進行測試。
[0068]實驗結果:
[0069]未鍍上疏水性層300的觸控面板在鋼絲絨摩擦6000次后，觸控面板受到明顯的刮傷與磨損。
[0070]鍍上疏水性層300的觸控面板在鋼絲絨摩擦8000次后，透明基板100受到明顯的刮傷與磨損，且疏水性層300接觸角仍能保持在90度以上，維持較好的疏水性。
[0071]實驗證明:
[0072]鍍上疏水性層300的觸控面板的表面摩擦因數比未鍍上疏水性層300的觸控面板的表面摩擦因數小，且觸控面板表面摩擦因數對其耐刮、耐磨性有影響，具體為，觸控面板表面摩擦因數越大，其耐刮、耐磨性就越差；觸控面板表面摩擦因數越小，其耐刮、耐磨性就越好。
[0073]綜上,疏水性層300 —方面增加了觸控面板的疏水性,從而起到防止觸控面板表面受到油污或者水汽的附著；另一方面疏水性層300也降低了觸控面板表面摩擦因數，使觸控面板在發生外力刮擦作用的時候，更有效的減少外力對其的刮傷與磨損。
[0074]特別的，當疏水性層300中疏水性原子的含量百分比越大時，疏水性層300的疏水性就越好，表面摩擦因數就越小。因此，于本實用新型之第一實施方式中疏水性層300中疏水性原子(例如，氟)含量百分比大于50%。
[0075]又，在實際生產過程中發現，疏水性層300中碳氟鍵與硅氧鍵比例會影響到疏水性層300的表面摩擦因數。
[0076]以下，將具有不同比例的碳氟鍵與硅氧鍵的疏水性層300的觸控面板進行第二組耐刮、耐磨性實驗測試:
[0077]實驗條件:
[0078]在觸控面板上放置百級無塵布(百級無塵室用的無塵布)，采用200g的砝碼放置在無塵布上，在速度為100mm/min下對觸控面板進行測試。
[0079]實驗結果:
[0080]疏水性層300中碳氟鍵與硅氧鍵比例大于等于50:1時，疏水性層300的靜摩擦因數小于等于0.1，疏水性層300與無塵布之間動摩擦因數小于等于0.1。此時疏水性層300表面呈現出良好的順滑性，觸控面板的耐刮、耐磨性有顯著提高。[0081]實驗證明:
[0082]疏水性層300在觸控面板中可以起到順滑作用，在外力作用在觸控面板表面時，由于疏水性層300的的存在，可以大幅度提升觸控面板抗刮，抗磨能力。
[0083]于本實用新型之第一實施方式中，疏水性層300進一步采用烘烤等方式使其成為結晶型。通過烘烤等方式得到的結晶型疏水性層300中，由于多數分子鏈已經排列成有序而致密結構，從而大大提高了疏水性層300的致密性，疏水性層300致密性越好，其維持低摩擦因數的能力就越好。當疏水性層300結晶率大于50%時，觸控面板的耐刮、耐磨性有顯著提高。
[0084]更進一步的，當觸控面板中疏水性層300的厚度越大，其體現出的透光性就越差。綜合考量觸控面板的透光性及疏水性，疏水性層300的厚度介于5nm到30nm之間時，觸控面板在疏水效果以及光學效果之間能夠取到一點較好的平衡點。
[0085]在其他優選實施方式中，本實用新型之復合基板結構之第二實施方式到第四實施方式的中所例舉的復合基板結構20、復合基板結構30、復合基板結構40都可以運用在觸控面板I上，從而在增加觸控面板I操作表面的耐磨、耐刮性的同時，使得觸控面板I具有最佳的光學效果。又，基于復合基板結構的各種實施方式都已例舉在前，在此不做贅述。
[0086]請先參考圖6本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第二實施方式之剖視圖。觸控面板2中觸控組件11包括一設置于該透明基板100的第二表面102的感應電極層600。感應電極層600供使用者進行觸控操作。形成感測電極層600所采用的透明導電材料包括氧化銦錫(indium tin oxide, ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide, IZO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide, CTO)、氧化招鋒(aluminum zinc oxide, ΑΖ0)、氧化銦錫鋒(indiumtin zinc oxide, ΙΤΖ0)、氧化鋒(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide, CdO)、氧化給(hafnium oxide, HfO)、氧化銦嫁鋒(indium gallium zinc oxide, InGaZnO)、氧化銦嫁鋒續(indium gallium zinc magnesium oxide, InGaZnMgO)、氧化銦嫁續(indium galliummagnesium oxide, InGaMgO)或氧化銦嫁招(indium gallium aluminum oxide, InGaAlO),納米銀線、納米碳管、石墨烯等。
[0087]感應電極層600分別由第一方向電極群組(圖中未示)和第二方向電極群組(圖中未不)組成。其中，于本實施方式中感應電極層600的第一方向電極群組和第二方向電極群組同時位于透明基板100的第二表面102上。由于感測電極層600之作用方式并非本實用新型所要改進之重點所在，故在此不再贅述其原理。
[0088]請先參考圖7本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第三實施方式之剖視圖。于該實施方式中，觸控面板3中觸控組件11包括一第一承載板700,第一承載板700位于透明基板100下方。一感應電極層600設置于第一承載板700上。感應電極層600分別由第一方向電極群組(圖中未不)和第二方向電極群組(圖中未不)組成。其中，于本實施方式中感應電極層600的第一方向電極群組和第二方向電極群組可以同時位于第一承載板700的同一個表面上。也可以是感應電極層600的第一方向電極群組(或第二方向電極群組)位于第一承載板700的下表面,而感應電極層600的第二方向電極群組(或第一方向電極群組)位于與第一承載板700下表面平行的上表面。也可以是感應電極層600的第一方向電極群組(或第二方向電極群組)位于透明基板100第二表面102，而感應電極層600的第二方向電極群組(或第一方向電極群組)位于與透明基板100第二表面102平行的表面上。
[0089]請先參考圖8本實用新型之具有復合基板結構的觸控面板之第四實施方式之剖視圖。于該實施方式中，觸控面板4中觸控組件11包括一第二承載板800及第三承載板900，其中第二承載板800位于透明基板100下方，第三承載板900位于第二承載板800下方。于本實施方式中，感應電極層600的第一方向電極群組(或第二方向電極群組)位于第二承載板800的下表面(或上表面),而感應電極層600的第二方向電極群組(或第一方向電極群組)位于與第二承載板800下表面(或上表面)平行的表面。
[0090]值得注意的是，第一承載板700，第二承載板800，第三承載板900皆為透明板，其
材料可為乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、玻璃等。另外，第一承載板700，第二承載板800，第三承載板900可為硬質基板或可撓式基板。
[0091]本實用新型提供復合基板結構及具有復合基板結構的觸控面板，藉由以上的各實施方式，來達到強化透明基材表面抗刮抗磨之性能。進一步使得具有該復合基板結構的觸控面板兼具抗磨抗刮性，透光性以及視覺美感性。
[0092]雖然本實用新型之實施方式揭露方式如上，然其并非用以限制本實用新型。本實用新型所屬領域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型之精神和范圍內，當可作各種的變動與潤飾。
【權利要求】
1.一種復合基板結構，其特征在于，包括: 一透明基板； 一疏水性層，設置在該透明基板上； 一類鉆碳層，設置于該透明基板與該疏水性層之間； 其中，該疏水性層靜摩擦因數小于等于0.1。
2.根據權利要求1述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層中疏水性原子含量百分比大于50%。
3.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層為結晶型，其中結晶比例大于50%。
4.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層相對于該類鉆碳層的另一側具有一接觸角，其中，該接觸角大于110度。
5.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層的厚度介于5nm到30nm之間。
6.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層中碳氟鍵與硅氧鍵比例大于等于50:1。
7.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該疏水性層與無塵布之間的動摩擦因數小于等于0.1。
8.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該類鉆碳層的厚度小于等于IOnm0
9.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該類鉆碳層的厚度介于2nm到5nm之間。
10.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該類鉆碳層的SP3鍵含量大于SP2鍵含量，且SP3鍵含量大于50%。
11.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:更包括一附著層，該附著層設置于該透明基板與該類鉆碳層之間，其中該附著層包括硅系材料。
12.根據權利要求11所述之復合基板結構，其特征在于:該附著層為二氧化硅層。
13.根據權利要求11所述之復合基板結構，其特征在于:該附著層的厚度介于5nm到IOnm之間。
14.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:更包括一中間層，該中間層設置于該類鉆碳層與該疏水性層之間。
15.根據權利要求14所述之復合基板結構，其特征在于:該中間層為硅碳系材料，其中硅原子含量百分比介于10%到20%之間，碳原子含量百分比介于80%到90%之間
16.根據權利要求1所述之復合基板結構，其特征在于:該透明基板的材質包括乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或玻璃。
17.一種具有復合基板結構的觸控面板，其特征在于，包括: 一透明基板，包括第一表面及與第一表面平行的第二表面； 一類鉆碳層，設置于該透明基板上，且至少位于該第一表面上 一疏水性層，設置在該類鉆碳層相對該透明基板的另一側面上；一觸控組件，設置于該透明基板的第二表面的下方。 其中，該疏水性層與無塵布之間的動摩擦因數小于等于0.1。
18.根據權利要求17所述之觸控面板，其特征在于:該觸控組件包括一感應電極層，該感應電極層設置于該透明基板的第二表面。
19.根據權利要求17所述之觸控面板，其特征在于:該觸控組件包括一第一承載板，該第一承載板位于該透明基板的第二表面下方。
20.根據權利要求19所述之觸控面板，其特征在于:該觸控組件包括一感應電極層，該感應電極層設置于該第一承載板上。
21.根據權利要求17所述之觸控面板，其特征在于:該透明基板的材質包括乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或玻璃。
22.根據權利要求19所述之觸控面板，其特征在于:該第一承載板的材質包括乙烯對苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或玻璃。
23.根據權利要求17所述之觸控面板，其特征在于:該觸控組件包括一第二承載板，該第二承載板位于該透明基板的第二表面下方，一第三承載板，該第三承載板位于該第二承載板下方。
【文檔編號】G06F3/041GK203786698SQ201420090482
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年2月28日 優先權日:2014年2月28日
【發明者】許毅中, 徐國書, 黃邦熊, 賈瑞禹 申請人:宸鴻科技(廈門)有限公司