一種改進的ogs超薄觸摸屏制作方法
【專利摘要】本發明公開一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法，其包括如下步驟：A、對已經鍍好氧化銦錫薄膜與蓋板顏色的蓋板玻璃進行切割、精雕、鋼化，得到所需要的蓋板玻璃白片。B、在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行蝕刻，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形。C、在非可視區絲印導電銀漿，與氧化銦錫導電膜線路搭接，得到OGS超薄觸摸屏。本發明降低了制作OGS觸摸屏前期設備的投入，提高了生產效率，并降低了觸摸屏的成本，同時還保留了OGS觸摸屏輕薄的特點。
【專利說明】一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及OGS觸摸屏制作【技術領域】，尤其涉及一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法。
【背景技術】
[0002]由于現在主流的手機都在走輕薄化路線，所以觸摸屏產品也在向輕薄化方向發展，以適應市場的需求，這樣就產生了 OGS觸摸屏。傳統的OGS觸摸屏都是采用磁控濺射的方式在蓋板玻璃上鍍上氧化銦錫薄膜，再鍍上一層鑰鋁鑰金屬走線層，而且蓋板玻璃的顏色也要采用磁控濺射的方式濺鍍上去，然后再進行黃光蝕刻出所需要的圖形。但是，黃光蝕刻是需要用大片玻璃進行曝光、顯影、蝕刻，切割成小片后的玻璃還要進行二次強化，再加上前期是使用磁控濺射濺鍍鑰鋁鑰金屬走線層，這樣就導致設備投入高、開模的費用高，成本居高不下，在市場上很難進行大面積推廣。其中，OGS (One Glass Solution)即一體化觸控，一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于通過一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法，來解決以上【背景技術】部分提到的問題。
[0004]為達此目的，本發明采用以下技術方案:
[0005]一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法，其包括如下步驟:
[0006]A、對已經鍍好氧化銦錫薄膜與蓋板顏色的蓋板玻璃進行切割、精雕、鋼化，得到所需要的蓋板玻璃白片；
[0007]B、在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行蝕刻，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形；
[0008]C、在非可視區絲印導電銀漿，與氧化銦錫導電膜線路搭接，得到OGS超薄觸摸屏。
[0009]特別地，所述步驟B具體包括:在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行濕法蝕亥IJ，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形。
[0010]本發明提供的改進的OGS超薄觸摸屏制作方法用絲網印刷導電銀漿線路的方式替代了磁控濺射濺鍍鑰鋁鑰金屬線路，降低了設備的投入，提高了生產效率，并降低了觸摸屏的成本，同時還保留了 OGS觸摸屏輕薄的特點。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1為本發明實施例提供的改進的OGS超薄觸摸屏制作方法流程圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖和實施例對本發明作進一步說明。可以理解的是，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本發明，而非對本發明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發明相關的部分而非全部內容。
[0013]請參照圖1所示，圖1為本發明實施例提供的改進的OGS超薄觸摸屏制作方法流程圖。
[0014]本實施例中改進的OGS超薄觸摸屏制作方法具體包括如下步驟:
[0015]步驟S101、對已經鍍好氧化銦錫薄膜與蓋板顏色的蓋板玻璃進行切割、精雕、鋼化，得到所需要的蓋板玻璃白片。
[0016]步驟S102、在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行蝕刻，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形。于本實施例，所述蝕刻方法采用濕法蝕刻工藝。
[0017]步驟S103、在非可視區絲印導電銀漿，與氧化銦錫導電膜線路搭接，得到OGS超薄觸摸屏。
[0018]與傳統OGS觸摸屏制作方法相比，本發明用絲網印刷導電銀漿線路的方式替代了磁控濺射濺鍍鑰鋁鑰金屬線路，降低了設備的投入，提高了生產效率，并降低了觸摸屏的成本，同時還保留了 OGS觸摸屏輕薄的特點。
[0019]注意，上述僅為本發明的較佳實施例及所運用技術原理。本領域技術人員會理解，本發明不限于這里所述的特定實施例，對本領域技術人員來說能夠進行各種明顯的變化、重新調整和替代而不會脫離本發明的保護范圍。因此，雖然通過以上實施例對本發明進行了較為詳細的說明，但是本發明不僅僅限于以上實施例，在不脫離本發明構思的情況下，還可以包括更多其他等效實施例，而本發明的范圍由所附的權利要求范圍決定。
【權利要求】
1.一種改進的OGS超薄觸摸屏制作方法，其特征在于，包括如下步驟: A、對已經鍍好氧化銦錫薄膜與蓋板顏色的蓋板玻璃進行切割、精雕、鋼化，得到所需要的蓋板玻璃白片； B、在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行蝕刻，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形； C、在非可視區絲印導電銀漿，與氧化銦錫導電膜線路搭接，得到OGS超薄觸摸屏。
2.根據權利要求1所述的改進的OGS超薄觸摸屏制作方法，其特征在于，所述步驟B具體包括:在蓋板玻璃白片上絲印耐酸圖形，然后進行濕法蝕刻，得到氧化銦錫薄膜圖形與可視區的圖形。
【文檔編號】G06F3/041GK103472954SQ201310444468
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年9月26日 優先權日:2013年9月26日
【發明者】吳國峰 申請人:無錫宇寧光電科技有限公司